JP2008065910A - マスター記録媒体、磁気転写方法、磁気転写装置、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 磁気転写された磁気記録媒体において良好な再生信号を得る。
【解決手段】 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の７５〜１０５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．３〜１．９倍であることを特徴とするマスター記録媒体を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】 図１０

Description

本発明は、マスター記録媒体、磁気転写方法、磁気転写装置、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置に関するものであり、特に、垂直磁気記録媒体において、良好な再生信号を得ることができるマスター記録媒体、このマスター記録媒体を用いた磁気転写方法、磁気転写装置、及び、これにより作製された磁気記録媒体、磁気転写方法に関するものである。

近年、磁気記録再生装置は、小型でかつ大容量を実現するために、記録密度の高密度化の傾向にあり、特に、代表的な磁気記憶装置であるハードディスクドライブの分野では、技術の進歩が急激である。

このような情報量の増加に伴い、多くの情報を記録することができる大容量で、安価で、かつ、好ましくは短時間で必要な箇所が読み出せる、いわゆる高速アクセスが可能な高密度磁気記録媒体が望まれている。これらの高密度磁気記録媒体は、情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅において正確に磁気ヘッドを走査させて高いＳ／Ｎで信号を再生するために、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。このトラッキングサーボを行うために、従来よりセクターサーボ方式が広く採用されている。

セクターサーボ方式とは、磁気ディスク等の磁気記録媒体のデータ面に、一定角度等で正しく配列されたサーボフィールドに、トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス情報信号、再生クロック信号等のサーボ情報を記録しておき、磁気ヘッドが、このサーボフィールドを走査してサーボ情報を読み取り自らの位置を確認しつつ修正する方式である。

サーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要があり、現在は専用のサーボ記録装置を用いてプリフォーマットが行われている。現在用いられているサーボ記録装置は、例えばトラックピッチの７５％程度のヘッド幅を有する磁気ヘッドを備え、磁気ヘッドを磁気ディスクに近接させた状態で、磁気ディスクを回転させつつ、１／２トラック毎に磁気ディスクの外周から内周に移動させつつサーボ信号を記録する。そのため、１枚の磁気ディスクのプリフォーマット記録に長時間を要し、生産効率の点で問題があり、コストアップの要因となっている。

このため、特許文献１、２では、プリフォーマットを正確にかつ効率的に行う方法として、サーボ情報に対応したパターンが形成されているマスター記録媒体の情報を磁気記録媒体に磁気転写する方法が開示されている。

この磁気転写は、転写用磁気ディスク等の磁気記録媒体（スレーブ媒体）に転写すべき情報に応じて凹凸パターンからなる転写パターンを有するマスター記録媒体を用い、このマスター記録媒体と磁気記録媒体とを密着させた状態で、記録用磁界を印加することにより、マスター記録媒体の凹凸パターンにより記録されている情報（例えばサーボ情報）に対応する磁気パターンを磁気記録媒体に磁気的に転写するものである。この方法では、マスター記録媒体と磁気記録媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット情報の記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。磁気転写の方法としては、転写される磁化情報が、磁気記録媒体に垂直磁化により記録される垂直磁気記録の磁気転写と、磁気記録媒体に平行な面内磁化により記録される面内磁気記録の磁気転写の２種類が存在している。
特開平２００１−２９７４３５号公報 特開平２００３−２７２１４２号公報

ところで、上記磁気転写においては、磁気転写により磁化パターンが形成された磁気記録媒体から得られる再生信号波形が、所望の振幅及び周期であるか否かが重要である。

発明者らは研究の結果、磁気記録媒体の磁性膜が垂直磁化膜からなるものである場合において、磁気転写により得られた磁気記録媒体からの再生信号の波形は、マスター記録媒体における凹凸領域の形状、磁気転写を行う際の転写磁界の強度等に依存することを解明した。即ち、再生信号波形は、マスター記録媒体における凹凸領域の形状、磁気転写を行う際の転写磁界強度により、磁気転写される磁気パターンの形状等が変化し、この磁気パターンの形状等により再生信号波形の形状等が異なるため、垂直磁気転写におけるノイズや高調波成分の少ない品質の高い再生信号を得るためのマスター記録媒体における凹凸領域の形状と転写磁界の強度との関係を解明したのである。

尚、上記再生信号波形において、ノイズや２次高調波成分等の高調波成分を多く含んでいる場合、再生信号としての品質は低く、磁気記録媒体に記録されている情報の記録再生等の精度に大きな影響を与えることとなり、特に、磁気記録媒体に転写される情報がサーボ信号である場合には、トラッキング性能が低下し、磁気記録媒体における記録再生の際の信頼性が著しく低下する。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、垂直磁化膜からなる磁性層を有する磁気記録媒体に磁気転写により情報を記録する場合において、磁気記録媒体に転写された情報を再生した際に、２次高調波成分等の偶数次の高調波成分が少なく、良好な再生信号を得ることができるマスター記録媒体、磁気転写方法、磁気転写装置、及びこれにより作製された磁気記録媒体、磁気記録再生装置を提供するものである。

請求項１に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の７５〜１０５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．３〜１．９倍であることを特徴とするマスター記録媒体である。

請求項２に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の８５〜１１５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．５〜２．１倍であることを特徴とするマスター記録媒体である。

請求項３に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の９５〜１２５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．７〜２．３倍であることを特徴とするマスター記録媒体である。

請求項４に記載の発明は、前記凹凸パターンにより記録されている情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項１から３に記載のマスター記録媒体である。

請求項５に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、からなる磁気転写方法において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．３〜１．９倍であり、前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の７５〜１０５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法である。

請求項６に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、からなる磁気転写方法において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．５〜２．１倍であり、前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜１１５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法。

請求項７に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、からなる磁気転写方法において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．７〜２．３倍であり、前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１２５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法である。

請求項８に記載の発明は、前記マスター記録媒体より前記磁気転写媒体に転写される情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項５から７に記載の磁気転写方法である。

請求項９に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．３〜１．９倍であり、前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の７５〜１０５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置である。

請求項１０に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．５〜２．１倍であり、前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜１１５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置である。

請求項１１に記載の発明は、円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．７〜２．３倍であり、前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１２５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置である。

請求項１２に記載の発明は、前記マスター記録媒体より前記磁気転写媒体に転写される情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項９から１１に記載の磁気転写装置である。

以上の発明は、図１０に示すように、サーボ情報の磁気転写を行う場合において、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．３〜１．９倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の７５〜１０５〔％〕の強度の磁界を印加し磁気転写を行うことにより、また、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．５〜２．１倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜１１５〔％〕の強度の磁界を印加を印加し磁気転写を行うことにより、また、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．７〜２．３倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１２５〔％〕の強度の磁界を印加を印加し磁気転写を行うことにより、磁気転写された磁気記録媒体は、良好にトラッキングをかけることができる（許容領域）。これは、磁気転写された磁気記録媒体を再生した場合における後述する２次高調波強度が、上記条件で磁気転写を行った場合では、１以上１．６未満であり、この値の範囲内であれば、良好なトラッキング精度を得ることができるからである。

特に、サーボ情報の磁気転写を行う場合において、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．４５〜１．７５倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜９５〔％〕の強度の磁界を印加し磁気転写を行うことにより、また、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．６〜１．９倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１０５〔％〕の強度の磁界を印加を印加し磁気転写を行うことにより、また、トラック方向における凸領域の幅に対する凹領域の幅が、１．８５〜２．１５倍である場合には、磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の１０５〜１１５〔％〕の強度の磁界を印加を印加し磁気転写を行うことにより、磁気転写された磁気記録媒体は、特に良好にトラッキングをかけることができる（最適領域）。これは、磁気転写された磁気記録媒体を再生した場合における後述する２次高調波強度が、上記条件で磁気転写を行った場合では、１以上１．３未満であり、この値の範囲内であれば、特に良好なトラッキング精度を得ることができるからである。

請求項１３に記載の発明は、請求項５から８のいずれかに記載された磁気転写方法により、情報が磁気転写されたことを特徴とする磁気記録媒体である。

請求項１４に記載の発明は、請求項１３に記載された磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置である。

以上のように、本発明によれば、２次高調波成分等の偶数次の高調波成分の少ない再生信号を得ることができ、磁気記録媒体の記録再生等の精度を向上させることができ、更には、トラッキング性能を向上させることができる。

以下、本発明の第１の実施の形態に係る磁気転写方法について説明する。

〔転写用磁気ディスク〕
図１（ａ）に示すように、最初に磁気記録媒体である転写用磁気ディスク６０の初期磁化を行うが、まず、これに用いられる転写用磁気ディスク６０について説明する。

転写用磁気ディスク６０は円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に垂直磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、具体的には、高密度ハードディスク等が挙げられる。

円盤状の基板は、ガラスやＡｌ（アルミニウム）等の材料から構成されており、この基板上に非磁性層を形成した後、磁性層を形成する。

非磁性層は、後に形成する磁性層の垂直方向の磁気異方性を大きくする等の理由により設けられる。非磁性層に用いられる材料は、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ（ルテニウム）、Ｐｄ（パラジウム）等が好ましい。非磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。非磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることが更に好ましい。

磁性層は、垂直磁化膜により形成されており、磁性層に情報が記録される。磁性層に用いられる材料は、Ｃｏ（コバルト）、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ等）等が好ましい。これらの材料は、磁束密度が大きく、成膜条件や組成を調整することにより垂直の磁気異方性を有している。磁性層は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。磁性層の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが更に好ましい。

尚、必要に応じて、基板と非磁性層との間に、軟磁性層を設ける場合がある。磁性層の垂直磁化状態を安定させ、記録再生時の感度を向上させるためである。軟磁性層の厚さは、５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、８０ｎｍ〜４００ｎｍであることが更に好ましい。

本実施の形態では、転写用磁気ディスク６０の基板として、外形６５ｍｍの円盤状のガラス基板を用い、スパッタリング装置のチャンバー内にガラス基板を設置し、１．３３×１０^−５Ｐａ（１．０×１０^−７Ｔｏｒｒ）まで減圧した後、チャンバー内にＡｒ（アルゴン）ガスを導入し、ＣｒＴｉターゲットを用い、基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｒＴｉからなる非磁性層を６０ｎｍ成膜する。

この後、上記と同様にＡｒガスを導入し、同じチャンバー内にあるＣｏＣｒＰｔターゲットを用い、同じく基板温度が２００℃の条件の下で放電させることによりスパッタリング成膜をおこなう。これによりＣｏＣｒＰｔからなる磁性層を２５ｎｍ成膜する。

以上のプロセスにより、ガラス基板に、非磁性層と磁性層が成膜された転写用磁気ディスク６０を作製した。

〔転写用磁気ディスクの初期磁化〕
次に、形成した転写用磁気ディスク６０の初期磁化を行う。図１（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク６０の初期磁化（直流磁化）は、転写用磁気ディスク６０に対し垂直に磁界を印加することができる不図示の磁界印加手段により初期化磁界Ｈｉを発生させ、図２（ａ）に示すように、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍについて、一方向に初期磁化Ｐｉさせる。具体的には、初期化磁界Ｈｉとして転写用磁気ディスク６０の保磁力Ｈｃ以上の強度の磁界を発生させることにより行う。

尚、初期磁化は、転写用磁気ディスク６０を磁界印加手段に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。

〔マスターディスク〕
次に、マスター記録媒体であるマスターディスクについて説明する。

最初にマスターディスク６６の製造方法について図３に基づき説明する。本実施の形態では、プレス原盤を用いるため、最初に、プレス原盤の作製工程について説明する。図３（ａ）に示すように、表面が平滑なガラスや石英ガラスからなる円形の基板５０上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、この円形の基板５０を回転させながら、記録する信号に対応して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射し、フォトレジストの略全面に所定のパターンを露光する。その後、露光した基板５０を現像液に浸漬することにより、フォトレジストの露光された部分が除去され、基板５０上の所定の領域にフォトレジスト層５１が形成されたガラス原盤５２が作製される。

次に、図３（ｂ）に示すように、ガラス原盤５２上のフォトレジスト層５１が形成されている面の表面に、Ｎｉメッキ（電鋳）を行うことにより、表面にポジ状の凹凸パターンを有するＮｉ原盤５３を所定の厚さまで形成する。この後、このＮｉ原盤５３をガラス原盤５２から剥離する。

このＮｉ原盤５３をスタンパー用のプレス原盤（金型）として用いることも可能であるが、必要に応じてこのＮｉ原盤５３に凹凸バターン上に軟磁性層、保護膜等を被覆してスタンパー用のプレス原盤（金型）とする。このように軟磁性層、保護膜等を形成することにより、その後に作製する転写用磁気ディスクの磁気特性が向上するからである。

Ｎｉ原盤５３を構成する材料としては、Ｎｉ及びＮｉ合金が主に用いられる。このＮｉ原盤５３を形成する方法としては、先に説明した無電解メッキ等によるメッキ法の他、スパッタリングやイオンプレーティングといった真空成膜法によっても作製することが可能である。また、上記真空成膜を行った後、電解メッキ等を行うことによっても作製可能である。尚、基板５０上に塗布されるレジストはポジ型、ネガ型のどちらでも使用可能であるが、ポジ型とネガ型では、露光パターンが反転することに注意する必要がある。

次に、図３（ｃ）に示すように、剥離したＮｉ原盤５３をプレス原盤として、射出成型等により樹脂基板６７を作製する。樹脂基板６７の樹脂材料としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン及びポリエステルなどが挙げられる。これらの樹脂材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び価格などの点から、現在のところポリカーボネートが好ましい。

射出成型により樹脂基板６７を形成した場合、成型品である樹脂基板６７にバリ等が生じる場合があるが、このようなバリ等はバーニシュ又は研磨加工により除去する。

また、射出成型以外の方法により樹脂基板６７を形成する方法として、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを使用する方法もある。この場合、プレス原盤に紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂をスピンコート、バーコート等の手法により塗布した後、紫外線或いは電子線を照射することにより硬化させた後、プレス原盤より剥離することにより樹脂基板６７が形成される。

以上の工程により、図３（ｄ）に示すように。高さが、３０〜１５０〔ｎｍ〕の突起状パターン（凹凸パターン）が形成された樹脂基板６７が形成される。

樹脂基板６７を製造するためのＮｉ原盤５３の製造方法については、これ以外の方法であってもよい。上記以外の方法の一例を図４に基づき説明する。

表面が平滑な略円形のＳｉ基板７０上に、フォトレジストをスピンコーター等により塗布し、プリベーク後に、このＳｉ基板７０を回転させながら、記録する信号に対して変調したレーザ光（或いは電子ビーム）をフォトレジストに照射し、フォトレジストの略全面について所定のパターンを露光する。その後、露光したＳｉ基板７０を現像液に浸漬させ、フォトレジストの露光された部分を除去することにより、図４（ａ）に示すように、Ｓｉ基板７０上の所定の領域にフォトレジスト層７１が形成されたものが作製される。

次に、図４（ｂ）に示すように、Ｓｉ基板７０のフォトレジスト層７１が形成された面について、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｅｔｃｈｉｎｇ）等によるドライエッチングを行う。具体的には、フォトレジスト層７１が形成されたＳｉ基板７０をＲＩＥ装置の減圧チャンバー内に設置した後、ＲＩＥ装置の減圧チャンバーを減圧した後、減圧チャンバー内に塩素（Ｃｌ_２）ガスを導入し、ＲＦ電力を印加しプラズマを発生させることにより行った。ＲＩＥでは、フォトレジスト層７１に対しＳｉ基板７０が選択的にエッチングされるため、Ｓｉ基板７０のフォトレジスト層７１の形成されていない領域のみエッチングがなされる。この後、Ｓｉ基板７０上のフォトレジスト層７１を有機溶剤等により除去することにより、表面に凹凸パターンの形成されたＳｉ基板７０が作製される。

この後、図４（ｃ）に示すように、Ｓｉ基板７０の凹凸パターンの形成された面にスパッタリングにより金属材料等からなる導電膜を成膜し、更に、Ｎｉ電鋳を行うことにより、Ｎｉ原盤５３を形成する。

この後、図４（ｄ）に示すように、Ｓｉ基板７０から剥離することによりＮｉ原盤５３が作製される。ここで作製されるＮｉ原盤５３は、図３（ｂ）において作製されるＮｉ原盤５３と同様のものであり、図３（ｃ）に示す方法と同様の方法により、射出成型により樹脂基板６７の作製をすることができるものである。

次に、このように形成された樹脂基板６７について、図５（ａ）に示すように、樹脂基板６７の突起状パターンの形成されている面にスピンコーター等によりフォトレジスト６９を塗布し、フォトレジスト６９を硬化させる。具体的には、フォトレジスト６９がネガレジストである場合には、紫外線等を照射して重合させる。一方、ポジレジストである場合には、ベーキング処理を行って重合させる。フォトレジスト６９はスピンコーター等では均一に広がるため、樹脂基板６７の表面の突起状パターンである凸部では薄く、それ以外の凹部では厚く形成される。

この後、図５（ｂ）に示すように、酸素ガスを導入したアッシングを行うことにより、フォトレジスト６９の表面の一部を除去する。具体的には、樹脂基板６７の突起状パターンの表面が露出したところで、アッシングを停止する。アッシングでは、厚さ方向に均等にレジスト６９が除去されるが、樹脂基板６７の突起状パターンの凸部の表面が露出しても、凹部ではレジスト６９が厚く形成されているため、この領域のレジスト６９は残存している。

この後、図５（ｃ）に示すように、樹脂基板６７のフォトレジスト６９の形成された面に、軟磁性体からなる磁性膜５４をメッキあるいは真空蒸着等による成膜をおこなう。磁性膜５４を構成する材料は、保磁力Ｈｃが４８ｋＡ／ｍ（≒６００Ｏｅ）以下の軟磁性材料により構成されていることが好ましい。具体的には、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）等が挙げられる。特に好ましいのは、磁気特性からＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。又、磁性膜５４の厚さは、４０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲が好ましく、特に、１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲が更に好ましい。磁性膜５４は、上記材料のターゲットを用いスパッタリングや無電解メッキ等により形成される。

この後、リフトオフによりレジスト６９上に形成されている磁性膜５４の除去をおこなう。具体的には、磁性膜５４が成膜された基板６７を有機溶剤等に浸漬させることにより、レジスト６９の上に形成された磁性膜５４が、レジスト６９とともに除去される。

以上のプロセスにより、図５（ｄ）に示すように、凸領域の上面に磁性層６８が設けられた凹凸パターンの形成されたマスターディスク６６が作製される。

このように形成された凹凸パターンは、凹領域のトラック方向（周方向）の幅がＳａ、凸領域のトラック方向（周方向）の幅がＬａからなるものであり、本実施の形態では、Ｌａに対するＳａの幅（Ｓａ／Ｌａ）が、１．３〜１．９倍、好ましくは、１．４５〜１．７５倍となるように作製されている。

図６はマスターディスク６６の上面図である。この図に示されるように、マスターディスク６６の表面には、凹凸パターンからなるサーボパターン５５が形成される。

又、磁性層６８の上にダイヤモンドライクカーボン等の保護膜や、更に、保護膜上に潤滑剤層を設けてもよい。後述するように、マスターディスク６６は、転写用磁気ディスク６０と密着させるが、密着させた際に磁性層６８が傷つきやすく、マスターディスク６６として使用できなくなってしまうことを防止するためである。また、潤滑剤層は、転写用磁気ディスク６０との接触の際に生じる摩擦による傷の発生などを防止し、耐久性を向上させる効果がある。

具体的に、保護膜として、厚さが５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にその上に潤滑剤層を形成した構成が好ましい。また、磁性層６８と、保護膜との密着性を強化するため、磁性層６８上にＳｉ等の密着強化層を形成し、その後に保護膜を形成してもよい。

〔密着工程〕
次に、図１（ｂ）に示すように密着工程において、上記工程により作製したマスターディスク６６の突起状パターンの形成されている面と、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍの形成されている面とを所定の押圧力で密着させる。

転写用磁気ディスク６０には、マスターディスク６６に密着させる前に、グライドヘッド、研磨体等により、表面の微少突起又は付着塵埃を除去するクリーニング処理（バーニッシング等）が必要に応じて施される。

尚、密着工程では、図１（ｂ）に示すように、転写用磁気ディスク６０の片面にマスターディスク６６を密着させる場合と、両面に磁性層が形成された転写用磁気ディスク６０について、両面からマスターディスク６６を密着させる場合とがある。後者の場合では、両面を同時転写することができる利点がある。

〔磁気転写工程〕
次に、図１（ｃ）に基づき磁気転写工程を説明する。

上記密着工程により転写用磁気ディスク６０とマスターディスク６６とを密着させたものについて、不図示の磁界印加手段により初期化磁界Ｈｉの向きと反対方向に記録用磁界Ｈｄを発生させる。記録用磁界Ｈｄを発生させることにより生じた磁束が転写用磁気ディスク６０とマスターディスク６６に進入することにより磁気転写が行われる。

本実施の形態では、記録用磁界Ｈｄの大きさは、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍを構成する磁性材料のＨｃと略同じ値である。

磁気転写は、転写用磁気ディスク６０及びマスターディスク６６を密着させたものを不図示の回転手段により回転させつつ、磁界印加手段によって記録用磁界Ｈｄを印加し、マスターディスク６６に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍに磁気転写する。尚、この構成以外にも、磁界印加手段を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク６０及びマスターディスク６６に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。

磁気転写工程における、転写用磁気ディスク６０とマスターディスク６６の断面の様子を図２（ｂ）に示す。

図２（ｂ）に示すように、基板４７表面に突起状のパターンが形成され、その上に磁性層６８が形成されたマスターディスク６６と転写用磁気ディスク６０とが密着した状態においては、マスターディスク６６の凸領域では、マスターディスク６６の磁性層６８と転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍとが接触している。

このため、記録用磁界Ｈｄを印加すると、磁束Ｇは、マスターディスク６６の凸領域、即ち、マスターディスク６６の磁性層６８と転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍと接触している領域では強く、記録用磁界Ｈｄにより、マスターディスク６６の磁性層６８の磁化向きが記録用磁界Ｈｄの方向に揃い、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍに磁気情報が転写される。一方、マスターディスク６６の凹領域、即ち、マスターディスク６６の磁性層６８が形成されていない領域では、マスターディスク６６の磁性層６８が存在しないため、記録用磁界Ｈｄの印加によって生じる磁束Ｇは弱く、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍの磁化向きが変わることはなく、初期磁化の状態を保ったままである。

図７は、磁気転写に用いられる磁気転写装置について詳細に示したものである。磁気転写装置は、コア３２にコイル３３が巻きつけられた電磁石からなる磁界印加手段３０を有するものであり、このコイル３３に電流を流すことによりギャップ３１において、密着させたマスターディスク６６と転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍに対し垂直に磁界を発生する構造になっている。発生する磁界の向きは、コイル３３に流す電流の向きによって変えることができる。従って、この磁気転写装置によって、初期磁化を行うことも磁気転写を行うことも可能である。この磁気転写装置により初期磁化させた後、磁気転写を行う場合には、磁界印加手段３０のコイル３３に、初期磁化したときにコイル３３に流した電流の向きと逆向きの電流を流す。これにより、初期磁化の際の磁化向きとは反対の向きに記録用磁界を発生させることができる。磁気転写は、転写用磁気ディスク６０及びマスターディスク６６を密着させたものを回転させつつ、磁界印加手段３０によって記録用磁界を印加し、マスターディスク６６に記録されている突起状のパターンからなる情報を転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍに磁気転写するため、不図示の回転手段が設けられている。尚、この構成以外にも、磁界印加手段３０を回転させる機構を設け、転写用磁気ディスク６０及びマスターディスク６６に対し、相対的に回転させる手法であってもよい。

本実施の形態では、記録用磁界Ｈｄは、本実施の形態に用いられる転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍの保磁力Ｈｃの７５〜１０５％、好ましくは、８５〜９５％の強度の磁界を印加することにより磁気転写を行う。

この後、転写用磁気ディスク６０をマスターディスク６６から取り外す。これにより、図２（ｃ）に示すように、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍには、サーボ信号等の磁気パターンの情報が、初期磁化Ｐｉの反対向きの磁化となる記録磁化Ｐｄとして記録される。尚、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍは垂直磁化膜であることから、初期磁化Ｐｉと記録磁化Ｐｄは境界には磁壁Ｄが形成される。

又、マスターディスク６６の基板６７に形成された突起状のパターンは、図５（ｄ）に示すポジパターンと反対のネガパターンであってもよい。この場合、初期化磁界Ｈｉの方向及び記録用磁界Ｈｄの方向を各々逆方向にすることにより、転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍに、同様の磁化パターンを磁気転写することができるからである。

尚、本実施の形態では、磁界印加手段は、電磁石の場合について説明したが、同様に磁界が発生する永久磁石を用いても良い。

〔評価〕
以上のように磁気転写を行った磁気記録媒体に記録された再生信号に関し説明する。図８は、磁気転写を行った磁気記録媒体６０に記録された磁気情報を再生した際の再生波形を示す。図８（ａ）は、磁気記録媒体６０に記録された磁気情報である磁気パターンを再生した際の信号波形が、上下で略対称である場合である。さらに拡大した波形を図９（ａ）に示す。このような再生信号波形では、再生信号の正の部分の信号波形の半値幅（再生信号の正のピークと０との中心値における波形の幅）Ｐａ１が、再生信号の負の部分の信号波形の半値幅（再生信号の負のピークと０との中心値における波形の幅）Ｐｂ１とが、略同じとなり、この場合では２次高調波に代表される偶数次の高調波成分が低く抑えられる。

これに対し、図８（ｂ）は、磁気記録媒体６０に記録された磁気情報である磁気パターンを再生した際の信号波形が、上下で非対称である場合である。さらに拡大した波形を図９（ｂ）に示す。このような再生信号波形では、再生信号の正の部分の信号波形の半値幅（再生信号の正のピークと０との中心値における波形の幅）Ｐａ２が、再生信号の負の部分の信号波形の半値幅（再生信号の負のピークと０との中心値における波形の幅）Ｐｂ２よりも広くなり、この場合では２次高調波に代表される偶数次の高調波成分が大きくなる。このように、２次高調波成分等の偶数時の高調波成分が高くなると、記録されている再生信号に悪影響を及ぼす傾向にあり、具体的には、磁気転写される信号がサーボ信号である場合、サーボ精度が低下し、サーボをとることが困難となる。このためできるだけ、図８（ａ）、図９（ａ）に示すように、再生信号の波形が正と負とで対称の波形であることが望ましい。

表１は、再生波形のパルス幅と、この再生波形における２次高調波の強度、サーボ精度及びその評価結果を示す。ここで、パルス幅とは、再生波形における正と負の各々の半値幅を基準とするものであり、１のときに再生波形における正と負の半値幅が同じとなり、この値を基準として、再生波形の正の領域における半値幅の比を示す。また、２次高調波強度は、再生波形における正と負の半値幅が同じ場合、即ち、再生波形の正と負が略対称となる場合における２次高調波の強度を１とし、この値を基準として、２次高調波の相対的な強度の値を示す。また、サーボ精度は、低いほどサーボ精度が高く、この値を基準に、サーボのかかり具合の評価がなされる。サーボの評価の結果に基づくならば、パルス幅は１となるように再生波形の正と負が対称となる場合が最もサーボ精度が高くなり、この時の２次高調波成分は最も低くなる。パルス幅が、減少或いは増加するに従い、再生信号の正と負の波形の対称性は崩れていき、サーボ精度が悪くなる。このとき、同様に、２次高調波成分の値も増加する傾向にある。尚、このような再生信号の波形の正と負の対称性が崩れることと、２次高調波に代表される偶数次の高調波成分が増加することとの相関は、通常のフーリエ変換から導き出されることである。

表１の評価結果より、評価◎の場合は、最も良好な場合であり、この時の２次高調波強度は１以上１．３未満であり、この条件を満たすパルス幅Ｐは、０．９７≦Ｐ≦１．０３の範囲内の値となるものと考えられる。また、評価○の場合は、良好な場合であり、この時の２次高調波強度は、１．３以上１．６未満であり、この条件を満たすパルス幅Ｐは、０．９３≦Ｐ＜０．９７、又は、１．０３＜Ｐ≦１．０７の範囲内の値となるものと考えられる。また、評価△の場合は、サーボに部分的に問題がある場合であり、この時の２次高調波強度は、１．６以上１．９未満であり、この時のパルス幅Ｐは、０．９０≦Ｐ＜０．９３、又は、１．０７＜Ｐ≦１．１０の範囲内の値となるものと考えられる。また、評価×の場合は、サーボがかからない場合であり、この時の２次高調波強度は、１．９以上であり、この時のパルス幅Ｐは、Ｐ＜０．９０、又は、１．１０＜Ｐの範囲の値になるものと考えられる。

このことから、サーボをできるだけ安定にするには、再生波形の正と負の対称性をできるだけ高めることが望ましい。即ち、２次高調波成分をできるだけ抑えることにより、サーボ精度を高めることができるのである。

尚、磁気転写された再生信号の測定は、電磁変換特性測定装置（協同電子社製ＬＳ−９０）により行った。この際、磁気ヘッドには、再生ヘッドギャップが０．０６μｍ、再生トラック幅が０．１４μｍ、記録ヘッドギャップが０．４μｍ、記録トラック幅が２．４μｍであるＭＲヘッドを使用した。読み込んだ信号をスペクトロアナライザーで周波数分解し、１次信号のピーク強度、２次高調波のピーク強度を測定した。

この結果、本実施の形態においては、再生波形における正と負の波形の半値幅が、略同一となり、充分サーボをかけることができた。

〔第２の実施の形態〕
本実施の形態では凹凸パターンの形成されたマスターディスク６６において、凸領域のトラック方向（周方向）の幅Ｌａに対する凹領域のトラック方向（周方向）の幅Ｓａが、１．５〜２．１倍、好ましくは、１．６〜１．９倍となるように作製されている。マスターディスク６６の作製方法は、第１の実施の形態と同様である。

このマスターディスク６６を用い磁気転写を行う。磁気転写を行う際に磁界印加装置に印加される記録用磁界Ｈｄの強度は、磁気転写に用いられる転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍを構成する磁性材料の保磁力Ｈｃの８５〜１１５％、好ましくは、９５〜１０５％の強度の磁界を印加することにより、磁気転写を行うものである。

これにより磁気転写の行われた転写用磁気ディスク６０の再生信号の波形は、正と負の波形の半値幅が、略同一であり、充分サーボをかけることができるものである。

〔第３の実施の形態〕
本実施の形態では凹凸パターンの形成されたマスターディスク６６において、凸領域のトラック方向（周方向）の幅Ｌａに対する凹領域のトラック方向（周方向）の幅Ｓａが、１．７〜２．３倍、好ましくは、１．８５〜２．１５倍となるように作製されている。マスターディスク６６の作製方法は、第１の実施の形態と同様である。

このマスターディスク６６を用い磁気転写を行う。磁気転写を行う際に磁界印加装置に印加される記録用磁界Ｈｄの強度は、磁気転写に用いられる転写用磁気ディスク６０の磁性層６０Ｍを構成する磁性材料の保磁力Ｈｃの９５〜１２５％、好ましくは、１０５〜１１５％の強度の磁界を印加することにより、磁気転写を行うものである。
これにより磁気転写の行われた転写用磁気ディスク６０の再生信号の波形は、正と負の波形の半値幅が、略同一であり、充分サーボをかけることができるものである。

〔マスターディスクと記録用磁界の関係〕
第１の実施の形態から第３の実施の形態に基づき、マスターディスク６６の凹凸パターンの比率と磁気転写の際に用いられる記録用磁界Ｈｄの強度の関係について説明する。

図１０は、本発明において、凹凸パターンの形成されたマスターディスク６６における、凸領域のトラック方向（周方向）の幅Ｌａに対する凹領域のトラック方向（周方向）の幅Ｓａの比率（Ｓａ／Ｌａ）と、記録用磁界の強度の関係を示す。最適領域においては、磁気転写の行われた転写用磁気ディスク６０の再生信号の波形において、正と負の半値幅が略同じでありサーボ上全く問題がない領域であり、許容領域では、上記半値幅の値は若干異なるもののサーボ上は問題のない領域を示す。許容領域の範囲内であれば、サーボ上問題なく使用することができる。

第１の実施の形態から第３の実施の形態により作製された転写用磁気ディスク６０は、ハードディスク等の磁気記録装置に組み込まれて使用される。これにより、サーボ精度が高く、良好な記録再生特性の磁気記録再生装置を得ることができる。

以上、本発明の磁気転写方法、磁気記録媒体等について詳細に説明したが、本発明は、以上の例には限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変形を行うことは可能である。

本発明の実施の形態における磁気転写方法の工程の概要図 本発明の実施の形態における磁気転写方法の各工程における転写用磁気ディスクの断面図 本発明の実施の形態におけるマスターディスクの形成方法の工程図 本発明の実施の形態におけるマスターディスクの別の形成方法の工程図 本発明の実施の形態におけるマスターディスクの形成方法の工程図 本発明に係るマスターディスクの平面図 本発明における磁気転写装置の概要図 磁気転写された磁気記録媒体の再生波形図 磁気転写された磁気記録媒体の再生波形の拡大図 マスターディスクの凹凸形状と転写磁界強度との関係図

符号の説明

１０…磁気転写装置、３０…磁界印加手段、３１…ギャップ、３２…コア、３３…コイル、６０…転写用磁気ディスク（スレーブディスク）、６０Ｍ…磁性層、６６…マスターディスク、６７…基板、６８…磁性層、Ｇ…磁束、Ｈｉ…初期化磁界、Ｈｄ…記録用磁界

Claims (14)

1. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の７５〜１０５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、
   前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．３〜１．９倍であることを特徴とするマスター記録媒体。
2. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の８５〜１１５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、
   前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．５〜２．１倍であることを特徴とするマスター記録媒体。
3. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成され、前記凹凸パターンの形成された領域と前記磁気記録媒体を密着させて、前記磁気記録媒体に垂直に、前記磁気記録媒体を構成する磁性層の保磁力の９５〜１２５〔％〕の強度の磁界を印加することにより、前記凹凸パターンにより記録されている情報を前記磁気記録媒体に転写するために用いられるマスター記録媒体において、
   前記凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が、１．７〜２．３倍であることを特徴とするマスター記録媒体。
4. 前記凹凸パターンにより記録されている情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項１から３に記載のマスター記録媒体。
5. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、
   前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、
   からなる磁気転写方法において、
   前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．３〜１．９倍であり、
   前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の７５〜１０５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法。
6. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、
   前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、
   からなる磁気転写方法において、
   前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．５〜２．１倍であり、
   前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜１１５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法。
7. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、前記磁気記録媒体とを密着させる密着工程と、
   前記密着工程により密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し、垂直に磁界を印加することにより前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写工程と、
   からなる磁気転写方法において、
   前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．７〜２．３倍であり、
   前記磁気転写工程において印加される磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１２５〔％〕であることを特徴とする磁気転写方法。
8. 前記マスター記録媒体より前記磁気転写媒体に転写される情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項５から７に記載の磁気転写方法。
9. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、
   前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、
   を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、
   前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．３〜１．９倍であり、
   前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の７５〜１０５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置。
10. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、
    前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、
    を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、
    前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．５〜２．１倍であり、
    前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の８５〜１１５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置。
11. 円盤状の磁気記録媒体に情報を転写するための凹凸パターンが表面に形成され、少なくとも前記凹凸パターンの凸領域の表面に磁性層が形成されたマスター記録媒体と、
    前記マスター記録媒体と前記磁気記録媒体とを密着させ、前記密着させたマスター記録媒体と磁気記録媒体に対し垂直に磁界を印加する磁界印加手段と、
    を有している前記マスター記録媒体の情報を前記磁気記録媒体に転写する磁気転写装置において、
    前記マスター記録媒体の凹凸パターンのトラック方向における凸領域の幅に対し、凹領域の幅が１．７〜２．３倍であり、
    前記磁界印加手段により印加する磁界の強度が、前記磁気記録媒体の磁性層を構成する材料の保磁力の９５〜１２５〔％〕であることを特徴とする磁気転写装置。
12. 前記マスター記録媒体より前記磁気転写媒体に転写される情報が、サーボ情報であることを特徴とする請求項９から１１に記載の磁気転写装置。
13. 請求項５から８のいずれかに記載された磁気転写方法により、情報が磁気転写されたことを特徴とする磁気記録媒体。
14. 請求項１３に記載された磁気記録媒体を備えたことを特徴とする磁気記録再生装置。

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