JP4847489B2 - 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 - Google Patents
磁気転写用マスター担体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4847489B2 JP4847489B2 JP2008084441A JP2008084441A JP4847489B2 JP 4847489 B2 JP4847489 B2 JP 4847489B2 JP 2008084441 A JP2008084441 A JP 2008084441A JP 2008084441 A JP2008084441 A JP 2008084441A JP 4847489 B2 JP4847489 B2 JP 4847489B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- transfer
- master carrier
- disk
- convex pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
<1> 転写情報に応じた転写用凹凸パターンを表面に放射状に複数有し、かつ該複数の放射状の転写用凹凸パターンの少なくとも凸部表面が磁性体からなる磁気転写用マスター担体において、
前記複数の放射状の転写用凹凸パターンが、連続する防御用凸パターンで囲まれていることを特徴とする磁気転写用マスター担体である。
<2> 複数の放射状の転写用凹凸パターンのうちの少なくとも1つずつの放射状の転写用凹凸パターンが連続する防御用凸パターンで囲まれ、かつすべての前記放射状の転写用凹凸パターンが連続する防御用凸パターンで囲まれている前記<1>に記載の磁気転写用マスター担体である。
<3> 連続する防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口の外周縁部に沿って同心円状に形成された第1の防御用凸パターンと、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って同心円状に形成された第2の防御用凸パターンとからなる前記<1>から<2>のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体である。
<4> 第1の防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口の外周縁部に沿って放射状の転写用凹凸パターンのない位置が外方に突出した略同心円状に形成されている前記<3>に記載の磁気転写用マスター担体である。
<5> 第2の防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って放射状の転写用凹凸パターンのない位置が内方に突出した略同心円状に形成されている前記<3>から<4>のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体である。
<6> 放射状の転写用凹凸パターンの高さと、防御用凸パターンの高さとが略同一である前記<1>から<5>のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体である。
<7> 前記<1>から<6>のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体を用い、該磁気転写用マスター担体の凹凸パターンを有さない側の面からウエットエッチングを行い、中心開口を有する円盤形状のマスター担体を形成する工程を含むことを特徴とする磁気転写用マスター担体の製造方法である。
<8> 前記<1>から<6>のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体を用いた磁気転写方法により作製されたことを特徴とする磁気記録媒体である。
本発明の磁気転写用マスター担体は、転写情報に応じた転写用凹凸パターンを表面に放射状に複数有し、かつ該複数の放射状の転写用凹凸パターンの少なくとも凸部表面が磁性体からなり、
前記複数の放射状の転写用凹凸パターンが、連続する防御用凸パターンで囲まれていることを特徴とする。
前記転写情報としては、例えばトラッキング用サーボ信号、クロック信号、アドレス情報信号などが挙げられる。
前記連続する防御用凸パターンによる前記複数の放射状の転写用凹凸パターンの囲み方法としては、複数の放射状の転写用凹凸パターンに、マスター作製工程におけるマスターを略ドーナッツ形状に加工するウエットエッチング工程でエッチング液が侵入することを防止できれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、以下の態様などが挙げられる。
この場合、前記複数の放射状の転写用凹凸パターンのうちの1つずつの放射状の転写用凹凸パターンを連続する防御用凸パターンで囲むことが好ましく、2つずつ以上の放射状の転写用凹凸パターンを連続する防御用凸パターンで囲んでもよい。
具体的には、図1に示すように、複数の放射状の転写用凹凸パターンのうちの1つずつの放射状の転写用凹凸パターン2を連続する防御用凸パターン3で囲み、かつすべての放射状の転写用凹凸パターンが連続する防御用凸パターンで囲まれている磁気転写用マスター担体1が挙げられる。
また、図2に示すように、複数の放射状の転写用凹凸パターンのうちの2つずつの放射状の転写用凹凸パターン2,2を連続する防御用凸パターン3で囲み、かつすべての放射状の転写用凹凸パターンが連続する防御用凸パターンで囲まれている磁気転写用マスター担体1が挙げられる。
なお、図示を省略しているが、3つずつ以上の放射状の転写用凹凸パターンを連続する防御用凸パターンで囲む態様であっても構わない。
具体的には、図3に示すように、連続する防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口6の外周縁部に沿って同心円状に形成された第1の防御用凸パターン4と、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って同心円状に形成された第2の防御用凸パターン5とからなる磁気転写用マスター担体1が挙げられる。なお、中心開口6は未形成である。
具体的には、図4に示すように、第1の防御用凸パターン4が、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口6の外周縁部に沿って複数の放射状の転写用凹凸パターンのない位置が外方に突出した略同心円状に形成されている磁気転写用マスター担体1が挙げられる。なお、中心開口6は未形成である。
具体的には、図5に示すように、第2の防御用凸パターン5が、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って複数の放射状の転写用凹凸パターンのない位置が内方に突出した略同心円状に形成されている磁気転写用マスター担体1が挙げられる。
なお、前記(1)から(4)の態様を適宜組み合わせた態様であっても構わない。また、図1〜6における中心開口6は未形成である。
前記防御用凸パターンの幅は、100nm〜1000nmが好ましく、150nm〜800nmがより好ましく、200nm〜650nmが更に好ましい。
前記防御用凸パターンの材料、及び形成方法については、前記放射状の転写用凹凸パターンと同様である。
本発明の磁気転写用マスター担体の製造方法は、本発明の前記磁気転写用マスター担体を用い、該磁気転写用マスター担体の凹凸パターンを有さない側の面からウエットエッチングを行い、略ドーナッツ形状(中心開口を有する円盤形状)のマスター担体を形成する工程を少なくとも含み、更に必要に応じてその他の工程を含んでなる。
前記ウエットエッチングとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば磁気転写用マスター担体の凹凸パターンを有さない側の面に感光性樹脂を塗布し、写真原版を通した光で露光後、現像すると原版のパターンの形状に感光性樹脂が表面に残る(又は除かれる)。その後、エッチング処理を行うことで表面がパターンどおりに腐食(又は加工)できるフォトエッチング、などにより行うことができる。
図7は垂直磁気記録の磁気転写方法の工程を示す概要図である。この図7において、符号10は被転写用の磁気ディスクとしてのスレーブディスク(「垂直磁気記録媒体」に相当する)、符号20はマスター担体としてのマスターディスクを表す。
本例で用いるスレーブディスク10は、円盤状の基板の表面の片面或いは、両面に垂直磁化膜からなる磁性層が形成されたものであり、具体的には、高密度ハードディスク等が挙げられる。
これらの材料は、磁束密度が大きく、成膜条件や組成を調整することにより垂直の磁気異方性を有している。磁性層16は、スパッタリング法により上記材料を成膜することにより形成される。前記磁性層16の厚さは、10nm〜500nmであることが好ましく、20nm〜200nmであることがより好ましい。
次に、形成したスレーブディスク10の初期磁化を行う。図7(a)で説明したとおり、スレーブディスク10の初期磁化(直流磁化)は、スレーブディスク10の表面に対し垂直に直流磁界を印加することができる装置(不図示の磁界印加手段)により初期化磁界Hiを発生させることにより行う。具体的には、初期化磁界Hiとしてスレーブディスク10の保磁力Hc以上の強度の磁界を発生させることにより行う。この初期磁化工程により、図9に示すように、スレーブディスク10の磁性層16について、ディスク面と垂直な一方向に初期磁化Piさせる。なお、この初期磁化工程は、スレーブディスク10を磁界印加手段に対し相対的に回転させることにより行ってもよい。
次に、マスター担体であるマスターディスク20について説明する。図10にマスターディスク20の形態例を示す。マスターディスク20の形状としては、図10(a)に示すように、基材202の凹凸表面に磁性層204を形成した形態、或いは、図10(b)のように、平坦な基材212の表面において転写信号に対応するビット部(初期磁化を反転させる部分であり、「転写部」に相当)のみに磁性層214を形成した形態が好ましい。
次に、マスターディスクの製造方法の例について図11に基づき説明する。
まず、図11(a)に示すように、表面が平滑なシリコンウエハーである原板(Si基板)30を用意し、この原板30の上に、電子線レジスト液をスピンコート法等により塗布して、レジスト層32を形成し(図11(b))、ベーキング処理(プレベーク)を行う。
ように作製されている。
次に、上記工程により作製したマスターディスク20と、初期磁化工程後のスレーブディスク10とを図7(b)のように重ね合わせて両者を密着させる工程(密着工程)を行う。
次に、図7(c)に基づき磁気転写工程を説明する。
図11(a)〜(j)に示す方法により、磁気転写用マスター担体を作製した。図11(j)において、図3に示す磁気転写用マスター担体を用い、該磁気転写用マスター担体の凹凸パターンを有さない側の面に感光性樹脂を塗布し、所望のディスクの内外径に対応した円環状パターンを有する写真原版を通した光で露光後、現像し、原版のパターンの形に対応した部分に感光性樹脂が残った(又は除かれた)表面にエッチング処理を行うことにより、ドーナッツ形状(中心開口を有する円盤形状)のマスター担体を形成した。
作製した磁気転写用マスター担体を用いて、図7に示す方法により、スレーブディスク10と密着させ、不図示の磁界印加手段により初期化磁界Hiの向きと反対方向に記録用磁界Hdを発生させることにより生じた磁束をスレーブディスク10とマスター担体20に進入させて磁気転写を行った。
得られた磁気転写記録媒体について、以下のようにして、欠落の有無を評価した。結果を表1に示す。
ディスク半径rが14mm<r<30.5mmの範囲について0.05mmピッチで転写されたサーボ情報を磁気ヘッドで波形として読み込んだ後、その波形をデジタルオシロスコープで取り込み、更に取り込んだ波形を解析することにより欠落を確認した。なお、正常に転写されているサーボ信号部の75%以下の出力を持つサーボフレームを転写信号欠落とした。
参考例1において、図3に示す磁気転写用マスター担体を図6に示す磁気転写用マスター担体に代えた以外は、参考例1と同様にして、ドーナッツ形状のマスター担体を形成した。
作製した磁気転写用マスター担体を用いて、参考例1と同様にして磁気転写を行い、欠落の有無を評価した。結果を表1に示す。
参考例1において、図3に示す磁気転写用マスター担体を図1に示す磁気転写用マスター担体に代えた以外は、参考例1と同様にして、ドーナッツ形状のマスター担体を形成した。
作製した磁気転写用マスター担体を用いて、参考例1と同様にして磁気転写を行い、欠落の有無を評価した。結果を表1及び図16に示す。
参考例1において、図3に示す磁気転写用マスター担体における防御用凸パターンのないマスター担体を用いた以外は、参考例1と同様にして、ドーナッツ形状のマスター担体を作製した。
作製した磁気転写用マスター担体を用いて、参考例1と同様にして磁気転写を行い、欠落の有無を評価した。結果を表1及び図17に示す。
2 放射状の転写用凹凸パターン
3 防御用凸パターン
4 第1の防御用凸パターン
5 第2の防御用凸パターン
10 スレーブディスク
20 マスターディスク
12 基板
13 軟磁性層
16 磁性層
60 磁界印加手段
62 コア
63 コイル
80 磁界印加装置
202,212 基材
204,214 磁性層
206 凸部
207 凹部
Claims (3)
- 転写情報に応じた転写用凹凸パターンを表面に放射状に複数有し、かつ該複数の放射状の転写用凹凸パターンの少なくとも凸部表面が磁性体からなり、凹凸パターンを有さない側の面からウエットエッチングを行い、中心開口を有する円盤形状のマスター担体を形成するための磁気転写用マスター担体において、
連続する防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口の外周縁部に沿って同心円状に形成された第1の防御用凸パターンと、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って同心円状に形成された第2の防御用凸パターンとからなり、
(1)第1の防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体に形成される中心開口の外周縁部に沿って放射状の転写用凹凸パターンのない位置が外方に突出した略同心円状に形成されること、及び
(2)第2の防御用凸パターンが、磁気転写用マスター担体の外周縁部に沿って放射状の転写用凹凸パターンのない位置が内方に突出した略同心円状に形成されること
の少なくともいずれかを満たし、該防御用凸パターンが、前記ウエットエッチングを行う際にエッチング液が前記転写用凹凸パターンへの浸食を防止するためのものであることを特徴とする磁気転写用マスター担体。 - 放射状の転写用凹凸パターンの高さと、防御用凸パターンの高さとが同一である請求項1に記載の磁気転写用マスター担体。
- 請求項1から2のいずれかに記載の磁気転写用マスター担体を用い、該磁気転写用マスター担体の凹凸パターンを有さない側の面からウエットエッチングを行い、中心開口を有する円盤形状のマスター担体を形成する工程を含むことを特徴とする磁気転写用マスター担体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008084441A JP4847489B2 (ja) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008084441A JP4847489B2 (ja) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009238331A JP2009238331A (ja) | 2009-10-15 |
JP4847489B2 true JP4847489B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=41252063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008084441A Expired - Fee Related JP4847489B2 (ja) | 2008-03-27 | 2008-03-27 | 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4847489B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002251721A (ja) * | 2001-02-22 | 2002-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体 |
JP2003173525A (ja) * | 2001-06-21 | 2003-06-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写装置 |
JP2005071536A (ja) * | 2003-08-27 | 2005-03-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気転写用マスター担体 |
JP2008130204A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Fujitsu Ltd | 磁気転写装置、磁気転写装置により製造された磁気ディスク媒体、及び磁気ディスク装置 |
-
2008
- 2008-03-27 JP JP2008084441A patent/JP4847489B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009238331A (ja) | 2009-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2001256644A (ja) | 磁気転写用マスター担体 | |
US20090073593A1 (en) | Master carrier for magnetic transfer, magnetic transfer method and magnetic recording medium | |
EP1898399A2 (en) | Master recording medium, magnetic transfer method , magnetic transfer apparatus, and magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing apparatus thereby made | |
US7974028B2 (en) | Magnetic transfer master carrier and magnetic transfer method | |
JP2008257753A (ja) | 磁気転写方法及び磁気記録媒体 | |
JP2009146557A (ja) | 磁気転写用マスター担体、及びこれを用いた磁気転写方法 | |
JP4847489B2 (ja) | 磁気転写用マスター担体及びその製造方法 | |
JP2010108587A (ja) | 磁気転写用マスター担体の製造方法、磁気転写用マスター担体、及び磁気転写方法 | |
US20100079887A1 (en) | Magnetic transfer method and magnetic recording medium | |
JP5465455B2 (ja) | 凹凸部材の製造方法 | |
US20090244776A1 (en) | Magnetic transfer master carrier and magnetic recording medium | |
JP2007242165A (ja) | 垂直磁気転写用マスター媒体、垂直磁気転写方法、垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録装置 | |
JP2009245533A (ja) | 磁気転写用マスター担体及び磁気記録媒体 | |
JP2010238301A (ja) | 磁気転写方法および磁気転写用マスター担体 | |
US7982984B2 (en) | Magnetic transfer master carrier, magnetic transfer method, and magnetic recording medium | |
JP2008004200A (ja) | マスター記録媒体の製造方法及び、製造されたマスター記録媒体を用いた磁気転写方法、磁気記録媒体の製造方法 | |
US20090244746A1 (en) | Magnetic transfer method and magnetic recording medium | |
JP2007317333A (ja) | マスター記録媒体、磁気転写方法、及びこれにより作製された磁気記録媒体並びに磁気記録再生装置 | |
JP2010086607A (ja) | 磁気転写用マスター担体、これを用いた磁気転写方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2010231842A (ja) | 磁気転写方法および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2009245544A (ja) | 磁気転写用マスター担体、磁気転写方法、及び磁気記録媒体 | |
JP2009230826A (ja) | 磁気転写方法及び磁気記録媒体 | |
US20090303627A1 (en) | Magnetic transfer master carrier, magnetic transfer method, and magnetic recording medium | |
US20100079894A1 (en) | Magnetic transfer master carrier and magnetic transfer method using the same | |
US20090237823A1 (en) | Magnetic transfer method for magnetic recording medium, and magnetic recording medium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100728 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101130 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110517 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110601 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110920 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111013 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141021 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |