JP2008112146A - 感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント - Google Patents
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[式(1)中、R1はジグリシジルエーテル型エポキシ化合物残基である二価の有機基を示し、R2は二塩基酸残基である二価の有機基を示し、R3及びR4は各々独立に水素原子又は下記一般式(2);
(式(2)中、R5は酸無水物残基を示す。)で表される基を示す。]
[式(1)中、R1はジグリシジルエーテル型エポキシ化合物残基である二価の有機基を示し、R2は二塩基酸残基である二価の有機基を示し、R3及びR4は各々独立に水素原子又は下記一般式(2);
(式(2)中、R5は酸無水物残基を示す。)で表される基を示す。]
ポンプ:日立 L−6000型[(株)日立製作所製]
検出器:日立 L−4000型UV[(株)日立製作所製]
カラム:Gelpack GL−S300MDT−5(計2本)[日立化成工業(株)製、商品名]
カラムサイズ:8mmφ×300mm
溶離液:DMF/THF=1/1 + リン酸0.06M + 臭化リチウム0.06M
試料濃度:5mg/1mL
注入量:5μL
圧力:343Pa(35kgf/cm2)
流量:1.0mL/分
A=(10×Vf×56.1)/(Wp×I) (I)
を用いて酸価を算出する。なお、式中、Aは酸価(mgKOH/g)を示し、Vfはフェノールフタレインの滴定量(mL)を示し、Wpは(A)ベースポリマー溶液質量(g)を示し、Iは(A)成分であるベースポリマー溶液中の不揮発分の割合(質量%)を示す。
第二工程においては、第一工程で合成した中間生成物と酸無水物とを反応させることにより、(A)成分であるベースポリマーを合成する。なお、上記一般式(2)中のR5で示された酸無水物残基は、酸無水物の構造中、酸無水物官能基を除いた部分となる。
本発明の感光性エレメントは、支持体と、該支持体上に形成された本発明の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層とを備えるものである。感光性樹脂組成物層上には、該感光性樹脂組成物層を被覆する保護フィルムを更に備えていてもよい。
(A)成分のベースポリマー(エポキシ変性ポリマー)を以下の方法により調製した。まず、攪拌機、還流冷却機、温度計及び窒素ガス導入管を備えたフラスコに、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(商品名:EPOMIK R140Q;三井化学社製、エポキシ当量187g/eq)67.9重量部、シクロヘキサノン15.0重量部及びトルエン10.0重量部を仕込み、窒素ガスを吹き込みながら、140℃に加熱した状態で攪拌することにより、エポキシ樹脂に含まれる水分の還流脱水を行った。
作製した基板から、ポリエチレンテレフタレートフィルムを除去し、23℃で3.3%水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液を110秒間スプレーすることにより、未露光部分を完全に除去した。感度は、現像後のパターンが形成される最終残存段数を読み取ることによって評価した。解像度は、テストパターンからラインとラインの間が完全に現像されているライン幅の値で示した。密着性は、テストパターンからラインが膨張したり、欠けたりすることなく完全に残っているラインの幅の値で示した。抜け解像度は、テストパターンからラインとラインの間が完全に現像されているスペースの幅の値で示した。以上を感光特性評価とし、その評価結果を表1に示した。
Claims (2)
- (A)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有するベースポリマーと、
(B)光重合性不飽和基を有するアクリル系ポリマーと、
(C)無機フィラーと、
(D)グリシドキシアルキルトリアルコキシシラン、(メタ)アクロキシアルキルトリアルコキシシラン及びウレイドアルキルトリアルコキシシランからなる群から選択される少なくとも2種のシランカップリング剤と、
(E)光重合性モノマーと、
(F)光反応開始剤と、
を含む感光性樹脂組成物。
[式(1)中、R1はジグリシジルエーテル型エポキシ化合物残基である二価の有機基を示し、R2は二塩基酸残基である二価の有機基を示し、R3及びR4は各々独立に水素原子又は下記一般式(2);
(式(2)中、R5は酸無水物残基を示す。)で表される基を示す。] - 支持体と、該支持体上に形成された請求項1に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂組成物層と、を備える感光性エレメント。
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