JP2008088546A - パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＰｔ−Ｃｒ二元系合金粉末、Ｐｔ粉末、二酸化珪素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムおよび酸化イットリウムなどの非磁性酸化物粉末、並びにＣｏ粉末を用意し、さらに必要に応じてＣｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｒ−Ｃｏ二元系合金粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち加圧焼結する。
【選択図】なし

Description

この発明は、ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するためのスパッタリングターゲットの製造方法に関するものである。

ハードディスク装置は一般にコンピューターやデジタル家電等の外部記録装置として用いられており、記録密度の一層の向上が求められている。そのため、近年、超高密度の記録を実現できる垂直磁気記録方式が注目されてきた。この垂直磁気記録方式は、従来の面内記録方式と異なり、原理的に高密度化するほど記録磁化が安定すると言われており、すでに実用化されている。この垂直磁気記録方式のハードディスク媒体の磁気記録層に適用する材料の有力な候補としてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜が提案されており、この磁気記録膜は高性能な磁気記録膜であることが必要である。これに適用可能な磁気記録膜の一つとしてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜が提案されており、このＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜はＣｒおよびＰｔを含むＣｏ基焼結合金相と二酸化珪素相の混合相を有するＣｏ基焼結合金スパッタリングターゲットを用いてマグネトロンスパッタ法により作製することが知られている。
このＣｏ基焼結合金スパッタリングターゲットは、通常、二酸化珪素粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末およびＣｏ粉末を、二酸化珪素：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる組成となるように配合し混合したのち、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスなどの方法で加圧焼結することにより作製されることが知られており、前記二酸化珪素粉末として高温火炎加水分解法で製造された二酸化珪素粉末を使用し、ターゲットの素地中に分散する二酸化珪素相を１０μｍ以下の極めて細かい組織とすることによってパーティクルの発生を少なくしている（特許文献１、特許文献２などを参照）。
さらに、前記ＳｉＯ_２のほかにＴｉＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＢｅＯ_２、ＭｇＯ、ＴｈＯ_２、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３などの非磁性酸化物が使用できることが知られている（特許文献３、４参照）。
特開２００１‐２３６６４３号公報 特開２００４‐３３９５８６号公報 特開２００３‐３６５２５号公報 特開２００６‐２４３４６号公報

しかし、前記従来の方法で作製したＣｏ基焼結合金スパッタリングターゲットは、パーティクルの発生が避けられず、一層パーティクル発生の少ないＣｏ基焼結合金からなるスパッタリングターゲットが求められていた。

そこで、本発明者は、一層パーティクル発生の少ないＣｏ基焼結合金スパッタリングターゲットを得るべく研究を行なったところ、
（イ）ターゲットの素地中に絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）が１０μｍを越える粗大なＣｒとＯを主成分とする凝集体または析出物（以下、クロム酸化物凝集体という）が分散していることがパーティクル発生の一因となっていること、
（ロ）この粗大なクロム酸化物凝集体が素地中に存在しないようにするには、原料粉末として、Ｃｒ粉末の代わりに、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなる成分組成を有するＰｔとＣｒの二元合金粉末（以下、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末という）を使用することが好ましいこと、
（ハ）この粗大なクロム酸化物凝集体が素地中に存在しないようにするには、原料粉末として、Ｃｒ粉末の代わりに、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｒとＣｏの二元系合金粉末（以下、Ｃｏ−Ｃｒ二元系合金粉末という）を使用することが好ましいこと、などの知見を得たのである。

この発明は、かかる知見に基づいてなされたものであって、
（１）原料粉末として、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなる成分組成のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結するパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、
（２）原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｃｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結するパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、
（３）原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｃｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結するパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。

前記（１）、（２）および（３）記載の加圧焼結は、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスである。したがって、この発明は、
（４）前記加圧焼結は、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスである前記（１）、（２）または（３）記載のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法、に特徴を有するものである。

