JP2008098532A - 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 - Google Patents
電解コンデンサ用電極箔の化成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008098532A JP2008098532A JP2006280807A JP2006280807A JP2008098532A JP 2008098532 A JP2008098532 A JP 2008098532A JP 2006280807 A JP2006280807 A JP 2006280807A JP 2006280807 A JP2006280807 A JP 2006280807A JP 2008098532 A JP2008098532 A JP 2008098532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- porous
- electrolytic capacitor
- porous film
- electrode foil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
【解決手段】アルミニウム箔の表面にポーラス型皮膜を生成させるポーラス型皮膜生成工程と、バリアー型皮膜を生成させるバリアー型皮膜生成工程とを有し、前記ポーラス型皮膜生成工程の前に、0.02〜0.20g/Lの水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ性処理液による化学処理工程を設けることを特徴とし、
上記のポーラス型皮膜生成工程で用いる化成液が、硫酸、シュウ酸およびリン酸のうち、少なくとも1種を含み、上記のポーラス型皮膜生成工程で生成させる皮膜厚さが、バリアー型皮膜厚さの50〜80%であることを特徴とする。
【選択図】 なし
Description
また、ポーラス型皮膜を生成させ得る化成溶液と同じ溶液中でアルミニウム箔の化学処理を行う化学処理工程を設けた方法もある(例えば、特許文献2参照)。
さらに、100V以下の耐電圧を有する皮膜生成の前に、電極箔表面に薄い酸化皮膜(Pre皮膜)を生成する方法もある(例えば、特許文献3参照)。
また、特許文献2記載のポーラス型皮膜を生成させ得る化成溶液と同じ溶液中でアルミニウム箔の化学処理を行う化学処理工程を設ける方法では、アルミニウムの溶解が著しく、高密度に形成したエッチング孔の構造が崩れてしまい、静電容量が低下してしまうという欠点を有している。
さらに、特許文献3記載の100V以下の耐電圧を有する皮膜生成の前に、電極箔表面に薄い酸化皮膜(Pre皮膜)を生成する方法では、中高圧化成の場合のように皮膜が厚いと効果が小さい。
本発明は、上記課題を解決するもので、エッチング部分の溶解による静電容量の低下を防ぎ、化成電気量を増加させずに、高耐電圧製品に対しても漏れ電流の低減を実現でき、高リプル電流や急速な充放電に耐えうる電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供するものである。
実施例1、2、5、8〜10では、高リプル電流や急速な充放電が負荷される電解コンデンサに用いられるアルミニウム電極箔を製造するにあたって、化学処理工程で、表1に示すように、液温が60℃、濃度が各々0.01、0.02、0.04、0.10、0.20、0.30g/Lの水酸化ナトリウム水溶液中にアルミニウム箔(エッチング箔)を5分間浸漬した後、ポーラス型皮膜生成工程で、液温45℃、濃度20g/Lの硫酸水溶液中で、電流密度50mA/cm2で11分間、直流電流を印加して化成を行い、アルミニウム箔表面に厚さ560nmのポーラス型皮膜を生成させる。
次に、バリアー型皮膜生成工程では、100gのホウ酸と0.04gのホウ酸アンモニウムとを純水に溶解して1Lの水溶液とし、90℃に加温して、該水溶液(化成液)中に、上記ポーラス型皮膜を生成させたアルミニウム箔を浸漬し、電流密度25mA/cm2で化成電圧600Vまで化成を行い、上記化成電圧にて30分間保持することにより、ポーラス型皮膜を封口し、さらにポーラス型皮膜上にもバリアー型皮膜を形成して厚さ840nmの非晶質のバリアー型皮膜を生成させた(ポーラス型/バリアー型皮膜の厚さ比率=560/840≒66.7%)。
実施例3〜7では化学処理工程において、表1に示すように、液温が60℃、濃度が0.04g/Lの水酸化ナトリウム水溶液中にエッチング箔を5分間浸漬させ、その後のポーラス型皮膜形成工程は、実施例1と同様の条件で、各々7、8、11、13、14分間、直流電流を印加して化成を行い、表面に各々380、420、560、670、710nmのポーラス型皮膜を生成させ、その後のバリアー型皮膜生成工程も実施例1と同様の条件で化成を行った。
その結果、ポーラス型/バリアー型皮膜の厚さ比率が、380/840(≒45.2%)、420/840(=50.0%)、560/840(≒66.7%)、670/840(≒79.8%)、710/840(≒84.5%)の皮膜が生成した。
従来例1では、実施例1のような化学処理工程を設けず、ポーラス型皮膜生成工程とバリアー型皮膜生成工程については実施例1と同様とした。
従来例2では、実施例1のような化学処理工程を設けず、ポーラス型皮膜生成工程において、印加時間を14分にする以外は実施例1と同様とし、厚さ710nmのポーラス型皮膜を生成させ、次にバリアー型皮膜生成工程を実施例1と同様に設けた。
従来例3では、化学処理工程において、液温45℃の20g/L硫酸水溶液中にエッチング箔を2分間浸漬させ、その後のポーラス型皮膜生成工程とバリアー型皮膜生成工程は、実施例1と同様とした。
実施例11、12では、実施例5のポーラス型皮膜生成工程において、液温45℃、濃度20g/Lの硫酸水溶液中の代わりに、各々、液温45℃、濃度100g/Lのシュウ酸水溶液、濃度50g/Lのリン酸水溶液を使用した以外は実施例1と同様にして、化学処理、バリアー型皮膜形成を行い、ポーラス型/バリアー型皮膜の厚さ比率が、560/840(≒66.7%)の皮膜を生成させた。
表1から明らかなように、実施例2、5、8〜10の電解コンデンサ用電極箔は従来例1と比較して漏れ電流が低減し、静電容量は従来例1と同等であることが分かる。
また、実施例2、5、8、9、10の電解コンデンサ用電極箔は従来例2、3と比較して漏れ電流は同等であり、静電容量は従来例2、3より高くなっている。
また、水酸化ナトリウム水溶液の濃度は、0.02〜0.20g/Lの範囲が好適であることが分かる(実施例2、5、8、9)。0.30g/Lでは溶解が起こり、静電容量の低下を招く(実施例10)。また、水酸化ナトリウム濃度が0.01g/Lでは化学処理の効果がほとんど得られず、漏れ電流低減効果がほとんど得られない(実施例1)。
さらに、表1から明らかなように、ポーラス型/バリアー型皮膜の厚さ比率は、50〜80%の範囲が好適であることが分かる(実施例4〜6)。ポーラス型皮膜が薄く、上記比率が45%では、漏れ電流が高くなり(実施例3)、ポーラス型皮膜が厚く、上記比率が85%では、化成電気量が多くなる(実施例7)。
さらに、表1から明らかなように、上記のポーラス型皮膜生成工程で用いる化成液は、硫酸以外に、シュウ酸、リン酸を用いた場合にも、上記と同様の効果を得ることができる(実施例11、12)。
さらに、上記実施例では、ポーラス型皮膜生成工程で用いる化成液として、硫酸、シュウ酸、リン酸を用いたが、これらを2種以上混合して用いることもできる。
また、上記実施例では、ポーラス型皮膜を生成した後のバリアー型皮膜生成工程において、ホウ酸とホウ酸アンモニウムを溶解した水溶液を用いたが、リン酸やリン酸塩の水溶液、アジピン酸やアジピン酸塩の水溶液を単独または混合して用いてもよい。
また、バリアー型皮膜生成工程において、所定の化成電圧まで到達した後、加熱処理や酸浸漬処理等のいわゆるデポラリゼーション処理と、修復化成とを繰り返して行ってもよい。
Claims (4)
- アルミニウム箔の表面にポーラス型皮膜を生成させるポーラス型皮膜生成工程と、バリアー型皮膜を生成させるバリアー型皮膜生成工程とを有し、前記ポーラス型皮膜生成工程の前に、アルカリ性処理液による化学処理工程を設けることを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の化成方法。
- 請求項1記載のアルカリ性処理液が0.02〜0.20g/Lの水酸化ナトリウム水溶液であることを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の化成方法。
- 請求項1記載のポーラス型皮膜生成工程で用いる化成液が、硫酸、シュウ酸およびリン酸のうち、少なくとも1種を含むことを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の化成方法。
- 請求項1記載のポーラス型皮膜生成工程で生成させる皮膜厚さが、バリアー型皮膜厚さの50〜80%であることを特徴とする電解コンデンサ用電極箔の化成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006280807A JP4811939B2 (ja) | 2006-10-14 | 2006-10-14 | 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006280807A JP4811939B2 (ja) | 2006-10-14 | 2006-10-14 | 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008098532A true JP2008098532A (ja) | 2008-04-24 |
JP4811939B2 JP4811939B2 (ja) | 2011-11-09 |
Family
ID=39381031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006280807A Active JP4811939B2 (ja) | 2006-10-14 | 2006-10-14 | 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4811939B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010087139A1 (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | シャープ株式会社 | 型および型の製造方法ならびに型を用いた反射防止膜の製造方法 |
CN102653875A (zh) * | 2011-03-04 | 2012-09-05 | 江苏振华轨道交通设备有限公司 | 新型高强度铝合金表面防腐及硬化处理工艺 |
CN110872721A (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 五十铃自动车株式会社 | 有阳极氧化皮膜的金属成型体及制造方法、活塞及内燃机 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06302476A (ja) * | 1993-04-19 | 1994-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミ電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
JP2006108395A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Nichicon Corp | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
-
2006
- 2006-10-14 JP JP2006280807A patent/JP4811939B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06302476A (ja) * | 1993-04-19 | 1994-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アルミ電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
JP2006108395A (ja) * | 2004-10-06 | 2006-04-20 | Nichicon Corp | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010087139A1 (ja) * | 2009-01-30 | 2010-08-05 | シャープ株式会社 | 型および型の製造方法ならびに型を用いた反射防止膜の製造方法 |
US9469056B2 (en) | 2009-01-30 | 2016-10-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Mold, mold manufacturing method and method for manufacturing anti-reflection film using the mold |
CN102653875A (zh) * | 2011-03-04 | 2012-09-05 | 江苏振华轨道交通设备有限公司 | 新型高强度铝合金表面防腐及硬化处理工艺 |
CN110872721A (zh) * | 2018-08-29 | 2020-03-10 | 五十铃自动车株式会社 | 有阳极氧化皮膜的金属成型体及制造方法、活塞及内燃机 |
CN110872721B (zh) * | 2018-08-29 | 2022-06-17 | 五十铃自动车株式会社 | 有阳极氧化皮膜的金属成型体及制造方法、活塞及内燃机 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4811939B2 (ja) | 2011-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0235443B2 (ja) | ||
JP2007214371A (ja) | 陽極体とその製造方法、および固体電解コンデンサ | |
JP4653687B2 (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP4811939B2 (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 | |
JP2009135343A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP2009146984A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2007059499A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP2010003996A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2007036048A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2007273903A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2005175330A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP2007036043A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2008112877A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2007067172A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP4754404B2 (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2008282994A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP4074588B2 (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP2010196131A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP3508288B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP2007281246A (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
JP4217147B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法 | |
JP2005347681A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JPH10112423A (ja) | アルミ電解コンデンサ用陽極箔の化成方法 | |
JP2007035902A (ja) | アルミニウム電解コンデンサ用陽極箔の製造方法 | |
JP3544768B2 (ja) | 電解コンデンサ用電極箔の化成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090416 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110817 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110818 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4811939 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140902 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |