JPH0894835A - 光学補償シートの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 円盤状化合物より成る液晶表示素子の視野角
を広くすることが出来る光学補償シ−トの製造方法を提
供する。 【構成】少なくとも、支持体、およびその上に円盤状化
合物を含む層を有し、その層が光学的に負の一軸性で、
光軸がシ−ト面の法線方向から傾いている光学補償シ−
トの製造方法であって、ネマチック形成温度が室温から
３００℃の範囲にあるディスコティク液晶を含む層を、
２００℃以下の温度で、３００秒以下の時間加熱して均
一配向させる工程を含む光学補償シ−トの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも円盤状化合
物から成る光学補償シートの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】日本語ワードプロセッサやデスクトップ
パソコン等のＯＡ機器の表示装置の主流であるＣＲＴ
は、薄型軽量、低消費電力という大きな利点をもった液
晶表示素子に変換されてきている。現在普及している液
晶表示素子（以下ＬＣＤと称す）の多くは、ねじれネマ
ティック液晶を用いている。このような液晶を用いた表
示方法としては、複屈折モードと旋光モードとの２つの
方式に大別できる。

【０００３】複屈折モードを用いたＬＣＤは、液晶分子
配列のねじれ角が９０゜以上ねじれたもので、急峻な電
気光学特性をもつ為、能動素子（薄膜トランジスタやダ
イオード）が無くても単純なマトリックス状の電極構造
で時分割挙動により大容量の表示が得られる。しかし、
応答速度が遅く（数百ミリ秒）、階調表示が困難という
欠点を持ち、能動素子を用いた液晶表示素子（ＴＦＴ−
ＬＣＤやＭＩＭ−ＬＣＤなど）の表示性能を越えるまで
には到らない。

【０００４】ＴＦＴ−ＬＣＤやＭＩＭ−ＬＣＤには、液
晶分子の配列状態が９０゜ねじれた旋光モードの表示方
式（ＴＮ型液晶表示素子）が用いられている。この表示
方式は、応答速度が速く（数十ミリ秒）、容易に白黒表
示が得られ、高い表示コントラストを示すことから他の
方式のＬＣＤと比較して最も有力な方式である。しか
し、ねじれネマティック液晶を用いているため、表示方
式の原理上、見る方向によって表示色や表示コントラス
トが変化するといった視角特性上の問題点があり、ＣＲ
Ｔの表示性能を越えるまでには到らない。

【０００５】特開平４−２２９８２８号、特開平４−２
５８９２３号公報などに見られるように、一対の偏光板
とＴＮ型液晶セルの間に、位相差フィルムを配置するこ
とによって視野角を拡大しようとする方法が提案されて
いる。上記特許公報で提案された位相差フィルムは、液
晶セルに対して、垂直な方向に位相差がほぼゼロのもの
であり、真正面からはなんら光学的な作用を及ぼさず、
傾けたときに位相差が発現し、液晶セルで発現する位相
差を補償しようというものである。しかし、これらの方
法によってもＬＣＤの視野角はまだ不十分であり、更な
る改良が望まれている。特に、車載用や、ＣＲＴの代替
として考えた場合には、現状の視野角では全く対応でき
ないのが現状である。

【０００６】また、特開平４−３６６８０８号、特開平
４−３６６８０９号公報では、光学軸が傾いたカイラル
ネマティック液晶を含む液晶セルを位相差フィルムとし
て用いて視野角を改良しているが、２層液晶方式となり
コストが高く、非常に重いものになっている。さらに特
開平５−８０３２３号公報に、液晶セルに対して、光軸
が傾斜している位相差フィルムを用いる方法が提案され
ているが、一軸性のポリカーボネートを斜めにスライス
して用いているため、大面積の位相差フィルムを、低コ
ストで得難いという問題点があった。

【０００７】特開平５−２１５９２１号公報において
は、一対の配向処理された基板に硬化時に液晶性を示す
棒状化合物を挟持した形態の複屈折板によりＬＣＤの光
学補償をする案が提示されているが、この案では従来か
ら提案されているいわゆるダブルセル型の補償板と何等
変わることがなく、大変なコストアップになり、事実上
大量生産には向かない。さらに棒状化合物を使用する限
りは、後に述べる光学的理由によりその複屈折板ではＴ
Ｎ型ＬＣＤの全方位の視野角改善は不可能である。

【０００８】更に、特開平５−８０３２３号、特開平５
−１５７９１３号、特開平４−１１３３０１号、ＥＰ０
５７６３０４Ａ１明細書には、一対の偏光板と液晶セル
との間に、光軸がフィルム面に対して垂直でもなく、平
行でもない光学異方素子を配置することによって、視野
角を拡大しようとする方法が提案されている。しかし、
これら公報に記載の製造方法では、大量、かつ低コスト
で該光学異方素子を製造することは非常に困難であっ
た。

【０００９】一方、本発明者は、特願平６−１２６５２
１号明細書により、面配向性の透明フィルム上に光軸が
斜めに配向した円盤状化合物が形成され、これら２つの
層の異なる光学特性の相互作用により光学補償シートと
して有用であることを示した。この発明においては、円
盤状化合物が傾斜配向した層を得るために、ディスコテ
ィック液晶を、配向膜を塗設した透明フィルム上で、加
熱配向させ、冷却または架橋反応により固定化してい
る。一般に、このディスコティック液晶のネマチック形
成温度は、構造によってまちまちであるが、その大半は
２００℃以上と高い。また、該ネマチック均一配向（モ
ノドメイン）に要する時間も、５分以上と長い。このた
め、配向膜の配向能が低下したり、支持体である、後述
の面配向性透明フィルムが変形したり、光学特性が変化
したり、あるいは黄変するといった問題点があり、光学
補償シ−トの品位を劣化させていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は従来のＬＣＤの視角特性を著しく改善する、円盤状化
合物より成る光学補償シ−トの製造方法において、該ネ
マチック形成を低温・短時間化することが課題である。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究を重
ねた結果、 （１）少なくとも、支持体、及びその上に円盤状化合物
を含む層を有し、その層が光学的に負の一軸性で、光軸
がシ−ト面の法線方向から傾いている光学補償シ−トの
製造方法において、ネマチック形成温度が室温から３０
０℃の範囲にあるディスコティック液晶を含む層を、２
００℃以下（５０℃以上、好ましくは８０℃以上、特に
好ましくは１２０℃以上）の温度で３００秒以下（１０
秒以上、好ましくは５０秒以上、特に好ましくは１００
秒以上）の時間加熱して均一に配向させる工程を含む事
を特徴とする光学補償シ−トの製造方法。

【００１２】（２）少なくとも、ディスコティック液晶
を含む層に、該ディスコティック液晶よりも低い融点を
持つ化合物が更に含まれていることを特徴とする（１）
に記載の光学補償シ−トの製造方法。 （３）ディスコティック液晶よりも低い融点を持つ該化
合物が、反応活性な官能基を有することを特徴とする
（２）に記載の光学補償シ−トの製造方法。 により本発明が達成されることを見出した。

【００１３】本発明により、以下のように、上記課題が
達成された。このディスコティック液晶に該ディスコテ
ィック液晶よりも融点の低い化合物をブレンドするこに
より、この混合系の融点は下がり、その分、低温で該デ
ィスコティック液晶分子が動けるようになり、結果とし
てネマチック形成温度が下がり、モノドメイン形成時間
が短くなることを見出した。該化合物のブレンドの割合
は、シ−ト上での固形分比にして、２ｗｔ％乃至７５ｗ
ｔ％が好ましく、５ｗｔ％乃至５０ｗｔ％が、更に好ま
しい。また、このような効果をもたらすものは、一般に
低沸点有機溶媒として知られているものも含まれ、シ−
ト上には殆ど存在しなくとも、上述のネマチック配向形
成時に、塗布液の状態の０．５ｗｔ％乃至７５ｗｔ％が
含まれているものでも良い。さて、これら化合物には、
特に制限はないが、光学補償シ−トとしての耐熱性の観
点からは、該低分子化合物が反応活性な官能基を有する
ことや、上述のように、ネマチック配向形成時にその殆
どが揮発してしまうような化合物であることが好まし
い。

【００１４】本発明の反応活性な官能基とは、具体的に
はイソシアナート基、チオシアナート基、アミノ基、ア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、メルカプト基、ホ
ルミル基、アシル基、水酸基、カルボキシル基、スルホ
基、ホスホリル基、ハロカルボニル基、ハロスルホニル
基、ハロホスホリル基、アクリロイル基、ビニルオキシ
基、エポキシ基、プロパギル基を表す。好ましくは、メ
ルカプト基、ホルミル基、水酸基、ハロカルボニル基、
アクリロイル基、ビニルオキシ基、エポキシ基である。
より好ましくは水酸基、アクリロイル基である。

【００１５】本発明の化合物は、上述の官能基を１つ以
上有するものであれば特に限定はなく、ディスコティッ
ク液晶化合物との架橋反応を考えた場合、２つ以上の官
能基を有することが更に好ましい。２つ以上の官能基を
有する化合物には、上述の反応性置換基を有するディス
コティック液晶化合物も含まれ、ネマチック配向能を考
慮すると、そうであることが好ましい。

【００１６】以下に、本発明を詳しく説明する。本発明
のディスコティック液晶化合物とは、一般的に、ベンゼ
ンや１，３，５−トリアジン、カリックスアレーンなど
のような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル
基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側
鎖として放射状に置換された構造を指すものである。

【００１７】ディスコティック液晶化合物として代表的
なものは例えば、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、
Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１
１１頁（１９８１年）に記載されている、ベンゼン誘導
体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロ
シアニン誘導体や、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎ
ｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記
載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎら
の研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍ
ｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇ
らの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６
巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザク
ラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが挙げ
られる。本発明に好ましい具体的な化合物例を示すと下
記のようになる。

【００１８】

【化１】

【００１９】

【化２】

【００２０】

【化３】

【００２１】特に、これらディスコティック液晶化合物
のなかで、ネマチック配向をとりやすいトリフェニレン
誘導体を用いることが好ましい。また、光学補償シ−ト
としての耐熱性を考慮すると、これらディスコティック
液晶化合物の放射状側鎖の末端に反応性の置換基を有す
ることが好ましい。これら化合物の例を下記に示すが、
これに限定されるものではない。

【００２２】

【化４】

【００２３】

【化５】

【００２４】

【化６】

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】

【化９】

【００２８】

【化１０】

【００２９】

【化１１】

【００３０】これらディスコティク液晶化合物は、配向
膜を用いることにより、該配向膜上への塗布、加熱配
向、冷却の操作だけで、モノドメイン性が得られ、それ
のみならず、しばしばその薄膜の光軸が傾斜した異方性
膜が得られることがわかった。

【００３１】配向膜としては、無機または有機の配向膜
用いられてる。金属斜方蒸着膜としてはＳｉＯ斜方蒸着
膜が、また有機配向膜としてはラビングされたポリイミ
ド膜が代表的なものであるが、その他ラビングしたアル
キル変性ポバールやラビングしたシリル化剤で処理した
ガラス基板またはラビングしたゼラチン膜などが用いら
れる。しかし、ラビングする代わりにポリビニルアルコ
ールの薄膜を４〜５倍に延伸したり、特別に上記の保護
膜を設けないで直接ガラス基板をラビングするなどの方
法も用いることができる。

【００３２】本発明の光学補償シ−トは、高温状態（８
０℃以上）にも耐えうる耐熱性を備えていることが好ま
しく、その場合には、前述の反応性の置換基を有するデ
ィスコティック液晶化合物を用いることが好ましい。こ
れら反応性の置換基を有するディスコティック液晶化合
物、または該ディスコティック液晶化合物と反応性の置
換基を有する低分子化合物を重合、または架橋する場合
には、本発明の透明フィルムに塗設した後、該透明フィ
ルム上で行われることが好ましい。従って、少なくとも
片方の界面が気相と接した状態即ち一般的な塗布法によ
り適当な支持体上に該液晶薄膜を形成し、乾燥後、液晶
相形成温度範囲内の温度、及び時間で、ネマティック相
を形成させ、そのまま続いて熱重合させるかまたは光架
橋重合させて後冷却することによって所望の光学特性を
もち、かつ熱的耐久性の高い光学異方性材料を得ること
ができる。

【００３３】本発明で用いられる重合の過程は、一般
に、液晶が好ましい光学異方性を示す、すなわち配向膜
上で加熱によりモノドメインの一軸配向の状態になって
から行われる。エポキシ基の場合は、紫外線によるカチ
オン型の重合も可能であるが、短時間での配向後、さら
に数十度昇温し、熱重合によって固定することができ
る。しかし、紫外線による光重合開始剤を用いるラジカ
ル重合やカチオン重合は一般に極めて重合速度が大き
く、製造工程では生産性の点で好ましい。

【００３４】本発明における光重合開始剤としては、ベ
ンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チ
オキサントン類等を挙げることができる。これらの詳細
については「紫外線硬化システム」（１９８９年 総合
技術センタ−）の６３〜１４７ペ−ジ等に記載されてい
る。また、酸素による重合阻害を抑制するために、窒素
雰囲気下で光照射することも効果的である場合が多い。

【００３５】エポキシ基の重合には、紫外線活性化カチ
オン触媒として、アリルジアゾニウム塩（ヘキサフルオ
ロフォスフェート、テトラフルオロボラート）、ジアリ
ルヨードニウム塩、VIa族アリロニウム塩（ＰＦ6，Ａｓ
Ｆ6，ＳｂＦ6のようなアニオンをもつアリルスルホニウ
ム塩）が好ましく用いられる。

【００３６】また光重合用の光線としては、電子線、紫
外線、可視光線、赤外線（熱線）を必要に応じて用いる
事ができるが、一般的には、紫外線が用いられる。その
光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミ
カルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧
水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク
放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀
キセノンランプ）が挙げられる。

【００３７】本発明のベンゾイルオキシトリフェニレン
環化合物の場合は、一般的に〜２７０ｎｍにλｍａｘを
有し、その分子吸光係数も大きいため、２５４ｎｍなど
の短波の紫外線は有効には用いられない。従って、光重
合開始剤も下記の近紫外に吸収帯を持つ化合物が好まし
く用いられ、光源も高圧水銀ランプやメタルハライドラ
ンプなど近紫外光を強く放射できるものが好ましく用い
られる。

【００３８】本発明における光学補償シ−トは、面配向
性の透明フィルム上に、前述の斜め配向したディスコテ
ィック液晶化合物を塗設したものであり、これら２つの
層の異なる光学特性の相互作用により、より高度な補償
を可能としている。ＴＦＴ、ＴＮ型液晶セルの視野角特
性を大幅に改善する条件としては、光学補償シ−トのレ
タ−デ−ション値の極小値の方向がシート面の法線方向
から５度〜５０度傾いていることが好ましく、１０度〜
３０度が最も好ましい。

【００３９】本発明の透明フィルムは光透過率が良好で
あることが好ましい。具体的には、光の透過率が８０％
以上、更には９０％以上であることが好ましい。従っ
て、ゼオネックス（日本ゼオン）、ＡＲＴＯＮ（日本合
成ゴム）、フジタック（富士フィルム）などの商品名で
売られている固有複屈折値が小さい素材から形成された
支持体が好ましい。しかし、ポリカーボネート、ポリア
クリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等の
固有複屈折値が大きな素材であっても、製膜時に分子配
向を制御することによって光学的に等方的な支持体を形
成することも可能であり、それらも好適に利用される。
具体的には、式（２）で示されるＲｅ値の範囲が、２０
ｎｍ乃至３００ｎｍ，更に好ましくは３０ｎｍ乃至１５
０ｎｍである。この面配向の条件を満たすことにより、
視角特性の改善に著しい効果をもたらす。

【００４０】本発明の円盤状化合物を含む層上に保護層
を設けても良く、具体例としては、例えば、ポリメチル
メタアクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合
体、スチレン・無水マレイミド共重合体、ポリビニルア
ルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・
ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレ
ン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩
化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質；及びシランカップリング剤などの有機物質を
挙げることができる。また、ω−トリコサン酸、ジオク
タデシルジメチルアンモニウムクロライド及びステアリ
ン酸メチルなどのラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ
法）により形成される累積膜も用いることができる。

【００４１】

【実施例】次に本発明を実施例に基づき説明する。 実施例１ ゼラチン薄膜（０．１μｍ）を塗設したトリアセチルセ
ルロ−スの８５μｍ厚フィルム（富士写真フィルム
（株）製）を透明支持体とし、その上に長鎖アルキル変
性ＰＶＡ（クラレ（株）製 ＭＰ−２０３）を塗設し、
温風にて乾燥させた後、ラビング処理を行い、配向膜を
形成した。この配向膜上に、ＴＰ−５３；１５ｗｔ％Ｔ
Ｍ−１；５ｗｔ％、セルロ−スアセテ−トブチレ−ト
（ＣＡＢ５３１−１，イ−ストマンケミカル社製）；
０．５ｗｔ％のメチルエチルケトン溶液に０．５ｗｔ％
の光重合開始剤イルガキュア−９０７（チバガイギ−社
製）を加え、バ−コ−タ−で塗布した。これを、乾燥
後、１２５℃まで加熱し、４分後に、紫外線照射装置
（ＵＬＴＲＡ−ＶＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製Ｕ
ＶＳＬ−５８）を使用し２分間露光したのち、室温まで
冷却することにより光学補償シ−トＲＦ−１を作製し
た。

【００４２】実施例２ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−５３；１８ｗｔ
％，ＴＭ−２；２ｗｔ％、のメチルエチルケトン溶液に
０．５ｗｔ％の光重合開始剤イルガキュア−９０７（チ
バガイギ−社製）を加え、バ−コ−タ−で塗布した。こ
れを、乾燥後、９５℃まで加熱し、１分後に、紫外線照
射装置（ＵＬＴＲＡ−ＶＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ
社製ＵＶＳＬ−５８）を使用し２分間露光したのち、室
温まで冷却することにより光学補償シ−トＲＦ−２を作
製した。

【００４３】実施例３ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−５３；１８ｗｔ
％，ＴＭ−３；２ｗｔ％、のメチルエチルケトン溶液に
０．５ｗｔ％の光重合開始剤イルガキュア−９０７（チ
バガイギ−社製）を加え、バ−コ−タ−で塗布した。こ
れを、乾燥後、１１５℃まで加熱し、１分後に、紫外線
照射装置（ＵＬＴＲＡ−ＶＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴ
Ｓ社製ＵＶＳＬ−５８）を使用し２分間露光したのち、
室温まで冷却することにより光学補償シ−トＲＦ−３を
作製した。

【００４４】実施例４ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−５３；１５ｗｔ
％，ＴＰ−４５；５ｗｔ％、のメチルエチルケトン溶液
に０．５ｗｔ％の光重合開始剤イルガキュア−９０７
（チバガイギ−社製）を加え、バ−コ−タ−で塗布し
た。これを、乾燥後、１３５℃まで加熱し、３分後に、
紫外線照射装置（ＵＬＴＲＡ−ＶＩＯＬＥＴＰＲＯＤＵ
ＣＴＳ社製ＵＶＳＬ−５８）を使用し２分間露光したの
ち、室温まで冷却することにより光学補償シ−トＲＦ−
４を作製した。

【００４５】実施例５ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−３２；２０ｗｔ％
のメチルエチルケトン溶液に０．５ｗｔ％の光重合開始
剤イルガキュア−９０７（チバガイギ−社製）を加え、
バ−コ−タ−で塗布した。これを、未乾燥のまま、１３
０℃まで加熱し、４分後に、紫外線照射装置（ＵＬＴＲ
Ａ−ＶＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製ＵＶＳＬ−５
８）を使用し２分間露光したのち、室温まで冷却するこ
とにより光学補償シ−トＲＦ−５を作製した。

【００４６】比較例１ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−５３；２０ｗｔ％
のメチルエチルケトン溶液に０．５ｗｔ％の光重合開始
剤イルガキュア−９０７（チバガイギ−社製）を加え、
バ−コ−タ−で塗布した。これを、乾燥後、１４０℃ま
で加熱し、５分後に、紫外線照射装置（ＵＬＴＲＡ−Ｖ
ＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製ＵＶＳＬ−５８）を
使用し２分間露光したのち、室温まで冷却することによ
り光学補償シ−トＲＦ−６を作製した。

【００４７】比較例２ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−５３；２０ｗｔ％
のメチルエチルケトン溶液に０．５ｗｔ％の光重合開始
剤イルガキュア−９０７（チバガイギ−社製）を加え、
バ−コ−タ−で塗布した。これを、乾燥後、１７５℃ま
で加熱し、１０分後に、紫外線照射装置（ＵＬＴＲＡ−
ＶＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製ＵＶＳＬ−５８）
を使用し２分間露光したのち、室温まで冷却することに
より光学補償シ−トＲＦ−７を作製した。

【００４８】比較例３ 実施例１と同様の配向膜上に、ＴＰ−３２；２０ｗｔ％
のメチルエチルケトン溶液に０．５ｗｔ％の光重合開始
剤イルガキュア−９０７（チバガイギ−社製）を加え、
バ−コ−タ−で塗布した。これを、乾燥後、１３０℃ま
で加熱し、４分後に、紫外線照射装置（ＵＬＴＲＡ−Ｖ
ＩＯＬＥＴ ＰＲＯＤＵＣＴＳ社製ＵＶＳＬ−５８）を
使用し２分間露光したのち、室温まで冷却することによ
り光学補償シ−トＲＦ−８を作製した。

【００４９】

【化１２】

【００５０】光学補償シ−ト上でのディスコティック液
晶化合物のネマチック配向性については、偏光顕微鏡で
観察し、該光学補償シ−トの光学特性については、島津
製作所製エリプソメーターＡＥＰ−１００を用いて、該
シ−トのＲｅ値の極小値の方向を測定値より計算して求
めた。ちなみに、該円盤状化合物の配向処理前の透明支
持体の面配向性Ｒｅ値は７０ｎｍであり、光軸はフィル
ム法線の方向である。更に、配向処理後の面配向性Ｒｅ
値を、円盤状化合物層を破壊することにより測定した。
また、Ｒｅ値が０となる方向を調べたところ、すべての
光学補償シ−トでそれが存在していないことがわかっ
た。これらの結果を表１にまとめた。

【００５１】

【表１】

【００５２】（液晶表示素子への組込み）一対の偏光素
子の間に、ネマチック液晶が９０°の捻れ角で、かつ
４．５μのギャップサイズとなる様に挟み込まれた液晶
セルを有し、この偏光素子と液晶セルとの間に、上記実
施例で作成した光学補償シ−トを、２枚積層して組込ん
だ液晶表示素子を作成した。但し液晶セルの下側のラビ
ング方向と、上側の光学異方素子のｎγのフィルム面へ
の投影方向、および液晶セルの上側のラビング方向と、
下側の光学異方素子のｎγのフィルム面への投影方向と
は一致させてある。また偏光素子の偏光軸は直交させて
あり、ノーマリーホワイトモードのＴＮ型液晶表示素子
とした。

【００５３】このＴＮ型液晶表示に５５Ｈｚの矩形波の
電圧を印加し、正面方向および上／下および左／右方向
へ傾いた方向からのコントラストを、大塚電子製ＬＣＤ
−５０００を用いて測定し、正面コントラストおよびコ
ントラストが１０以上となる上／下および左／右の視野
角を求め、表２にまとめた。

【００５４】

【表２】

【００５５】表１、２から明らかな様に、本発明の光学
補償シ−トは、視野角を広げる効果があり、かつ耐熱性
に著しく優れたものであることがわかる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも、支持体、及びその上に円盤
   状化合物を含む層を有し、その層が光学的に負の一軸性
   で、光軸がシ−ト面の法線方向から傾いている光学補償
   シ−トの製造方法であって、ネマチック形成温度が室温
   から３００℃の範囲にあるディスコティック液晶を含む
   層を、２００℃以下の温度で３００秒以下の時間加熱し
   て均一に配向させる工程を含む事を特徴とする光学補償
   シ−トの製造方法。
2. 【請求項２】 少なくとも、ディスコティック液晶を含
   む層に、該ディスコティック液晶よりも低い融点を持つ
   化合物が更に含まれていることを特徴とする請求項１に
   記載の光学補償シ−トの製造方法。
3. 【請求項３】 ディスコティック液晶よりも低い融点を
   持つ該化合物が、反応活性な官能基を有することを特徴
   とする請求項２に記載の光学補償シ−トの製造方法。