この発明のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法において使用するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末の成分組成を前記のごとく限定した理由は、Ｐｔが１０原子％未満あるいはＰｔが９０原子％を越えて含有すると粉末中に金属間化合物の他にＰｔとＣｒとの結合が弱い固溶体Ｃｒが存在する割合が多くなり、混合時や焼結時にＣｒが酸素や非磁性酸化物と反応しやすく、Ｃｒ酸化凝集体を形成しやすくなるため好ましくないからである。Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末におけるＰｔ含有量の一層好ましい範囲はＰｔ：１５〜２５原子％である。この原料粉末として使用するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末の粒径は、１５０μmより大きいと粉砕が十分進みにくいため、１５０μm以下が好ましく、分級などにより７５μm以下、さらには４５μm以下とするのが好ましい。

また、この発明のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法において使用するＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末の成分組成を前記のごとく限定した理由は、Ｃｒが５０原子％未満または７０原子％を越えて含有すると、粉末中に金属間化合物の他にＣｏとＣｒの結合が弱い固溶体Ｃｏまたは固溶体Ｃｒが存在する割合が多くなり、混合時や焼結時にＣｒが酸素や非磁性酸化物と反応して粗大なクロム酸化物凝集体を形成しやすくなるので好ましくないからである。Ｃｏ−Ｃｒ二元系合金粉末に含まれるＣｒの一層好ましい範囲は５４〜６７原子％である。この原料粉末として使用するＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末の粒径は、１５０μmより大きいと粉砕が十分進みにくいため、１５０μm以下が好ましく、分級などにより７５μm以下、さらには４５μm以下とするのが好ましい。

クロム酸化物凝集体がパーティクル発生の原因となる理由は、クロム酸化物凝集体は非常にもろく、スパッタ中に脱落したり異常放電を生じたりし、またクロム酸化物凝集体のサイズが大きい場合にはターゲットの加工中にターゲット表面から脱落し、脱落した部分に欠陥が形成されるからである。Ｃｒを合金化したＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末またはＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末とＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末とを原料粉末として使用することにより、酸素や非磁性酸化物との反応による酸化が生じがたくなるためクロム酸化物凝集体の生成が抑制されパーティクルの発生は少なくなると考えられる。

つぎに、この発明のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法において使用するＣｏ粉末、Ｐｔ粉末はいずれも５０％粒径が５０μｍ以下（一層好ましくは５０％粒径が４０μｍ以下）、さらに非磁性酸化物粉末は５０％粒径が２０μｍ以下（一層好ましくは５０％粒径が１０μｍ以下）とすることが好ましい。その理由はＣｏ粉末、Ｐｔ粉末がこれ以上大きいと混合後に均一な組織が得られにくいためである。また、非磁性酸化物粉末の粒径がこれ以上大きくなると混合粉砕工程を経てもターゲット中に１０μｍ以上の大きな非磁性酸化物が存在しやすくなり、これがスパッタ中の異常放電やパーティクル発生の原因となるからである。前記原料粉末の混合は不活性ガス雰囲気中で行なうことが好ましい。これは混合中にＣｒが酸素と結合してクロム酸化物凝集体が形成されるのをより一層防止するからである。

この発明は、一層パーティクル発生の少ない優れた磁気記録膜を形成することができるスパッタリングターゲットを提供することができ、コンピューター並びにデジタル家電等の産業の発展に大いに貢献し得るものである。

原料粉末として、表１に示される成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｓをガスアトマイズ法により作製した。これらガスアトマイズ法により得られたＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｓは５０％粒径が９５μｍであったので、これらＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｓを４５μｍの目開きを持つ篩により分級し、レーザー回折法により測定される５０％粒径がいずれも３５μｍとなるように分級した。
さらに原料粉末として、表２に示される成分組成を有するＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｊをガスアトマイズ法により作製した。これらガスアトマイズ法により得られたＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｊは５０％粒径が９５μｍであったので、これらＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｊを４５μｍの目開きを持つ篩により分級し、レーザー回折法により測定される５０％粒径がいずれも３５μｍとなるように分級した。さらに市販の５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末、５０％粒径：３μｍのＳｉＯ_２粉末、５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末、５０％粒径：３μｍのＴａ_２Ｏ_５粉末、および５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末を用意した。

実施例１
これら原料粉末を表３に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。
得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有し、かつＣｒ：１０．１モル％、Ｐｔ：１５．６モル％、ＳｉＯ_２：８．０モル％を含有し、残部Ｃｏからなる成分組成を有するターゲットを作製することにより本発明法１〜１１、比較法１および従来法１を実施した。

前記本発明法１〜１１、比較法１および従来法１で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）をＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表３に示した。
ＥＰＭＡによるクロム酸化物凝集体の絶対最大長の測定は、次のようにして行なった。前記本発明法１〜１１、比較法１および従来法１で作製したホットプレス体から試料を切り出して断面を樹脂に埋め、鏡面研磨した。この断面組織についてフィールドエミッションＥＰＭＡ（日本電子社製ＪＸＡ−８５００Ｆ）により、加速電圧：１５ｋＶ、照射電流：５×１０^−８Ａの条件で１０００倍の倍率にて面分析を実施し、Ｃｒの元素マッピング像を得た。このＣｒの元素マッピング像は出来るだけＣｒが富化した領域（すなわちクロム酸化物凝集体）を明確に判別できるよう、コントラストおよび色調をつけた画像とした。得られたＣｒの元素マッピング像を画質を落とさずにビットマップ形式の画像ファイルとして保存し、この画像を別途パソコンの画像処理ソフト（三谷商事社製、Ｗｉｎ Ｒｏｏｆ）に読み込ませて二値化し、マトリックスよりＣｒが富化している領域の絶対最大長を画像処理により計測した。二値化の際にはＣｒ富化領域の大きさが元の画像と変化しないようにしきい値を選んだ。計測時の長さのキャリブレーションについては元のＥＰＭＡによるＣｒの元素マッピング像に表示されたスケールバーを用いた。

さらに、前記本発明法１〜１１、比較法１および従来法１で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、
到達真空度：５×１０^−５Ｐａ、
電力：直流８００Ｗ、
Ａｒガス圧：６．０Ｐａ、
ターゲット基板間距離：６０ｍｍ、
基板加熱：なし、
の条件でプレスパッタを行い、ターゲット表面加工層を除去したのち、一旦チャンバーを大気開放して、防着板などのチャンバー部材の清掃を行った。その後、再び上記真空度に達するまで真空引きを行い、真空引き後、３０分のプレスパッタを行ってターゲット表面の大気吸着成分や金属酸化層の除去を行ったのち、４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜した。同じ条件で合計２５枚の４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜し、成膜後のウエハについて市販の異物検査装置によりウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表３に示した。

表３に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｋを原料粉末として配合して作製する本発明法１〜１１で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＳｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法１により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｒを使用する比較法１で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例２
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＳｉＯ_２粉末を表４に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。このようにして得られた混合粉末をＳＵＳ製の容器に充填し、５５０℃、１２時間保持の真空脱ガス処理を行なったのち、ＳＵＳ容器を密封して混合粉末を真空封入した。この混合粉末を充填したＳＵＳ容器について、温度：１２００℃、圧力：１００ＭＰａ、３時間保持の条件で熱間静水圧プレスを施し、その後、ＳＵＳ容器を開封してＣｒ：１７．１モル％、Ｐｔ：１５．３モル％、ＳｉＯ_２：１０．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法１２〜１８、比較法２および従来法２を実施した。前記本発明法１２〜１８、比較法２および従来法２で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表４に示した。

表４に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇを原料粉末として配合して作製する本発明法１２〜１８で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＳｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法２により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ合金粉末Ｒを使用する比較法２で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例３
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｊ、表２に示されるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｈ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＳｉＯ_２粉末を表５に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。
得られた混合粉末を得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりＣｒ：１１．３モル％、Ｐｔ：１２．２モル％、ＳｉＯ_２：６．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法１９〜２８、比較法３および従来法３を実施した。

前記本発明法１９〜２８および比較法３および従来法３で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）をＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表５に示した。
ＥＰＭＡによるクロム酸化物凝集体の絶対最大長の測定は、前記本発明法１９〜２８および比較法３および従来法３で作製したターゲットから試料を切り出して断面を樹脂に埋め、鏡面研磨し、以下、実施例１と同じ方法で行なった。

さらに、前記本発明法１９〜２８および比較法３および従来法３で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、実施例１と同じ条件でプレスパッタを行い、ターゲット表面加工層を除去したのち、一旦チャンバーを大気開放して、防着板などのチャンバー部材の清掃を行った。その後、再び上記真空度に達するまで真空引きを行い、真空引き後、３０分のプレスパッタを行ってターゲット表面の大気吸着成分や金属酸化層の除去を行ったのち、４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜した。同じ条件で合計２５枚の４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜し、成膜後のウエハについて市販の異物検査装置によりウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表５に示した。

