JP2008078467A - 特定用途向け半導体集積回路及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】特定用途向け半導体集積回路1において、第1の配線層に配置され、第1の方向に延在する配線51及びそれに対して平行に延在する配線52と、第2の配線層に配置され、第2の方向において配線51上及び52上を延在し配線51に接続孔71を通して接続される配線61、配線51上及び52上を配線61に対して離間し平行に延在する配線63、及び配線61と配線63との間に双方に対して最小スペースにおいて離間されかつ平行に延在し配線52に接続孔72を通して接続される配線62と、を備え、配線62の一端620を、配線52上からそれと配線51との間の中央まで延在させる。
【選択図】図1
Description
[特定用途向け半導体集積回路の平面レイアウト]
本実施の形態に係る特定用途向け半導体集積回路1は、図1(A)に示すように、配線密度が高い領域において、第1層目配線層に配置され、横方向に延在する配線(第1の配線)51及びこの配線51に対して平行に延在する配線(第2の配線)52と、第2層目配線層に配置され、縦方向において配線51上及び配線52上を延在し配線51に接続孔(第1の接続孔又は第1のビアホール)71を通して接続される配線(第3の配線)61、配線51上及び配線52上を配線71に対して離間し平行に延在する配線(第4の配線)63、及び配線61と配線63との間に双方に対して最小スペースにおいて離間されかつ平行に延在し配線52に接続孔(第2の接続孔)72を通して接続される配線(第5の配線)62とを備えている。そして、配線62の一端620は、同図においてハッチングにて表示しているように、配線52上からこの配線52と配線51との間の中央まで少なくとも延在されている。
次に、前述の特定用途向け半導体集積回路1の製造方法について、前述の図1(A)、図1(B)及び図2を参照しつつ、図3を用いて説明する。
なお、本発明は、前述の実施の形態に限定されるものではない。例えば、本発明は、コンピュータを使用する自動配線配置システムにより、配線基板、液晶ガラス基板、絶縁基板等の基板上に配線を配置する場合にも適用することができる。
10 半導体基板
41〜44 回路
51、52、53、55、56、57、61、62、63、65、66、67 配線
71〜73 接続孔
620 一端
650 コンタクトフリンジ
Claims (5)
- 第1の配線層に配置され、第1の方向に延在する第1の配線及びこの第1の配線に対して平行に延在する第2の配線と、
前記第1の配線層上の第2の配線層に配置され、前記第1の方向と交差する第2の方向において前記第1の配線上及び前記第2の配線上を延在し前記第1の配線に第1の接続孔を通して接続される第3の配線、前記第1の配線上及び前記第2の配線上を前記第3の配線に対して離間し平行に延在する第4の配線、及び前記第3の配線と前記第4の配線との間に双方に対して最小スペースにおいて離間されかつ平行に延在し前記第2の配線に第2の接続孔を通して接続される第5の配線と、を備え、
前記第5の配線の一端を、前記第2の配線上からこの第2の配線と前記第1の配線との間の中央まで延在したことを特徴とする特定用途向け半導体集積回路。 - 前記第5の配線の一端は前記第1の配線上まで延在され、この第5の配線の一端とその下層の前記第1の配線との間には接続孔が配置されないことを特徴とする請求項1に記載の特定用途向け半導体集積回路。
- 前記第1の配線層に配置され、前記第1の方向に延在する第6の配線及びこの第6の配線に対して平行に延在する第7の配線と、
前記第2の配線層に配置され、前記第2の方向において前記第6の配線上及び前記第7の配線上を延在し前記第6の配線に第3の接続孔を通して接続される第8の配線、及び前記第6の配線上及び前記第7の配線上を前記第8の配線に対して最小スペース以上のスペースにおいて離間されかつ平行に延在する第9の配線と、を備え、
前記第3の接続孔近傍において、前記第8の配線の前記第9の配線側にコンタクトフリンジを備えたことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の特定用途向け半導体集積回路。 - フロアプランを作成する工程と、
自動配置配線システムを使用し、前記フロアプランに基づき複数の回路を配置する工程と、
前記自動配置配線システムを使用し、コンタクトフリンジレスのデザインルールに基づき、前記回路間を結線する複数の配線及び上下配線間を接続する複数の接続孔を自動配置する工程と、
フリンジエラーチェックを行い、前記配線の前記接続孔周囲にコンタクトフリンジの配置が必要な箇所を抽出する工程と、
前記コンタクトフリンジの配置が必要な箇所であって、前記配線に最小スペースにおいて隣接する他の配線が存在するとき、前記他の配線の一端を前記配線の前記接続孔近傍まで延長する工程と、
前記コンタクトフリンジの配置が必要な箇所であって、前記配線に最小スペースにおいて隣接する他の配線が存在しないとき、前記配線の前記接続孔の周囲にコンタクトフリンジを配置する工程と、
を備えたことを特徴とする特定用途向け半導体集積回路の製造方法。 - 前記配線及び接続孔を自動配置する工程、前記他の配線の一端を延長する工程及び前記コンタクトフリンジを配置する工程の後に、これらの情報に基づき、前記配線、前記他の配線、前記接続孔及びコンタクトフリンジを製造する製造用マスクを形成する工程と、
前記製造用マスクを使用し、基板上に前記配線、前記他の配線、前記接続孔及びコンタクトフリンジを製造する工程と、
を更に備えたことを特徴とする請求項4に記載の特定用途向け半導体集積回路の製造方法。
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