JP2008084626A5 - - Google Patents
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Family Cites Families (21)
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| US6509564B1 (en) * | 1998-04-20 | 2003-01-21 | Hitachi, Ltd. | Workpiece holder, semiconductor fabricating apparatus, semiconductor inspecting apparatus, circuit pattern inspecting apparatus, charged particle beam application apparatus, calibrating substrate, workpiece holding method, circuit pattern inspecting method, and charged particle beam application method |
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| JP2000260381A (ja) * | 1999-03-05 | 2000-09-22 | Sanyuu Denshi Kk | 走査型画像の処理装置 |
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