JP2008076839A - 光配向膜用組成物及び光学異方体 - Google Patents
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Abstract
【課題】 感度が高く、高温による劣化等のない光学異方体を与えるような光配向膜用組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物と、一般式（２−１）で表される化合物等とを含む光配向膜用組成物、及び該光配向膜用組成物を使用してなる光学異方体。
【化１】
（１）
（式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。）
【化０】
（２−１）
（一般式（２−１）中、Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。）
【選択図】 なし
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物と、一般式（２−１）で表される化合物等とを含む光配向膜用組成物、及び該光配向膜用組成物を使用してなる光学異方体。
【化１】
（１）
（式中、Ｒ３及びＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。）
【化０】
（２−１）
（一般式（２−１）中、Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。）
【選択図】 なし
Description
本発明は、液晶表示素子や光学異方体の液晶配向膜として有用な光配向膜用組成物に関し、更に該光配向膜用組成物からなる光配向膜を使用した光学異方体に関する。
液晶配向膜は、液晶表示装置における液晶分子の配向の目的だけでなく、液晶セルと偏光板との間に光学異方体の一種である光学補償シート（位相差板）用の材料として使用される。具体的には、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させて得る光学異方体の、該重合性液晶材料を配向させる材料として、液晶配向膜が使用される。
従来液晶配向膜としては、ポリイミド等の高分子の膜を一方向に布等で摩擦したラビング膜が使用される。しかしながら、ラビング法では機械的に擦ることによる高分子膜表面の微細な傷が、液晶配向欠陥の原因となったり、ラビング時の押し付け圧の不均一性などにより、配向ムラが生じたりすることで、液晶素子の精細度が低下するという問題がある。
また、光学補償シート（位相差板）は、広波長帯域化や視野角安定性を高精度化させる目的で使用する場合も多く、その場合は、例えば１／４波長板と１／２波長板との積層体、あるいは、Ａ−プレートとＣ−プレートとの積層体が使用される。しかし、該積層体を製造する方法、即ち液晶配向膜層を作成後、重合性液晶層を硬化させる工程を繰り返す場合、重合性液晶層をラビングで作成したのでは、装置が非常に大がかりとなり、連続的に作成することができない。従って、液晶配向膜及び液晶層の全ての積層工程を連続的に行うことができるような、液晶配向膜を得る方法が求められている。
また、光学補償シート（位相差板）は、広波長帯域化や視野角安定性を高精度化させる目的で使用する場合も多く、その場合は、例えば１／４波長板と１／２波長板との積層体、あるいは、Ａ−プレートとＣ−プレートとの積層体が使用される。しかし、該積層体を製造する方法、即ち液晶配向膜層を作成後、重合性液晶層を硬化させる工程を繰り返す場合、重合性液晶層をラビングで作成したのでは、装置が非常に大がかりとなり、連続的に作成することができない。従って、液晶配向膜及び液晶層の全ての積層工程を連続的に行うことができるような、液晶配向膜を得る方法が求められている。
このような問題を解決するために、近年ラビングを行わない液晶配向膜作製技術が注目されている。とりわけ、基板上に設けた膜に何らかの異方性を有する光を照射することで液晶の配向を得る光配向法は、量産性に優れ、大型の基板にも対応できることから実用化が期待されている。
このような光配向膜となり得るものとしてはアゾベンゼン誘導体のように光異性化反応をする化合物、シンナメート、クマリン、カルコン等の光二量化反応を生じる部位を有する化合物やポリイミドなど異方的な光分解を生じる化合物がある。
このような光配向膜となり得るものとしてはアゾベンゼン誘導体のように光異性化反応をする化合物、シンナメート、クマリン、カルコン等の光二量化反応を生じる部位を有する化合物やポリイミドなど異方的な光分解を生じる化合物がある。
現在最も低照射量の異方性を有する光で再配向し（以下、感度と称す）、液晶配向能に優れる光配向膜材料としては、例えば、下記構造式で表されるような化合物が知られている（特許文献１、非特許文献１参照）。該アゾ構造を有する化合物は、例えば５００ｍＪ／ｃｍ２の低照射量で液晶配向能力を示す。
しかし該化合物を使用した光配向膜を使用し、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させた光学異方体は、後工程にもたらされる高温によって光学異方層が劣化し、光学特性が劣化するという問題があった。
しかし該化合物を使用した光配向膜を使用し、重合性液晶材料を配向させた状態で硬化させた光学異方体は、後工程にもたらされる高温によって光学異方層が劣化し、光学特性が劣化するという問題があった。
ＳＩＤ０１ ＤＩＧＥＳＴ １１７０（２００１）
特開平５−２３２４７３号公報
特開２００２−２５０９２４号公報
特開２００５−１７３５４７号公報
特開２００５−１７３５４８号公報
発明が解決しようとする課題は、感度が高く、高温による劣化等のない光学異方体を与えるような光配向膜用組成物を提供することにある。
本発明者らは、前記構造式で表されるような感度の高い化合物に、特定の化合物を添加した光配向膜用組成物が上記課題を解決できることを見いだした。
即ち本発明は、一般式（１）で表される化合物と、一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物、及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）と含む光配向膜用組成物を提供する。
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表し、Ｒ３及びＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。）
（２−１）
（一般式（２−１）中、Ｒ11及びＲ12は各々独立して、ヒドロキシル基、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して１〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１、Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13及びＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。）
Ｒ13及びＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。）
（２−２）
（一般式（２−２）中、Ｒ21及びＲ22は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ11及びＡ12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。）
