JP2008071986A - 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画装置の評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームをフレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で、副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記副偏向により電子ビームの照射位置を移動させる際のセトリング時間は、サブフィールドの偏向量に応じて電子ビームの照射位置のずれ量が一定の値となるために必要な時間であることを特徴とする電子ビーム描画装置を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】図3
Description
本発明における一実施の形態を以下に記載する。
本実施の形態における電子ビーム描画装置の描画方法について説明する。
第2の実施の形態は、電子ビーム描画装置における位置精度の評価方法である。具体的には、副偏向器における電子ビームの照射位置の評価方法、即ち、サブフィールドにおける照射位置の評価方法である。
この場合、電子ビームの照射位置は、交互に直線C、直線D上の照射位置に移動させた後照射を行う。図7の場合においては、電子ビームの移動量は毎回変動し、また、電子ビームの偏向量は電子ビームの照射する度に大きくなる。よって、セトリング時間を一定にした場合では、電子ビームの照射位置は、本来の所望の照射位置からは、次第にずれた位置に照射される。このため次の電子ビームの照射は、この位置を基準として偏向が行われるため、電子ビームの照射位置のエラー量は、前の電子ビームの照射位置のずれ量を含んだ値となり、セトリング時間とエラー量との関係を直接的に把握することができない。
Claims (6)
- 描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームをフレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で、副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置において、
前記副偏向により電子ビームの照射位置を移動させる際のセトリング時間は、
サブフィールドの偏向量に応じて電子ビームの照射位置のずれ量が一定の値となるために必要な時間であることを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームをフレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で、副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置において、
サブフィールドにおける副偏向の偏向量を算出するサブフィールド偏向量算出部と、
前記副偏向の偏向量に基づき電子ビームの照射位置のずれ量が一定の値となるために必要な時間をセトリング時間とするセトリング時間決定部と、
を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 前記照射位置ずれ量は、前記サブフィールド内における位置ずれ量の最大値を1とした場合に、1/20以上、1/10以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の電子ビーム描画装置。
- 描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームをフレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で、副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置の評価方法において、
前記評価方法において用いられる電子ビームの照射パターンが、略垂直に交差する2本の直線上に配列されており、
前記直交する位置を基点として、前記位置に電子ビームを照射し、
その後、前記照射位置に隣接する前記照射パターンの一方の直線上における照射位置に電子ビームを移動させ照射する第1照射工程と、
その後、前記照射パターンの他方の直線上における照射位置に電子ビームを移動させ照射する第2照射工程と、
その後、前記照射位置に隣接する前記照射パターンの前記他方の直線上における照射位置に電子ビームを移動させ照射する第3照射工程と、
その後、前記照射パターンの前記一方の直線上における照射位置に電子ビームを移動させ照射する第4照射工程と、
前記照射パターンと実際に電子ビームの照射された位置の誤差を測定することにより、サブフィールドにおける偏向位置のずれ量を測定することを特徴とする電子ビーム描画装置の評価方法。 - 前記第2照射工程における電子ビームの偏向量よりも、前記第1照射工程における電子ビームの偏向量が小さく、
前記第4照射工程における電子ビームの偏向量よりも、前記第3照射工程における電子ビームの偏向量が小さいことを特徴とする請求項4に記載の電子ビーム描画装置の評価方法。 - 描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームをフレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で、副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置の評価方法において、
前記パターンに複数回電子ビームを照射する際、奇数回或いは偶数回のどちらか一方の電子ビームの最小の偏向量に対し、他方におけるすべての電子ビームの偏向量が小さいことを特徴とする電子ビーム描画装置の評価方法。
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