表５に示される結果から、表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末および表２のＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を原料粉末として配合して作製した本発明法１９〜２８で作製したターゲットは、表５のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＳｉＯ_２粉末を配合し混合する従来法３により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ合金粉末ｉを使用する比較法３で作製したターゲットは１．０μｍ以上のパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例４
Ｐｔ粉末を使用せず、必要なＰｔ成分はすべて表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｋ〜Ｑの添加により含有させること、および加圧焼結を実施例２と同様の熱間静水圧プレスにより実施する以外は実施例３と全く同じ条件で本発明法２９〜３５、比較法４および従来法４を実施し、Ｃｒ：１１．８モル％、Ｐｔ：１５．５モル％、ＳｉＯ_２：９．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製した。前記本発明法２９〜３５、比較法４および従来法４で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表６に示した。

表６に示される結果から、本発明法２９〜３５で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＳｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法４により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表１のＣｒ−Ｐｔ合金粉末ＳおよびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ二元系ｊを使用する比較法４で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例５

原料粉末を表７に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有し、かつＣｒ：１４．７モル％、Ｐｔ：１６．６モル％、ＴｉＯ_２：８．０モル％を含有し、残部Ｃｏからなる成分組成を有するターゲットを作製することにより本発明法３６〜４４、比較法５および従来法５を実施した。

前記本発明法３６〜４４、比較法５および従来法５で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）を実施例１と同様にしてＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表７に示した。
さらに、前記本発明法３６〜４４、比較法５および従来法５で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、実施例１と同じの条件でプレスパッタを行い、ついで実施例１と同様にしてウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表７に示した。

表７に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｋを原料粉末として配合して作製する本発明法３６〜４４で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法５により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｒを使用する比較法５で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例６
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＴｉＯ_２粉末を表８に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。このようにして得られた混合粉末をＳＵＳ製の容器に充填し、５５０℃、１２時間保持の真空脱ガス処理を行なったのち、ＳＵＳ容器を密封して混合粉末を真空封入した。この混合粉末を充填したＳＵＳ容器について、温度：１２００℃、圧力：１００ＭＰａ、３時間保持の条件で熱間静水圧プレスを施し、その後、ＳＵＳ容器を開封してＣｒ：１３．５モル％、Ｐｔ：１４．４モル％、ＴｉＯ_２：１０．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法４５〜５３、比較法６および従来法６を実施した。前記本発明法４５〜５３、比較法６および従来法６で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表８に示した。

表８に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇを原料粉末として配合して作製する本発明法４５〜５３で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法６により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ合金粉末Ｒを使用する比較法６で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例７
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｊ、表２に示されるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｈ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＴｉＯ_２粉末を表９に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。
得られた混合粉末を得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりＣｒ：１３．２モル％、Ｐｔ：１２．２モル％、ＴｉＯ_２：６．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法５４〜６３、比較法７および従来法７を実施した。

前記本発明法５４〜６３および比較法７および従来法７で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）をＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表９に示した。
ＥＰＭＡによるクロム酸化物凝集体の絶対最大長の測定は、前記本発明法５４〜６３および比較法７および従来法７で作製したターゲットから試料を切り出して断面を樹脂に埋め、鏡面研磨し、以下、実施例１と同じ方法で行なった。

さらに、前記本発明法５４〜６３および比較法７および従来法７で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、実施例１と同じ条件でプレスパッタを行い、ターゲット表面加工層を除去したのち、一旦チャンバーを大気開放して、防着板などのチャンバー部材の清掃を行った。その後、再び上記真空度に達するまで真空引きを行い、真空引き後、３０分のプレスパッタを行ってターゲット表面の大気吸着成分や金属酸化層の除去を行ったのち、４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜した。同じ条件で合計２５枚の４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜し、成膜後のウエハについて市販の異物検査装置によりウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表９に示した。

表９に示される結果から、表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末および表２のＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を原料粉末として配合して作製した本発明法５４〜６３で作製したターゲットは、表９のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末を配合し混合する従来法７により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ合金粉末ｉを使用する比較法７で作製したターゲットは１．０μｍ以上のパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例８
Ｐｔ粉末を使用せず、必要なＰｔ成分はすべて表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｋ〜Ｑの添加により含有させること、非磁性酸化物粉末としてＴｉＯ_２粉末を使用すること、および加圧焼結を実施例２と同様の熱間静水圧プレスにより実施する以外は実施例３と全く同じ条件で本発明法６４〜７０、比較法８および従来法８を実施し、Ｃｒ：９．１モル％、Ｐｔ：１０．９モル％、ＴｉＯ_２：９．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製した。前記本発明法６４〜７０、比較法８および従来法８で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表１０に示した。

表１０に示される結果から、本発明法６４〜７０で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末を配合し混合して作製する従来法８により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表１のＣｒ−Ｐｔ合金粉末ＳおよびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ二元系ｊを使用する比較法８で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例９
原料粉末を表１１に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有し、かつＣｒ：１０．１モル％、Ｐｔ：１５．６モル％、Ｔａ_２Ｏ_５：８．０モル％を含有し、残部Ｃｏからなる成分組成を有するターゲットを作製することにより本発明法７１〜７９、比較法９および従来法９を実施した。
前記本発明法７１〜７９、比較法９および従来法９で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）を実施例１と同様にしてＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表１１に示した。
さらに、前記本発明法７１〜７９、比較法９および従来法９で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、実施例１と同じの条件でプレスパッタを行い、ついで実施例１と同様にしてウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表１１に示した。

表１１に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｋを原料粉末として配合して作製する本発明法７１〜７９で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴａ_２Ｏ_５粉末を配合し混合して作製する従来法９により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｒを使用する比較法９で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例１０
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＴａ_２Ｏ_５粉末を表１２に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。このようにして得られた混合粉末をＳＵＳ製の容器に充填し、５５０℃、１２時間保持の真空脱ガス処理を行なったのち、ＳＵＳ容器を密封して混合粉末を真空封入した。この混合粉末を充填したＳＵＳ容器について、温度：１２００℃、圧力：１００ＭＰａ、３時間保持の条件で熱間静水圧プレスを施し、その後、ＳＵＳ容器を開封してＣｒ：１３．６モル％、Ｐｔ：１４．６モル％、Ｔａ_２Ｏ_５：３．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法８０〜８８、比較法１０および従来法１０を実施した。前記本発明法８０〜８８、比較法１０および従来法１０で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表１２に示した。

表１２に示される結果から、Ｐｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｇを原料粉末として配合して作製する本発明法８０〜８８で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴａ_２Ｏ_５粉末を配合し混合して作製する従来法１０により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有するＣｒ−Ｐｔ合金粉末Ｒを使用する比較法１０で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例１１
表１に示されるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ａ〜Ｊ、表２に示されるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末ａ〜ｈ、Ｃｏ粉末、Ｐｔ粉末およびＴｉＯ_２粉末を表１３に示される配合組成となるように配合し、得られた配合粉末を粉砕媒体となるジルコニアボールと共に１０リットルの容器に投入し、この容器内の雰囲気をＡｒガス雰囲気中で置換し、その後、容器を密閉した。この容器をボールミルで１６時間回転させ、混合粉末を作製した。
得られた混合粉末を得られた混合粉末を真空ホットプレス装置に充填し、真空雰囲気中、温度：１２００℃、圧力：１５ＭＰａ、３時間保持の条件で真空ホットプレスすることによりＣｒ：１４．７モル％、Ｐｔ：１６．７モル％、Ｔａ_２Ｏ_５：２．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有するホットプレス体を作製し、このホットプレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製することにより本発明法８９〜９８、比較法１１および従来法１１を実施した。

前記本発明法８９〜９８および比較法１１および従来法１１で作製したターゲットの素地中に分散するクロム酸化物凝集体の絶対最大長（粒子の輪郭線上の任意の２点間距離の最大値）をＥＰＭＡにより測定し、絶対最大長が１０μｍを越える粗大なクロム酸化物凝集体の存在の有無を表１３に示した。
ＥＰＭＡによるクロム酸化物凝集体の絶対最大長の測定は、前記本発明法８９〜９８および比較法１１および従来法１１で作製したターゲットから試料を切り出して断面を樹脂に埋め、鏡面研磨し、以下、実施例１と同じ方法で行なった。

さらに、前記本発明法８９〜９８および比較法１１および従来法１１で得られたターゲットを有機溶剤により脱脂し、ついで真空中、１５０℃、８時間保持真空乾燥を行なったのち銅製のバッキングプレートに接合して市販のスパッタ装置に装着し、実施例１と同じ条件でプレスパッタを行い、ターゲット表面加工層を除去したのち、一旦チャンバーを大気開放して、防着板などのチャンバー部材の清掃を行った。その後、再び上記真空度に達するまで真空引きを行い、真空引き後、３０分のプレスパッタを行ってターゲット表面の大気吸着成分や金属酸化層の除去を行ったのち、４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜した。同じ条件で合計２５枚の４インチＳｉウエハ上に厚さ：１００ｎｍの磁気記録膜を成膜し、成膜後のウエハについて市販の異物検査装置によりウエハ表面に付着した１．０μｍ以上のパーティクル数を計測し、２５枚の平均値を算出し、その結果を表１３に示した。

表１３に示される結果から、表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末および表２のＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を原料粉末として配合して作製した本発明法８９〜９８で作製したターゲットは、表１３のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴｉＯ_２粉末を配合し混合する従来法１１により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ合金粉末ｉを使用する比較法１１で作製したターゲットは１．０μｍ以上のパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

実施例１２
Ｐｔ粉末を使用せず、必要なＰｔ成分はすべて表１のＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末Ｋ〜Ｑの添加により含有させること、非磁性酸化物粉末としてＴａ_２Ｏ_５粉末を使用すること、および加圧焼結を実施例２と同様の熱間静水圧プレスにより実施する以外は実施例３と全く同じ条件で本発明法６４〜７０、比較法８および従来法８を実施し、Ｃｒ：１７．５モル％、Ｐｔ：１９．４モル％、Ｔａ_２Ｏ_５：３．０モル％を含有し、残部がＣｏからなる成分組成を有する熱間静水圧プレス体を作製し、この熱間静水圧プレス体を切削加工して直径：１５２．４ｍｍ、厚さ：３ｍｍの寸法を有するターゲットを作製した。前記本発明法９９〜１０５、比較法１２および従来法１２で作製したターゲットについて実施例１と同じ測定を行い、その結果を表１４に示した。

表１４に示される結果から、本発明法９９〜１０５で作製したターゲットは、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末およびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末を添加することなく５０％粒径：１０μｍのＣｏ粉末、５０％粒径：１０μｍのＣｒ粉末、５０％粒径：１５μｍのＰｔ粉末および５０％粒径：３μｍのＴａ_２Ｏ_５粉末を配合し混合して作製する従来法１２により作製したターゲットに比べて、パーティクルの発生が少ないことが分かる。しかし、Ｃｒ−Ｐｔ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表１のＣｒ−Ｐｔ合金粉末ＳおよびＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末がこの発明の範囲から外れた成分組成を有する表２のＣｏ−Ｃｒ二元系ｊを使用する比較法１２で作製したターゲットはパーティクルの発生が多くなるので好ましくないことが分かる。

Claims (7)

1. 原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結することを特徴とするパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法。
2. 原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｃｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結することを特徴とするパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法。
3. 原料粉末としてＰｔ：１０〜９０原子％を含有し、残部がＣｒからなるＣｒ−Ｐｔ二元系合金粉末、Ｃｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｏ−Ｃｒ二元系合金粉末、非磁性酸化物粉末およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結することを特徴とするパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法。
4. 前記非磁性酸化物は、二酸化珪素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムおよび酸化イットリウムのうちのいずれかであることを特徴とする請求項１、２または３記載のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法。
5. 前記加圧焼結は、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスであることを特徴とする請求項１、２または３記載のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法。
6. 非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成有する磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットであって、素地中に分散するＣｒ酸化物凝集体の絶対最大長さが１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１、２、３、４または５記載の方法で製造したパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲット。
7. 前記非磁性酸化物は、二酸化珪素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムおよび酸化イットリウムのうちのいずれかであることを特徴とする請求項６記載のパーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲット。