JP2008103558A - 半導体パワーモジュール - Google Patents
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Abstract
【解決手段】厚さ300μm以上のサファイア基板21上に成長されたIII族窒化物半導体からなるIII族窒化物半導体素子20と、III族窒化物半導体素子20が搭載されるヒートシンク11と、ヒートシンク11とIII族窒化物半導体素子20とを接合する融点300℃以上のハンダ13と備えることにより、III族窒化物半導体素子20のクラック発生は防止される。
【選択図】図1
Description
図6において、ベース101、中枠102及びカバー103からなるパッケージ104内には、シリコンパワートランジスタ105、ダイオード106が収納されている。
なお、図6において符号113は金ワイヤ、114は枠102を貫通するリードピンを示している。
そのような厚さのサファイア基板によれば、融点が300℃以上のハンダを溶融してIII族窒化物半導体素子とヒートシンクを接合した後にそれらを冷却した後に、III族窒化物半導体素子のクラックの発生が抑制された。
(第1の実施の形態)
図1(a)は、本発明の第1実施形態に係る半導体パワーモジュールのパッケージを示す側断面図、図1(b)は、そのパッケージの中に部品を実装した状態を示す側断面図、図2は、図1(b)に示す半導体パワーモジュール内に搭載されるパワートランジスタを示す断面図である。
パワートランジスタ20とヒートシンク11を固定する第1のハンダ13は、パワートランジスタ5の発熱を考慮して融点が300℃以上の鉛フリー材料、例えば約363℃の金シリコン(AuSi)から構成され、また、ヒートシンク11とベース2を固定する第2のハンダ14の材料は融点が約280℃の金錫(AuSn)から構成されている。
パワートランジスタ20として、例えば図2に示すような構成のHFET(Heterojunction Field Effect Transistor)20Aが用いられる。
なお、図1(b)において、符号17〜19は、リードピン6、パワートランジスタ20、ダイオード10を接続する導電性ワイヤを示している。
図4(a)は、本発明の第2実施形態に係る半導体パワーモジュールを構成するパッケージを示す側断面図であり、図4(b)は、そのパッケージ内に半導体パワーモジュール等を収納した状態示す側断面図である。図4(a)、(b)において、図1(a)、(b)と同一符号は同一要素を示している。
図5は、本発明の第3実施形態に係る半導体パワーモジュールを示す断面図である。図5において、図1(b)と同一符号は同一要素を示している。
なお、上記した実施形態では、パワートランジスタとしてAlGaN/GaNのヘテロ接合を有するHFETを用いたが、絶縁膜を介して電極がIII族窒化物半導体層上に形成されている構造を有するトランジスタ等の電子デバイスを使用してもよく、この場合にも電子デバイスが形成されるサファイア基板の厚さを300〜450μmとする。これにより、300℃以上の融点を有するハンダによりIII族窒化物半導体素子を下の基板に接合してもクラックの発生が抑制される。
2、2A:ベース
3、3A:中枠
4、4A:カバー
11:ヒートシンク
13、14:ハンダ
20:パワートランジスタ
21:サファイア基板
22:バッファ層
23:電子走行層
24:電子供給層
25:コンタクト層
26:ゲート電極
27:ソース層
28:ドレイン層
30:Ag/Cuロウ
Claims (6)
- 厚さ300μm以上のサファイア基板上に成長されたIII族窒化物半導体からなるIII族窒化物半導体素子と、
前記III族窒化物半導体素子が搭載されるヒートシンクと、
前記ヒートシンクと前記III族窒化物半導体素子とを接合する融点300℃以上のハンダと
を有することを特徴とする半導体パワーモジュール。 - 前記サファイア基板は450μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の半導体パワーモジュール。
- 前記ハンダは鉛フリーハンダであって、金シリコン、金ゲルマニウム又はその合金のいずれかであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体パワーモジュール。
- 前記ヒートシンクは、前記III族窒化物半導体素子を収納するパッケージの内部底面にハンダ、ロウのいずれかにより接合されることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1つに記載の半導体パワーモジュール。
- 前記III族窒化物半導体素子は、AlGaN/GaNのヘテロ接合を有するトランジスタであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1つに記載の半導体パワーモジュール。
- 前記III族窒化物半導体素子は、絶縁膜を介して電極がIII族窒化物半導体層上に形成されている構造を有するトランジスタであることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1つに記載の半導体パワーモジュール。
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