また、本発明は、液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物の膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が、前記記載の光配向膜用組成物の膜を配向させて得られた光学異方体を提供する。
本発明の光配向膜用組成物を使用することで、感度が高く、且つ、セル製造過程で使用するような接着部材、あるいは、接着部材、重合性液晶組成物溶液、配向膜溶液等に使用する有機溶剤に侵されることのない光配向膜及び該光配向膜を使用した、有機溶剤等に侵されることのない光学異方体が得られる。
（一般式（１）で表される化合物）
一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ６Ｒ７（Ｒ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。ハロゲン化メチル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
Ｒ５の炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。Ｒ５で表される炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル気としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素原子数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。
これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ６Ｒ７（Ｒ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。ハロゲン化メチル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
Ｒ５の炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。Ｒ５で表される炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル気としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
Ｒ６及びＲ７で表される炭素原子数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。
これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
また、Ｒ１及びＲ２は、４，４‘−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の両端のフェニレン基の、アゾ基からみてメタ位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
Ｒ３及びＲ４は各々独立して、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシ基を表す。但し、カルボキシル基、スルホ基は、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属と塩を形成していても良い。
これらＲ３及びＲ４は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の２、２’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
これらＲ３及びＲ４は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の２、２’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
一般式（１）におけるＲ３及びＲ４は、光配向性能やその他の特性に最も影響を与える部位であると推定され、Ｒ３及びＲ４に導入しうる置換基の種類や組合せにより、様々な特性が得られる。
前記Ｒ３及びＲ４がカルボキシル基又はその塩、スルホ基又はその塩であると、ガラスやＩＴＯなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。
前記一般式（１）で表される化合物は、単体でも、一般式（１）で表される化合物の範囲内のＲ１〜Ｒ４が各々異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記Ｒ３及びＲ４がカルボキシル基又はその塩、スルホ基又はその塩であると、ガラスやＩＴＯなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。
前記一般式（１）で表される化合物は、単体でも、一般式（１）で表される化合物の範囲内のＲ１〜Ｒ４が各々異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記一般式（１）で表される化合物と、一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）と併用して使用することで、感度を維持しつつ、耐熱性に優れる光配向膜を得ることができる。
一般式（１）で表される化合物としては、特に一般式（１）におけるＲ３及びＲ４がスルホ基またはそのアルカリ金属塩である化合物であると、基板表面に均一で、感度が高く、且つ耐熱性に優れる光配向膜を得ることができなお好ましい。更に、一般式（１）におけるＲ１及びＲ２がカルボキシル基またはそのアルカリ金属塩、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩又はヒドロキシメチル基が更に好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩が特に好ましい。
一般式（１）で表される化合物としては、特に一般式（１）におけるＲ３及びＲ４がスルホ基またはそのアルカリ金属塩である化合物であると、基板表面に均一で、感度が高く、且つ耐熱性に優れる光配向膜を得ることができなお好ましい。更に、一般式（１）におけるＲ１及びＲ２がカルボキシル基またはそのアルカリ金属塩、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩又はヒドロキシメチル基が更に好ましく、カルボキシル基またはそのアルカリ金属塩が特に好ましい。
（化合物（２） 一般式（２−１）で表される化合物）
（２−１）
一般式（２−１）中、Ｒ11及びＲ12は各々独立して、ヒドロキシ、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表す。
Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、
Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１，Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13及びＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。
Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。
一般式（２−１）の化合物のうち、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４が炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基である化合物が好ましく、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４がヒドロキシメチル基である化合物が特に好ましい。
Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、
Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１，Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13及びＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。
Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。
一般式（２−１）の化合物のうち、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４が炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基である化合物が好ましく、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４がヒドロキシメチル基である化合物が特に好ましい。
（化合物（２） 一般式（２−２）で表される化合物）
一般式（２−２）中、Ｒ21及びＲ22は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基あるいは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ11及びＡ12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するベンゼン環を表す。但しスルホ基はアルカリ金属と塩を形成していても良い。
一般式（２−２）で表される化合物としては、Ｒ21及びＲ22が各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。
一般式（２−２）で表される化合物としては、Ｒ21及びＲ22が各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。
（化合物（２） 置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３））
置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）において、置換基である水酸基の数は特に限定はないが、３〜６が好ましく、６が最も好ましい。
置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）において、置換基である水酸基の数は特に限定はないが、３〜６が好ましく、６が最も好ましい。
これらの、一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）は、前記一般式（１）で表される化合物と、前記化合物（２）との比率が、１：０．２〜１：５の範囲となるように添加するのが好ましく、更に好ましくは１：０．５〜１：２の範囲が好ましい。なお、前記一般式（２）で表される化合物は、単体でも、一般式（２）で表される化合物の範囲内の異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
前記一般式（１）で表される化合物の例としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。
前記化合物（２−１）の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
前記化合物（２−２）の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
前記化合物置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）の例としては、例えば、下記構造の化合物が挙げられる。
一般式（１）で表される化合物は、水あるいは極性有機溶媒に高い溶解性を示し、かつガラス等に対して良好な親和性を示す。該化合物を水あるいは極性有機溶媒に溶解してなる光配向膜用組成物を、ガラス等の基板に塗布した後、水あるいは極性有機溶媒を除去するだけで、基板上に一様で、かつ安定な光配向膜用膜を形成することができる。
本発明の光配向膜用組成物を使用した光配向膜は、光学異方体作成時に使用する重合性液晶組成物の液晶配向膜として、好適に使用することができる。
（溶剤）
本発明で使用する光配向膜用組成物は、塗布性を良好にする目的で、通常溶媒を使用する。溶媒に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用する。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール等のジオール系溶剤、テトラヒドロフラン、２−メトキシエターノール、２−ブトキシエタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のエーテル系溶剤、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、ジメチルスルホキシド、等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、公知慣用の添加剤を添加してもよい。
通常、固形分比が０．２質量％以上となるように調製する。中でも０．５〜１０質量％となるように調製することが好ましい。
本発明で使用する光配向膜用組成物は、塗布性を良好にする目的で、通常溶媒を使用する。溶媒に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用する。例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブタンジオール等のジオール系溶剤、テトラヒドロフラン、２−メトキシエターノール、２−ブトキシエタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のエーテル系溶剤、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン、ジメチルスルホキシド、等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、本発明の効果を損なわない範囲で、公知慣用の添加剤を添加してもよい。
通常、固形分比が０．２質量％以上となるように調製する。中でも０．５〜１０質量％となるように調製することが好ましい。
（添加剤）
本発明で使用する光配向膜用組成物を均一に塗布し、膜厚の均一な光配向膜を得るために、汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤、等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
本発明で使用する光配向膜用組成物を均一に塗布し、膜厚の均一な光配向膜を得るために、汎用の添加剤を使用することもできる。例えば、レベリング剤、チキソ剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、表面処理剤、等の添加剤を液晶の配向能を著しく低下させない程度添加することができる。
（光配向膜、光配向膜を有する光学異方体あるいは光学素子の製造方法）
本発明の光配向膜用組成物を使用して光配向膜を得るには、該光配向膜用組成物を基板上に塗布乾燥した後に、紫外線、あるいは、可視光線等の異方性を有する光を照射し、一般式（１）で表される化合物を配向させる。
本発明の光配向膜用組成物を使用して光配向膜を得るには、該光配向膜用組成物を基板上に塗布乾燥した後に、紫外線、あるいは、可視光線等の異方性を有する光を照射し、一般式（１）で表される化合物を配向させる。
（塗布、基板）
本発明で使用する光配向膜用組成物を、基板上にスピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング法等、公知慣用の方法によって塗布または印刷し、乾燥させることにより光配向膜用膜を得る。使用する基板は、液晶表示素子や光学異方体に通常用いられる基板であって、光配向膜用組成物溶液の塗布後の乾燥時、あるいは液晶素子製造時における加熱に耐えうる耐溶剤性と耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基板としては、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板や高分子材料基板、等が挙げられる。高分子材料基板としては、セルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ナイロン、ポリスチレン等を用いることができる。光配向膜用組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基板の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基板表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設けても良い。
通常は、有機溶剤で希釈した溶液を塗布するので、塗布後は乾燥させ、光配向膜用膜を得る。
本発明で使用する光配向膜用組成物を、基板上にスピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング法等、公知慣用の方法によって塗布または印刷し、乾燥させることにより光配向膜用膜を得る。使用する基板は、液晶表示素子や光学異方体に通常用いられる基板であって、光配向膜用組成物溶液の塗布後の乾燥時、あるいは液晶素子製造時における加熱に耐えうる耐溶剤性と耐熱性を有する材料であれば、特に制限はない。そのような基板としては、ガラス基板、セラミックス基板、金属基板や高分子材料基板、等が挙げられる。高分子材料基板としては、セルロース誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ナイロン、ポリスチレン等を用いることができる。光配向膜用組成物の塗布性や接着性向上のために、これらの基板の表面処理を行っても良い。表面処理として、オゾン処理、プラズマ処理などが挙げられる。また、光の透過率や反射率を調節するために、基板表面に有機薄膜、無機酸化物薄膜や金属薄膜等を蒸着など方法によって設けても良い。
通常は、有機溶剤で希釈した溶液を塗布するので、塗布後は乾燥させ、光配向膜用膜を得る。
（光異性化工程）
前記方法により得た光配向膜用膜に、異方性を有する光を照射して液晶配向機能を付与（以下、光異性化工程と略す）して、光異性化した光配向膜用膜を作成する。光異性化工程で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
前記方法により得た光配向膜用膜に、異方性を有する光を照射して液晶配向機能を付与（以下、光異性化工程と略す）して、光異性化した光配向膜用膜を作成する。光異性化工程で使用する、異方性を有する光としては、直線偏光や楕円偏光等の偏光、もしくは基板面に対して斜めの方向から非偏光があげられる。偏光は直線偏光、楕円偏光のいずれでも良いが、効率よく光配向を行うためには、消光比の高い直線偏光を用いることが好ましい。
また、光照射装置において偏光を得るためには偏光フィルタ等を用いる必要があるので、膜面に照射される光強度が減少するといった欠点があるが、膜面に対して斜め方向から非偏光を照射する方法では、照射装置に偏光フィルタ等を必要とせず、大きな照射強度が得られ、光配向のための照射時間を短縮することができるという利点がある。このときの非偏光の入射角は基板法線に対して１０°〜８０°の範囲が好ましく、照射面における照射エネルギーの均一性、得られるプレチルト角、配向効率等を考慮すると、２０°〜６０°の範囲が更に好ましく、４５°が最も好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射する光は、使用する化合物の光配向性基が吸収を有する波長領域の光であれば良い。例えば光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、アゾベンゼンのπ→π＊遷移による強い吸収がある、波長３３０〜５００ｎｍの範囲の紫外線が特に好ましい。
照射光の光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等の紫外光源、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー、Ａｒイオンレーザー等の可視光レーザー等が挙げられる。特に光配向性基がアゾベンゼン構造を有する場合は、３６５ｎｍの紫外線の発光強度が特に大きい超高圧水銀ランプを有効に使用することができる。
前記光源からの光を偏光フィルタやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
前記光源からの光を偏光フィルタやグラントムソン、グランテ−ラ−等の偏光プリズムを通すことで紫外線の直線偏光を得ることができる。
また、偏光、非偏光のいずれを使用する場合でも、照射する光は、ほぼ平行光であることが特に好ましい。
また、偏光を照射する際に、フォトマスクを使用すれば、光配向膜にパターン状に２以上の異なった方向に液晶配向能を生じさせることができる。具体的には、本発明の光配向膜用組成物を塗布乾燥した後に、基板にフォトマスクを被せて全面に偏光もしくは非偏光を照射し、パターン状に露光部分に液晶配向能を与える。必要に応じてこれを複数回繰り返すことで、複数方向に液晶配向能を生じさせることができる。
さらに場合によっては、前記光異性化工程の後に光配向膜を冷却することもできる。冷却方法としては、光異性化した光配向膜用膜が冷却されればよく、例えば、コールドプレート、チャンバー、低温恒温器等、公知慣用の冷却装置で基板ごと冷却を行う。
冷却条件としては、冷却温度が２０℃で１分以上であるが、冷却温度が２０℃よりも低い場合は、その限りではない。冷却温度としては、用いる溶剤の融点以上であればよいが、通常−４０℃〜２０℃の範囲が好ましい。液晶配向機能が向上した、より安定な光配向膜を得るには１０℃以下が好ましく、冷却時間としては５分以上が好ましい。さらに冷却時間を短縮させるには冷却温度は５℃以下が好ましい。
また、結露防止のため、冷却をする際に乾燥空気や窒素、アルゴン雰囲気下で行ってもよいし、乾燥空気や窒素等を基板に吹きかけながら冷却してもよい。
冷却条件としては、冷却温度が２０℃で１分以上であるが、冷却温度が２０℃よりも低い場合は、その限りではない。冷却温度としては、用いる溶剤の融点以上であればよいが、通常−４０℃〜２０℃の範囲が好ましい。液晶配向機能が向上した、より安定な光配向膜を得るには１０℃以下が好ましく、冷却時間としては５分以上が好ましい。さらに冷却時間を短縮させるには冷却温度は５℃以下が好ましい。
また、結露防止のため、冷却をする際に乾燥空気や窒素、アルゴン雰囲気下で行ってもよいし、乾燥空気や窒素等を基板に吹きかけながら冷却してもよい。
（光学異方体）
本発明の光配向膜用組成物を使用して光学異方体を得るには、前記記載の光配向膜上に重合性液晶を塗布し、配向させた状態で重合させる。
重合性液晶組成物の重合操作は、光重合の場合は、前記光配向膜を作成する場合の重合操作と同様におこなえば良い。加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましく、２０℃〜３００℃が好ましく、３０℃〜２００℃がさらに好ましく、３０℃〜１２０℃が特に好ましい。また例えば、重合性基が（メタ）アクリロイル基である場合は、９０℃よりも低い温度で行うことが好ましい。
本発明の光配向膜用組成物を使用して光学異方体を得るには、前記記載の光配向膜上に重合性液晶を塗布し、配向させた状態で重合させる。
重合性液晶組成物の重合操作は、光重合の場合は、前記光配向膜を作成する場合の重合操作と同様におこなえば良い。加熱による重合は、重合性液晶組成物が液晶相を示す温度又はそれより低温で行うことが好ましく、特に加熱によりラジカルを放出する熱重合開始剤を使用する場合にはその開裂温度が上記の温度域内にあるものを使用することが好ましい。また該熱重合開始剤と光重合開始剤とを併用する場合には上記の温度域の制限と共に光配向膜と重合性液晶膜の両層の重合速度が大きく異なることの無い様に重合温度と各々の開始剤を選択することが好ましい。加熱温度は、重合性液晶組成物の液晶相から等方相への転移温度にもよるが、熱による不均質な重合が誘起されてしまう温度よりも低い温度で行うことが好ましく、２０℃〜３００℃が好ましく、３０℃〜２００℃がさらに好ましく、３０℃〜１２０℃が特に好ましい。また例えば、重合性基が（メタ）アクリロイル基である場合は、９０℃よりも低い温度で行うことが好ましい。
本発明で使用する光重合開始剤は公知慣用のものが使用できる。
３２０ｎｍ以下の紫外光で使用できる光重合開始剤としては１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）などが挙げられる。
また、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第３０１６６０６号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
３２０ｎｍ以下の紫外光で使用できる光重合開始剤としては１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア１８４」）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）などが挙げられる。
また、アゾベンゼン骨格が有する光の吸収帯とは異なる光吸収波長帯域を持つ光重合開始剤としては、例えば、特許第３０１６６０６号に記載の近赤外線吸収色素と有機ホウ素を組み合わせたもの等が挙げられる。
その他の光重合開始剤としては、例えば、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチル−１−［（メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプロパン−１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア９０７」）。ベンジルメチルケタ−ル（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製「イルガキュア６５１」）。２，４−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワ−ドプレキンソップ社製「カンタキュア−ＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」）、などが挙げられる。光重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
また、熱重合の際に使用する熱重合開始剤としては公知慣用のものが使用でき、例えば、メチルアセトアセテイトパ−オキサイド、キュメンハイドロパ−オキサイド、ベンゾイルパ−オキサイド、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パ−オキシジカ−ボネイト、ｔ−ブチルパ−オキシベンゾエイト、メチルエチルケトンパ−オキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパ−オキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｐ−ペンタハイドロパ−オキサイド、ｔ−ブチルハイドロパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、イソブチルパ−オキサイド、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パ−オキシジカ−ボネイト、１，１−ビス（ｔ−ブチルパ−オキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾニトリル化合物、２，２’−アゾビス（２−メチル−Ｎ−フェニルプロピオン−アミヂン）ジハイドロクロライド等のアゾアミヂン化合物、２，２’アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等のアゾアミド化合物、２，２’アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等のアルキル化合物等を使用することができる。熱重合開始剤の使用量は重合性液晶化合物に対して１０質量％以下が好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい
（重合性液晶組成物）
本発明で使用する重合性液晶組成物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物を含む液晶組成物である。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１４５８３０号公報に記載されているような、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−１４９５２２号公報に記載されているようなアリルエーテル基を有する棒状重号性液晶化合物、あるいは、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）や、特開平０７−１４６４０９号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、単独又は他の液晶化合物との組成物において液晶性を示す、重合性基を有する化合物を含む液晶組成物である。例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、特開２０００−１７８２３３号公報、特開２００２−３０８８３１号公報、特開２００２−１４５８３０号公報に記載されているような、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基といった重合性官能基とを有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物、 あるいは特開２００４−１４９５２２号公報に記載されているようなアリルエーテル基を有する棒状重号性液晶化合物、あるいは、例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌｓ （Ｄ． Ｄｅｍｕｓ， Ｊ． Ｗ． Ｇｏｏｄｂｙ， Ｇ． Ｗ． Ｇｒａｙ， Ｈ． Ｗ． Ｓｐｉｅｓｓ， Ｖ． Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ 社発行、１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編、１９９４年）や、特開平０７−１４６４０９号公報に記載されているディスコティック重合性化合物があげられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
（溶剤）
前記重合性液晶組成物に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、添加剤を添加することもできる。
前記重合性液晶組成物に使用する溶剤としては、特に限定はないが、前記化合物が良好な溶解性を示す溶媒が使用できる。例えば、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。また、添加剤を添加することもできる。
本発明の重合性液晶組成物は、重合性基を有していない液晶化合物を必要に応じて添加してもよい。しかし、添加量が多すぎると、得られた光学異方体から液晶化合物が溶出して積層部材を汚染する恐れがあり、加えて光学異方体の耐熱性が下がるおそれがあるので、添加する場合は、重合性液晶化合物全量に対して３０質量％以下とすることが好ましく、１５質量％以下がさらに好ましく、５質量％以下が特に好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、重合性基を有するが重合性液晶化合物ではない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で重合性モノマーあるいは重合性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下が更に好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物は、光学活性を有する化合物、すなわちキラル化合物を添加してもよい。該キラル化合物は、それ自体が液晶相を示す必要は無く、また、重合性基を有していても、有していなくても良い。また、キラル化合物の螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することができる。
具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社製の「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」、キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」などを挙げることができる。
キラル化合物を添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物の重合体の用途によるが、得られる重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量を添加することが好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好ましい。
具体的には、例えば、キラル基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、キラル基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社製の「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」、キラル基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」などを挙げることができる。
キラル化合物を添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物の重合体の用途によるが、得られる重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜１００の範囲となる量を添加することが好ましく、０．１〜２０の範囲となる量がさらに好ましい。
本発明で使用する重合性液晶組成物には、保存安定性を向上させるために安定剤を添加することもできる。安定剤として例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類等が挙げられる。添加する場合は、本発明の重合性液晶組成物に対して１質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。
本発明の光学異方体を、例えば、偏光フィルムや配向膜の原料、印刷インキ、塗料、又は保護膜等の用途に利用する場合には、本発明で使用する重合性液晶組成物にはその目的に応じて、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、又は酸化チタン等の金属酸化物、などを添加してもよい。
得られた光学異方体の耐溶剤特性や耐熱性の安定化のために、光学異方体を加熱エージング処理することもできる。この場合、前期重合性液晶膜のガラス転移点以上で加熱することが好ましい。通常は、５０〜３００℃が好ましく、８０〜２４０℃がさらに好ましい、１００〜２２０℃がさらに好ましい。
本発明の光学異方体は、基板から剥離して単体で光学異方体として使用することも、基板から剥離せずにそのまま光学異方体として使用することもできる。特に、他の部材を汚染し難いので、被積層基板として使用したり、他の基板に貼り合わせて使用したりするときに有用である。場合によっては、光学異方体を数層にわたり積層することもできる。その場合は前記工程を複数繰り返せばよく、光学異方体の積層体を形成することができる。
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
（光配向膜用組成物（１）の調製）
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物１部、化合物（２）として式（ｂ）で示される化合物１部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４８部に溶解させた後、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）５０部を加え溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１）を得た。
一般式（１）で表される化合物として式（ａ）で示される化合物１部、化合物（２）として式（ｂ）で示される化合物１部をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）４８部に溶解させた後、２−ブトキシエタノール（ＢＣ）５０部を加え溶液を作成した。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、光配向膜用組成物（１）を得た。
（光配向膜用組成物（２）〜（１４）の調製）
一般式（１）で表される化合物、化合物（２）の種類、配合（部）を変更した以外は、光配向膜用組成物（１）と同様にして光配向膜用組成物（２）〜（１４）を得た。該組成は表１に示すとおりである。
一般式（１）で表される化合物、化合物（２）の種類、配合（部）を変更した以外は、光配向膜用組成物（１）と同様にして光配向膜用組成物（２）〜（１４）を得た。該組成は表１に示すとおりである。
溶剤は全てＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）と２−ブトキシエタノール（ＢＣ）の１対１混合物である。化合物（ｃ）〜（ｇ）の構造は以下のとおりである。
（重合性液晶組成物（ＬＣ−１）の調整）
式（ｈ）で示される化合物１５部、式（ｉ）で示される化合物１５部をキシレン７０部に溶解させた後、イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製）１．２部、式（ｋ）で示されるアクリル共重合体０．３部を加え、溶液を得た。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を得た。
式（ｈ）で示される化合物１５部、式（ｉ）で示される化合物１５部をキシレン７０部に溶解させた後、イルガキュア９０７（チバスペシャリティケミカルズ（株）社製）１．２部、式（ｋ）で示されるアクリル共重合体０．３部を加え、溶液を得た。得られた溶液を０．４５μｍのメンブランフィルターでろ過し、重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を得た。
（配向性の評価方法）
光学異方体の配向性は、外観目視及び偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
光学異方体の配向性は、外観目視及び偏光顕微鏡観察することにより、５段階で評価した。
Ａ：目視で均一な配向が得られており、偏光顕微鏡観察でも欠陥が全くない
Ｂ：目視では均一な配向が得られているが、偏光顕微鏡観察での配向面積は９０〜１００％
Ｃ：目視ではＡ、Ｂ程の配向は得られていないが、偏光顕微鏡観察での配向面積は６０〜９０％
Ｄ：目視では無配向に近いが、偏光顕微鏡観察での配向面積は４０〜６０％
Ｅ：目視では無配向で、偏光顕微鏡観察での配向面積も４０％以下
（耐熱性の評価方法）
耐熱性は２３０℃、４時間加熱前後の光学異方体のリタデーションを測定（中央精機 ＤＩ４ＲＤ）し比較することにより評価した。加熱前のリタデーションをＲｅ１（nm）、加熱後のリタデーションをＲｅ２（nm）とし、加熱前のリタデーションに対する加熱後のリタデーションの比の百分率Ｒｅ％（％）（Ｒｅ％＝Ｒｅ２／Ｒｅ１×１００）を耐熱性の指標とした。耐熱性が良いほうがリタデーションの変化が少ないのでＲｅ％の値が大きいほうが耐熱性に優れるということになる。
耐熱性は２３０℃、４時間加熱前後の光学異方体のリタデーションを測定（中央精機 ＤＩ４ＲＤ）し比較することにより評価した。加熱前のリタデーションをＲｅ１（nm）、加熱後のリタデーションをＲｅ２（nm）とし、加熱前のリタデーションに対する加熱後のリタデーションの比の百分率Ｒｅ％（％）（Ｒｅ％＝Ｒｅ２／Ｒｅ１×１００）を耐熱性の指標とした。耐熱性が良いほうがリタデーションの変化が少ないのでＲｅ％の値が大きいほうが耐熱性に優れるということになる。
（光学異方体としての評価）
（実施例１）
光配向膜用組成物（１）をスピンコーターでガラス基板上に塗布し、１００℃で１分間乾燥した。このときの乾燥膜厚は２０ｎｍであった。
次に超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター及び偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：１０ｍＷ／ｃｍ２）の直線偏光でかつ平行光を、ガラス基板に対して垂直方向から照射し、配向させた。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ２であった。
得られた光配向膜上にスピンコーターで重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を塗布し、８０℃で１分乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して、ＬＣ−１を重合させ、光学異方体を得た。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、光学異方体の耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（実施例１）
光配向膜用組成物（１）をスピンコーターでガラス基板上に塗布し、１００℃で１分間乾燥した。このときの乾燥膜厚は２０ｎｍであった。
次に超高圧水銀ランプに波長カットフィルター、バンドパスフィルター及び偏光フィルターを介して、波長３６５ｎｍ付近の可視紫外光（照射強度：１０ｍＷ／ｃｍ２）の直線偏光でかつ平行光を、ガラス基板に対して垂直方向から照射し、配向させた。照射量は５００ｍＪ／ｃｍ２であった。
得られた光配向膜上にスピンコーターで重合性液晶組成物（ＬＣ−１）を塗布し、８０℃で１分乾燥後、窒素雰囲気下で紫外線を１Ｊ／ｃｍ２照射して、ＬＣ−１を重合させ、光学異方体を得た。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、光学異方体の耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（実施例２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７５％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７５％と耐熱性に優れていた。
（実施例３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
（実施例４）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７８％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（４）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７８％と耐熱性に優れていた。
（実施例５）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（５）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６８％と耐熱性に優れていた。
（実施例６）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７３％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（６）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７３％と耐熱性に優れていた。
（実施例７）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（７）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６９％と耐熱性に優れていた。
（実施例８）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（８）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（実施例９）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６５％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（９）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６５％と耐熱性に優れていた。
（実施例１０）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１０）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝６７％と耐熱性に優れていた。
（実施例１１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１１）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（実施例１２）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７５％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１２）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７５％と耐熱性に優れていた。
（実施例１３）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに（１３）を使用した以外は実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることができた。また、そのときの耐熱性の評価結果はＲｅ％＝７０％と耐熱性に優れていた。
（比較例１）
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１４）を使用した以外は、実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることがわかったが、この光学異方体の耐熱性の評価結果はＲｅ％＝５９％であり、耐熱性に劣ることがわかった。
光配向膜用組成物として（１）の代わりに、光配向膜用組成物（１４）を使用した以外は、実施例１と同様に光学異方体を作製した。その結果配向性はＡであり、５００ｍＪ／ｃｍ２という少ない照射量で良配向を得ることがわかったが、この光学異方体の耐熱性の評価結果はＲｅ％＝５９％であり、耐熱性に劣ることがわかった。
Claims (3)
- 一般式（１）で表される化合物と、一般式（２−１）で表される化合物、一般式（２−２）で表される化合物及び置換基として水酸基を有するトリフェニレン誘導体（２−３）からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（２）とを含むことを特徴とする光配向膜用組成物。
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ５（ただしＲ５は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基、−ＣＯＮＲ６Ｒ７（ただしＲ６及びＲ７は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表し、Ｒ３及びＲ４は各々独立して、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシル基を表す。）
（２−１）
（一般式（２−１）中、Ｒ11及びＲ12は各々独立して、ヒドロキシル基、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、Ｘ11は、Ｒ11がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ11が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、Ｘ12は、Ｒ12がヒドロキシル基の場合、単結合を表し、Ｒ12が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ11に結合するものとし、Ａ２はＲ1２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して１〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１、Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
Ｒ13及びＲ14は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ17（ただしＲ17は、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシルアルキル基又は−ＣＯＮＲ18Ｒ19（Ｒ18及びＲ19は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。
Ｒ15及びＲ16は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。）
（２−２）
（一般式（２−２）中、Ｒ21及びＲ22は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基又は炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ11及びＡ12は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基若しくはそのアルカリ金属塩を有するベンゼン環を表す。） - 前記一般式（１）で表される化合物と、前記化合物（２）との比率が、１：０．１ 〜１：１０の範囲である請求項１に記載の光配向膜用組成物。
- 液晶配向膜上に作成した重合性液晶組成物の膜を配向させた状態で重合させて得られる光学異方体であって、該液晶配向膜が、請求項１に記載の光配向膜用組成物の膜を配向させて得られたものであることを特徴とする光学異方体。
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