JP2003203325A - 磁気転写用マスタ媒体、磁気転写記録方法、磁気記録用スレーブ媒体および磁気転写用マスタ媒体の製造方法 - Google Patents

磁気転写用マスタ媒体、磁気転写記録方法、磁気記録用スレーブ媒体および磁気転写用マスタ媒体の製造方法

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JP2003203325A
JP2003203325A JP2001402009A JP2001402009A JP2003203325A JP 2003203325 A JP2003203325 A JP 2003203325A JP 2001402009 A JP2001402009 A JP 2001402009A JP 2001402009 A JP2001402009 A JP 2001402009A JP 2003203325 A JP2003203325 A JP 2003203325A
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magnetic field
master medium
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Shingo Hamaguchi
慎吾 濱口
Sumio Kuroda
純夫 黒田
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Takeshi Tamanoi
健 玉野井
Koji Matsumoto
幸治 松本
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/86Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気転写用マスタ媒体の第1垂直強磁性体膜
の磁化境界における基板面に平行な方向での磁界の変化
を急峻にでき、外部磁界の変動による影響を低減し、磁
気転写用マスタ媒体から磁気記録用スレーブ媒体への正
確な転写を可能とした磁気転写用マスタ媒体を提供す
る。 【解決手段】 基板1の表面には転写すべき記録情報の
パターンに対応して凹部が形成され、該凹部には第1垂
直強磁性体膜2が成膜、形成されている。基板1の表面
および第1垂直強磁性体膜2の表面は同一平面状に平坦
化され、平坦化された基板1の表面と第1垂直強磁性体
膜2の表面の上に、第2垂直強磁性体膜3が成膜、形成
されるものとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気転写用マスタ
媒体、磁気転写記録方法、磁気記録用スレーブ媒体およ
び磁気転写用マスタ媒体の製造方法に関する。特に、転
写時の外部磁界が何らかの影響で変化しても、精度良く
転写することができる発明である。
【0002】
【従来の技術】磁気記録用スレーブ媒体(以下、単にス
レーブ媒体という)にサーボ信号等を書き込むのに、一
つ一つ信号を書き込んでいたのでは、書込み時間が膨大
になることから、予め磁気転写用マスタ媒体(以下、単
にマスタ媒体という)を作成して、このマスタ媒体の記
録情報をスレーブ媒体に転写する方法が知られている。
このマスタ媒体の作成も一つ一つ信号を書き込んでいた
のでは、同じく時間がかかることから、非磁性体の基板
に凹凸を形成し、その凹部に強磁性体を埋め込み、それ
により磁化を変化させて所定のマークに相当する漏れ磁
界を発生させて転写する方法が提案されている。
【0003】図9は、従来のマスタ媒体の説明図であ
る。同図(a)は、埋め込んだ磁性体が軟磁性体の場合
であり、同図(b)は、埋め込んだ磁性体が垂直強磁性
体の場合である。同図(a)において、基板1には凹部
20が形成され、この凹部20には軟磁性体4sが埋め
込まれており、これをマスタ媒体として使用する。一
方、スレーブ媒体5は、予め磁化5mの方向に初期化し
ておく。そしてマスタ媒体とスレーブ媒体5を近接さ
せ、外部磁界を印加すると外部磁界による磁力線12は
軟磁性体4sの領域に集中した後、スレーブ媒体5を通
る形となる。その結果、スレーブ媒体5においても、軟
磁性体4sに隣接する領域は外部磁界(磁力線12)に
より書き換えられ、軟磁性体4sに隣接しない領域は初
期化時の磁化5mがそのまま残ることから、マスタ媒体
に記録された情報がスレーブ媒体5に転写される。
【0004】同図(b)において、垂直強磁性体膜4が
凹部20に埋め込まれた基板1をマスタ媒体として、ス
レーブ媒体5を近接させ、外部磁界を印加すると垂直強
磁性体膜4は、外部磁界に倣い、外部磁界を増加する方
向の漏れ磁界を生じる。したがって、スレーブ媒体5か
ら見れば、凹部20(垂直強磁性体膜4の領域)からは
強い外部磁界14を受け、凹部20以外の領域(垂直強
磁性体膜4の存在しない領域)からは弱い外部磁界13
を受けることになる。例えば、この強い外部磁界14の
強さと弱い外部磁界13の強さとの中間の値が、スレー
ブ媒体5の初期化磁化が反転する強さの磁界となるよう
に外部磁界を調整すれば、強い外部磁界14の領域では
スレーブ媒体5の初期化磁化が反転し、弱い外部磁界1
3の領域ではスレーブ媒体5の初期化磁化が反転しない
ので、基板1の凹部20に相当するマスタ媒体のパター
ン(記録情報)がスレーブ媒体5に転写される。
【0005】図10は、従来のマスタ媒体の磁化状況と
磁化境界移動量の説明図である。図9と同一の部分につ
いては、同一の符号を付して、説明は省略する。図10
(a)は、理想的な場合の磁力線15を示し、同図
(b)は、現実の磁力線16を示す。理想的な磁力線1
5の場合は、垂直強磁性体膜4を垂直方向に延長した位
置にスレーブ媒体5における磁化境界5cが存在するの
に対し、現実の磁力線16の場合は、磁力線16の拡が
りが存在し、スレーブ媒体5における磁化境界5cは磁
力線16の拡がり状況に応じて変動する。同図(c)
は、磁力線16の拡がりによるスレーブ媒体5の位置で
の基板面に平行な方向における磁界の変化を示す。横軸
は、垂直強磁性体膜4の中心からの位置を相対値として
表し、垂直強磁性体膜4の基板面に平行な方向における
端部(原理的には、同図(a)に示すように、この端部
が磁化境界5cとなる。)を1として正規化して表して
いる。縦軸は基板1からスレーブ媒体5方向の任意の距
離における面の基板面に平行な方向位置における磁界で
あり、磁化境界5cの周辺では磁界の変化が生じ、磁界
は傾斜を持って変化している。同図(d)は、外部磁界
の変化に対する磁化境界の移動量の関係を示す。スレー
ブ媒体反転磁化Hiに対し、基準値である外部磁化Hn
が印加された場合に生じる磁化境界を基準とすると、外
部磁化Hnより強い外部磁界Hsが印加された場合には
磁化境界は外側に広がり、磁化境界は外側にΔSns移
動し、弱い外部磁界Hwが印加された場合には磁化境界
は内側に狭まり、磁化境界は内側にΔSnw移動するこ
とを示す。つまり、形状的な境界において外部磁界が傾
斜を持って変化する場合には、外部磁界の強さの程度に
より磁化境界が移動し、形状的な境界が、そのまま磁化
境界となるわけではない。
【0006】磁化境界はマスタ媒体からスレーブ媒体へ
の転写時に転写パターン境界となるから、転写パターン
の位置ずれを低減して正確な転写をするためには、転写
パターン境界の変動を低減することが必要である。その
ためには、磁界の変化状況を原理的な場合(同図
(a))に近づけること、つまり、磁界の基板面に平行
な方向での変化を急峻にすることが必要である。それに
は、磁界自体を大きくすれば良いから、マスタ媒体の垂
直強磁性体の飽和磁化を大きくする、マスタ媒体の垂直
強磁性体の膜厚を厚くする、マスタ媒体とスレーブ媒体
の接近距離をより近くすることが考えられる。しかし、
これらには、物理的な限界がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来のマスタ媒体は、
基板面に平行な方向において、外部磁界の大きさが傾斜
を有することから、転写パターンの境界(磁化境界)
が、外部磁界の変動による影響を受けて変動し、正確な
転写パターンが得られないという問題があった。
【0008】つまり、前記外部磁界の変動は、例えば、
磁石が発する磁界の大きさが所望値からずれている場
合、マスタ媒体とスレーブ媒体との間における転写時の
間隔の空間的なずれがある場合等に生じる。この変動が
あると、転写されるパターンの大きさに変動をきたすと
いう問題があった。本発明は斯かる事情に鑑みなされた
ものであり、その目的とするところはマスタ媒体の基板
表面に形成した凹部に第1垂直強磁性体膜を形成し、基
板表面および第1垂直強磁性体膜表面上に第2垂直強磁
性体膜を形成することにより、マスタ媒体の第1垂直強
磁性体膜の磁化境界における基板面に平行な方向での磁
界の変化を急峻にでき、外部磁界の変動による影響を低
減し、マスタ媒体からスレーブ媒体への正確な転写を可
能としたマスタ媒体を提供することにある。
【0009】また、本発明の他の目的は、本発明のマス
タ媒体を用いた磁気転写記録方法、該磁気転写記録方法
により情報を転写されたスレーブ媒体、本発明のマスタ
媒体の製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】第1発明に係るマスタ媒
体は、非磁性体の基板と、該基板の表面に形成された凹
部に成膜された第1垂直強磁性体膜と、前記基板の表面
および前記第1垂直強磁性体膜の表面に積層された第2
垂直強磁性体膜とを備えたことを特徴とする。
【0011】第2発明に係るマスタ媒体は、第1発明に
おいて、前記基板の表面および前記第1垂直強磁性体膜
の表面が同一平面状に平坦化されていることを特徴とす
る。
【0012】第3発明に係るマスタ媒体は、第1発明ま
たは第2発明のいずれかにおいて、前記第1垂直強磁性
体膜の磁化方向と第2垂直強磁性体膜の磁化方向とは、
平行になるように交換結合が作用する構成とされたこと
を特徴とする。
【0013】第4発明に係るマスタ媒体は、第1発明ま
たは第2発明のいずれかにおいて、前記第1垂直強磁性
体膜の磁化方向と第2垂直強磁性体膜の磁化方向とは、
反平行になるように交換結合が作用し、前記第1垂直強
磁性体膜の飽和磁化Ms1、膜厚t1、前記第2垂直強
磁性体膜の飽和磁化Ms2、膜厚t2についてMs1・
t1>Ms2・t2の関係を有する構成とされたことを
特徴とする。
【0014】第5発明に係る磁気転写記録方法は、第1
発明ないし第4発明のいずれかのマスタ媒体と予め磁化
を一方向に初期化した垂直異方性を有するスレーブ媒体
とを近接配置し、前記スレーブ媒体の前記初期化した磁
化方向と逆方向の外部磁界を印加することにより、前記
マスタ媒体に記録された記録情報を前記磁気記録用スレ
ーブ媒体に転写することを特徴とする。
【0015】第6発明に係るスレーブ媒体は、第5発明
に係る磁気転写記録方法により、前記マスタ媒体の記録
情報を転写されたことを特徴とする。
【0016】第7発明に係るマスタ媒体の製造方法は、
基板表面に第1垂直強磁性体膜と第2垂直強磁性体膜と
を備えたマスタ媒体の製造方法であって、前記基板表面
に凹部を形成する工程と、前記基板表面に前記第1垂直
強磁性体膜を成膜することにより前記凹部に前記第1垂
直強磁性体膜を形成する工程と、前記基板表面および前
記第1垂直強磁性体膜の表面を同一平面状に平坦化する
工程と、平坦化した前記基板表面および前記第1垂直強
磁性体膜の表面に前記第2垂直強磁性体膜を成膜する工
程とを備えたことを特徴とする。
【0017】第8発明に係るマスタ媒体の製造方法は、
第7発明において、前記基板表面および前記第1垂直強
磁性体膜の表面を同一平面状に平坦化する工程と、平坦
化した前記基板表面および前記第1垂直強磁性体膜の表
面に前記第2垂直強磁性体膜を成膜する工程との間に、
平坦化した前記基板表面および前記第1垂直強磁性体膜
の表面をエッチングする工程を備えたことを特徴とす
る。
【0018】第1発明ないし第4発明のマスタ媒体にお
いては、非磁性体の基板表面に形成した凹部に成膜され
た第1垂直強磁性体膜と基板表面および第1垂直強磁性
体膜表面に積層された第2垂直強磁性体膜とを備えたマ
スタ媒体としたので、第1垂直強磁性体膜および第2垂
直強磁性体膜が発生する磁界を大きくすることができ、
パターン境界における磁界変化を急峻にして、外部磁界
の変動による磁化パターンの転写位置ずれを低減するこ
とが可能となる。
【0019】第5発明の磁気転写記録方法にあっては、
第1発明ないし第4発明のいずれかのマスタ媒体と一方
向に初期化した垂直異方性を有するスレーブ媒体とを近
接配置し、スレーブ媒体の初期化時の磁化方向と逆方向
の外部磁界を印加することにより、マスタ媒体に記録さ
れた記録情報をスレーブ媒体に転写することから、転写
精度の高い磁気転写記録が可能となる。
【0020】第6発明のスレーブ媒体にあっては、第5
発明の磁気転写記録方法により、マスタ媒体の記録情報
をスレーブ媒体へ転写するので、精度良く転写されたス
レーブ媒体とすることが可能となる。
【0021】第7発明、第8発明のマスタ媒体製造方法
にあっては、基板表面に形成した凹部に第1垂直強磁性
体膜を成膜する工程と、基板表面および第1垂直強磁性
体膜の表面を同一平面状に平坦化する工程と、平坦化し
た基板表面および第1垂直強磁性体膜の表面に第2垂直
強磁性体膜を成膜する工程とを備えたマスタ媒体の製造
方法としたので、転写精度の高いマスタ媒体を安定して
提供することが可能となる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下本発明をその実施の形態を示
す図面に基づいて詳述する。図1は、本発明のマスタ媒
体の断面図である。図のマスタ媒体において、1は表面
が平坦な非磁性体の基板であり、例えば、ガラス基板、
ポリカーボネート等の合成樹脂基板、アルミニウム等の
金属基板、シリコン基板、カーボン基板等が適用でき
る。基板1には、その表面に転写すべき記録情報のパタ
ーンに対応して凹部20が形成され、第1垂直強磁性体
膜2が成膜、形成されている。基板1と第1垂直強磁性
体膜2の表面は同一平面状に平坦化され、平坦化された
同一平面(基板1の表面と第1垂直強磁性体膜2の表
面)上には、第2垂直強磁性体膜3が成膜、形成されて
いる。第1垂直強磁性体膜2、第2垂直強磁性体膜3
は、共に垂直磁性体であり、垂直磁気異方性を有する磁
性体を用いる。垂直磁性体の材質は特に制限されず、必
要な外部磁界においてマスタ媒体上にパターンが形成で
きれば良い。例えば、使用可能な材質として、TbFe
Co、TbFe、TbCo、GdFeCo、DyFeC
o、FePt、Co/Fe、Co/Pd等種々のものが
ある。なお、第1垂直強磁性体膜2と第2垂直強磁性体
膜3とは、常温で強い交換結合が作用するような材料の
組み合わせが良い。なお、スレーブ媒体としては、上記
マスタ媒体用の材料の他、Co−Cr系材料等が使用可
能である。
【0023】図2は、本発明のマスタ媒体における磁力
線状況説明図である。同図(a)は、比較のため従来の
マスタ媒体における磁力線状況を示し、同図(b)は、
本発明のマスタ媒体における磁力線状況を示す。図3
は、図2の場合の磁界状況と磁化境界移動量の説明図で
ある。図3(a)は、従来のマスタ媒体におけるマスタ
媒体から所定距離における基板面に平行な方向での磁界
状況と磁化境界移動量を示し、同図(b)は、本発明の
マスタ媒体におけるマスタ媒体から所定距離における基
板面に平行な方向での磁界状況と磁化境界移動量を示
す。
【0024】従来のマスタ媒体においては、図2(a)
に示すように基板1に形成された凹部20に、垂直強磁
性体4が形成され、垂直強磁性体4の漏れ磁束、即ち垂
直強磁性体4を通る磁力線6と、垂直強磁性体4、4間
の磁力線が存在しない領域7の作用により、マスタ媒体
に記録された記録情報をスレーブ媒体5へ転写する。こ
の際のマスタ媒体による磁界は、図3(a)に示され、
外部磁界のばらつきによる強い外部磁界Hsが印加され
た場合と、弱い外部磁界Hwが印加された場合とにおい
て、スレーブ媒体反転磁界Hiとなる位置がΔS1異な
り、外部磁界のばらつきにより磁化境界(即ち、転写パ
ターン境界)がずれることを示している。
【0025】本発明のマスタ媒体においては、第1垂直
強磁性体2の漏れ磁束、即ち第1垂直強磁性体2を通る
磁力線8と、第1垂直強磁性体2、2間において逆向き
に作用させた磁力線9により、マスタ媒体に記録された
記録情報をスレーブ媒体5へ転写する。この際のマスタ
媒体による磁界は、図3(b)に示され、外部磁界のば
らつきによる強い外部磁界Hsが印加された場合と、弱
い外部磁界Hwが印加された場合とにおいて、スレーブ
媒体反転磁界Hiとなる位置がΔS2異なり、外部磁界
のばらつきにより磁化の境界がずれることを示してい
る。本発明のマスタ媒体においては、逆向きに作用させ
た磁力線9の存在により、従来のマスタ媒体の場合に比
較して、磁界は約2倍になり、磁界の変化の傾きが約2
倍になるから、磁化境界のずれは、約半分になり(ΔS
2≒ΔS1/2)、マスタ媒体からスレーブ媒体5への
より正確な転写が可能となる。なお、転写時には、スレ
ーブ媒体5とマスタ媒体(基板1、第1垂直強磁性体
2、第2垂直強磁性体膜3)とは、近接配置される。近
接配置とは、密着状態あるいは非常に接近して配置され
た状態を意味する。さらに、図2(b)においては、ス
レーブ媒体5は、垂直強磁性体であり、その磁化は予め
一方向に初期化が行われているものとする。マスタ媒体
とスレーブ媒体5を相互に近接配置し、スレーブ媒体5
の初期化した磁化方向と逆方向の外部磁界を印加するこ
とにより、マスタ媒体に記録された記録情報をスレーブ
媒体に転写する磁気転写記録方法とすることができる。
このように簡単な構成により、マスタ媒体の記録情報を
精度良く転写されたスレーブ媒体を効率良く得ることが
できる。また、この磁気転写記録方法によりマスタ媒体
の記録情報を転写されたスレーブ媒体は、簡単な構成に
より、精度良く転写されることから、安価で精度の良い
スレーブ媒体とすることができる。
【0026】図4は、本発明の実施形態における磁化方
向説明図である。同図(a−1)は、マスタ媒体の初期
化時の磁化方向を示し、第1垂直強磁性体膜2と第2垂
直強磁性体膜3の組み合わせが、TM(遷移金属)リッ
チとRE(希土類元素)リッチの組み合わせである場合
を示す。同図(a−2)は、同じくマスタ媒体の初期化
時の磁化方向を示し、第1垂直強磁性体膜2と第2垂直
強磁性体膜3の組み合わせが、TMリッチとTMリッチ
の組み合わせ、あるいは、REリッチとREリッチの組
み合わせである場合を示す。マスタ媒体の初期化時の磁
化方向は、第1垂直強磁性体膜2と交換結合している領
域の第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向がスレーブ媒体
に転写させる時の外部磁界と反平行になる方向である。
第1垂直強磁性体膜2と第2垂直強磁性体膜3の組み合
わせが、TMリッチとREリッチの組み合わせである場
合と、TMリッチとTMリッチの組み合わせ、あるいは
REリッチとREリッチの組み合わせである場合とで、
交換結合時の磁化方向は異なる。いずれの場合も第1垂
直強磁性体膜2の磁化を向けたい方向に大きな外部磁界
を印加してから、外部磁界を0にすることにより実行で
きる。
【0027】同図(a−1)においては、磁化が反平行
の時に交換結合するから、第1垂直強磁性体膜2の磁化
方向(図上矢印上向き)に対し、交換結合している第2
垂直強磁性体膜3aの磁化方向は逆方向(図上矢印下向
き)となり、第1垂直強磁性体膜2と交換結合しない領
域にある第2垂直強磁性体膜3bの磁化方向は第1垂直
強磁性体膜2の磁化方向と一致する。同図(a−2)に
おいては、磁化が平行の時に交換結合するから、第1垂
直強磁性体膜2の磁化方向(図上矢印下向き)に対し、
交換結合している第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向は
同方向(図上矢印下向き)となり、第1垂直強磁性体膜
2と交換結合しない領域にある第2垂直強磁性体膜3b
の磁化方向は第1垂直強磁性体膜2の磁化方向と一致す
る。なお、第2垂直強磁性体膜3aと第2垂直強磁性体
膜3bの間の境界線(符号3c)は、第2垂直強磁性体
膜3aと第2垂直強磁性体膜3bの磁化方向を示すため
の便宜上のものであり、記録情報転写時のパターン境界
に対応する。
【0028】同図(b−1)は、マスタ媒体の外部磁界
印加時の磁化方向を示す。第1垂直強磁性体膜2と第2
垂直強磁性体膜3の組み合わせは、同図(a−1)の場
合と同一である。同図(b−2)は、同じくマスタ媒体
の外部磁界印加時の磁化方向を示す。第1垂直強磁性体
膜2と第2垂直強磁性体膜3の組み合わせは、同図(a
−2)の場合と同一である。同図(b−1)において
は、外部磁界H(図上矢印上向き)に対し、第1垂直強
磁性体膜2の磁化方向、第2垂直強磁性体膜3bの磁化
方向は同一であり、第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向
は逆方向となる。同図(b−2)においては、外部磁界
H(図上矢印上向き)に対し、第1垂直強磁性体膜2の
磁化方向、第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向は逆方向
であり、第2垂直強磁性体膜3bの磁化方向は同方向と
なる。
【0029】図5、図6は、本発明の実施の形態におけ
る磁化状態説明図であり、第1垂直磁性体膜2および第
2垂直磁性体膜3の部分のみを取り出して示し、図4と
同一の部分については、同一の符号を付して、説明は省
略する。図5は、磁化が反平行の時に交換結合をする場
合(第1垂直磁性体膜2がTMリッチ、第2垂直磁性体
膜3がREリッチの場合、または、この逆に第1垂直磁
性体膜2がREリッチ、第2垂直磁性体膜3がTMリッ
チの場合)を示す。図6は、磁化が平行の時に交換結合
をする場合(第1垂直磁性体膜2および第2垂直磁性体
膜3がTMリッチの場合、または、第1垂直磁性体膜2
および第2垂直磁性体膜3がREリッチの場合)を示
す。図5、図6において、(a)ないし(d)は、磁化
方向の取り得る組み合わせの4つの状態(状態0ないし
状態3。状態0は初期状態でもある。)を示す。
【0030】図5において、「状態0」は、第1垂直強
磁性体膜2の磁化方向は外部磁界Hと同方向、第2垂直
強磁性体膜3aの磁化方向は外部磁界Hと逆方向の場合
である。「状態1」は、第1垂直強磁性体膜2の磁化方
向は外部磁界Hと同方向、第2垂直強磁性体膜3aの磁
化方向は外部磁界Hと同方向の場合であり、交換結合し
ていないから、磁壁10が存在する。「状態2」は、第
1垂直強磁性体膜2の磁化方向は外部磁界Hと逆方向、
第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向は外部磁界Hと逆方
向の場合であり、「状態1」と同様に磁壁10が存在す
る。「状態3」は、第1垂直強磁性体膜2の磁化方向は
外部磁界Hと逆方向、第2垂直強磁性体膜3aの磁化方
向は外部磁界Hと同方向の場合である。
【0031】図6において、「状態0」は、第1垂直強
磁性体膜2の磁化方向は外部磁界Hと逆方向、第2垂直
強磁性体膜3aの磁化方向は外部磁界Hと逆方向の場合
である。「状態1」は、第1垂直強磁性体膜2の磁化方
向は外部磁界Hと逆方向、第2垂直強磁性体膜3aの磁
化方向は外部磁界Hと同方向の場合であり、交換結合し
ていないから、磁壁10が存在する。「状態2」は、第
1垂直強磁性体膜2の磁化方向は外部磁界Hと同方向、
第2垂直強磁性体膜3aの磁化方向は外部磁界Hと逆方
向の場合であり、「状態1」と同様に磁壁10が存在す
る。「状態3」は、第1垂直強磁性体膜2の磁化方向は
外部磁界Hと同方向、第2垂直強磁性体膜3aの磁化方
向は外部磁界Hと同方向の場合である。
【0032】いま、第1垂直強磁性体膜2における飽和
磁化(単位体積当たりの磁気モーメント)をMs1、保
磁力をHc1、膜厚をt1、第2垂直強磁性体膜3にお
ける飽和磁化をMs2、保磁力をHc2、膜厚をt2、
第1垂直強磁性体膜2と第2垂直強磁性体膜3との界面
に磁壁が存在する時に生じている磁壁エネルギをσwと
し、マスタ媒体からスレーブ媒体への記録情報の転写時
に印加する外部磁界HをHとする。また、簡単のため、
第1垂直強磁性体膜2と接していない領域の第2垂直強
磁性体膜3bの領域は既に外部磁界Hの方向に倣ってい
るものとする。
【0033】図5において、第1垂直強磁性体膜2と第
2垂直強磁性体膜3aとの対になっている領域につい
て、状態0におけるエネルギE0は式(1)、状態1に
おけるエネルギE1は式(2)、状態2におけるエネル
ギE2は式(3)、状態3におけるエネルギE3は式
(4)により各々示される。なお、第1垂直強磁性体膜
2と接していない第2垂直強磁性体膜3bの領域につい
ては共通であるから計算からは除いておく。 E0=(Ms1・t1−Ms2・t2)H …(1) E1=(−Ms1・t1−Ms2・t2)H+σw …(2) E2=(Ms1・t1+Ms2・t2)H+σw …(3) E3=(−Ms1・t1+Ms2・t2)H …(4)
【0034】保持力Hc1、Hc2を考慮して、状態0
から状態1、状態2、状態3へ状態変移する場合に必要
な各外部磁界H01、H02、H03を求めると式
(5)、式(6)、式(7)となる。 H01=(σw+2Ms2・Hc2・t2)/(2Ms1・t1) …(5) H02=(σw+2Ms1・Hc1・t1)/(−2Ms2・t2)…(6) H03=[σw+2(Ms1・Hc1・t1 +Ms2・Hc2・t2)]/2(Ms1・t1−Ms2・t2) …(7)
【0035】いま、スレーブ媒体への転写時に外部磁界
Hを印加した場合、スレーブ媒体への転写が可能な「状
態0」または「状態2」を保つには、「H<H01、H
03」の関係を満たすことが必要条件となる。仮に、
「H01、H03<H」となると、マスタ媒体には磁化
のパターンが形成されない(状態1、状態3となり、パ
ターン境界3cが生じない)ので、全く転写はできな
い。したがって、より確実に転写を実現するには、「H
≪H01、H03」の関係を有することが望ましい。
【0036】H01を大きくするには、式(5)より
「σwを大きくする。Ms2を大きくする。Hc2を大
きくする。Ms1・t1を小さくする。」ことが、考慮
の対象となる。H03を大きくするには、式(7)より
「σwを大きくする。Ms1、Ms2を大きくする。H
c1、Hc2を大きくする。Ms1・t1−Ms2・t
2を正の範囲で小さくする。」ことが、考慮の対象とな
る。さらに、交換結合していない部分の第2垂直強磁性
体3の磁化を確実に外部磁界の方向に向けるためには、
Hc2<Hが必要になる。従って、Hc2は小さくした
い。また、Ms2・t2は、マスタ媒体が発生する磁界
の大きさに関係するので大きくしたい。これらを総合的
に参酌すれば、「σwを大きくする。Hc1を大きくす
る。Ms1・t1>Ms2・t2の関係を確実に維持す
る。」ことが有効である。特に、Ms1・t1>Ms2
・t2の関係は、外部磁界H03の方向の変動と関連す
ることから必須条件である。
【0037】図6において、第1垂直強磁性体膜2と第
2垂直強磁性体膜3aとの対になっている領域につい
て、状態0におけるエネルギE0は式(8)、状態1に
おけるエネルギE1は式(9)、状態2におけるエネル
ギE2は式(10)、状態3におけるエネルギE3は式
(11)により各々示される。なお、第1垂直強磁性体
膜2と接していない第2垂直強磁性体膜3bの領域につ
いては共通であるから計算からは除いておく。 E0=(Ms1・t1+Ms2・t2)H …(8) E1=(−Ms1・t1+Ms2・t2)H+σw …(9) E2=(Ms1・t1−Ms2・t2)H+σw …(10) E3=(−Ms1・t1−Ms2・t2)H …(11)
【0038】保持力Hc1、Hc2を考慮して、状態0
から状態1、状態2、状態3へ状態変移する場合に必要
な各外部磁界H01、H02、H03を求めると式(1
2)、式(13)、式(14)となる。 H01=(σw+2Ms2・Hc2・t2)/(2Ms1・t1)…(12) H02=(σw+2Ms1・Hc1・t1)/(2Ms2・t2)…(13) H03=[σw+2(Ms1・Hc1・t1 +Ms2・Hc2・t2)]/2(Ms1・t1+Ms2・t2) …(14)
【0039】いま、スレーブ媒体への転写時に外部磁界
Hを印加した場合、スレーブ媒体への転写が可能な「状
態0」または「状態2」を保つには、「H<H01、H
03」の関係を満たすことが必要条件となる。仮に、
「H01、H03<H」となると、マスタ媒体には磁化
のパターンが形成されない(状態1、状態3となり、パ
ターン境界3cが生じない)ので、全く転写はできな
い。したがって、より確実に転写を実現するには、「H
≪H01、H03」の関係を有することが望ましい。
【0040】H01を大きくするには、式(12)より
「σwを大きくする。Ms2を大きくする。Hc2を大
きくする。Ms1・t1を小さくする。」ことが、考慮
の対象となる。H03を大きくするには、式(14)よ
り「σwを大きくする。Ms1、Ms2を大きくする。
Hc1、Hc2を大きくする。Ms1・t1+Ms2・
t2を小さくする。」ことが、考慮の対象となる。さら
に、交換結合していない部分の第2垂直強磁性体3の磁
化を確実に外部磁界の方向に向けるためには、Hc2<
Hが必要になる。従って、Hc2は小さくしたい。ま
た、Ms2・t2は、マスタ媒体が発生する磁界の大き
さに関係するので大きくしたい。これらを総合的に参酌
すれば、「σwを大きくする。Hc1を大きくする。M
s2を大きくする。Ms1・t1を小さくする。」こと
が有効である。
【0041】図7は、本発明の実施例における磁界状況
と磁化境界移動量の説明図である。マスタ媒体に使用し
た磁性体は、第1垂直強磁性体膜2として、Tb2 6
5 6 Co1 8 (Ms1=40emu/cc、Hc1>
15kOe、t1=40nm、REリッチ)、第2垂直
強磁性体膜3として、Tb3 2 Fe6 8 (Ms2=30
0emu/cc、Hc2=800Oe、t2=40n
m、REリッチ)であり、σw/(Ms1・t1)=8
kOeである。なお、1(emu/cc)=4π/10
000(Wb/m2 )=1.257(mT)であり、1
(Oe)=1000/4π(A/m)=79.58(A
/m)である。同図(a)は、直径0.1μmの凹部2
0を形成した時のマスタ媒体の表面から20nmの位置
におけるマスタ媒体が発生する磁界の変化を示し、同図
(b)は、マスタ媒体の断面を同図(a)に対応させて
示す。
【0042】同図(a)に示す通り、パターン境界3c
において、マスタ媒体が発生する磁界は600Oeであ
るから、外部磁界として2.4kOeを印加すれば、保
磁力3kOeのスレーブ媒体に転写が可能である。パタ
ーン境界3c(中心からの位置は0.05μm)に対
し、±10%の位置におけるマスタ媒体による磁界は、
図示する通り、+10%の位置では400Oe、−10
%の位置では815Oeであるから、外部磁界が2.1
85〜2.60kOeの範囲内であれば、±10%のパ
ターン精度(位置精度)で転写が可能となる。この際の
外部磁界のマージンは、(2.185−2.4)/2.
4〜(2.60−2.4)/2.4=−0.09〜+
0.08であり、−9〜+8(%)となる。また、状態
1、状態2、状態3(図6参照)における各外部磁界H
01、H02、H03は、式(12)〜(14)より、
各々7.75kOe、2.53kOe、2.68kOe
であり、外部磁界2.185〜2.60kOeの範囲内
においては、状態0または状態2となり、いずれにおい
ても第1垂直強磁性体膜2と対になっている第2垂直強
磁性体膜3(3a)の領域は初期状態を維持することが
できる。
【0043】図9(b)に示した従来のマスタ媒体にお
いては、マスタ媒体が発生する磁界は、本発明に係るマ
スタ媒体に比較して半分になるので、パターン境界(3
c)に対し、±10%の位置におけるマスタ媒体による
磁界は、+10%の位置では200Oe、−10%の位
置では407Oeであるから、外部磁界が2.593〜
2.80kOeの範囲内であれば、±10%のパターン
精度(位置精度)で転写が可能となる。この際の外部磁
界のマージンは、(2.593−2.7)/2.7〜
(2.80−2.7)/2.7=−0.04〜+0.0
3であり、−4〜+3(%)となる。つまり、本発明に
係るマスタ媒体では、印加する外部磁界のマージンは従
来のマスタ媒体に比較して約2倍以上になっている。
【0044】図8は、本発明のマスタ媒体の製造工程図
である。図において、基板1は表面が平坦な非磁性体で
あり、材料は先に述べたとおり(図1参照)である。基
板1には、その表面に転写すべき記録情報のパターンに
対応して凹部20を形成する(a)。凹部20は通常用
いられるホトリソグラフィ技術により形成する。エッチ
ング技術としては、反応性エッチング技術等が適用可能
である。凹部20の形状は、例えば、実施例において述
べた直径0.1μm、深さ40nmとする。凹部20を
形成した基板1の表面にスパッタリング等の成膜技術を
用いて凹部20を埋めるように第1垂直強磁性体膜2を
成膜する(b)。第1垂直強磁性体膜2を成膜、形成さ
れた基板1は、基板1の表面および凹部20に形成され
た第1垂直強磁性体膜2の表面とが同一平面状になるよ
うに、例えばアルゴンプラズマを用いて、物理エッチン
グされ、平坦化される(c)。表面を平坦化する理由
は、磁壁エネルギσwを大きくするためである。表面を
平坦化された基板1の表面に生成され残留している酸化
物、窒化物を除去するために、さらに、例えば化学エッ
チングにより、基板1の表面および第1垂直強磁性体膜
2の表面をエッチングし、清浄化する(c)。清浄化エ
ッチングをする理由は、表面に残留している酸化物、窒
化物は磁性体と異なる性質を持つ物質であり、残留した
ままにすると、この後に形成する第2垂直強磁性体膜3
と先に形成した第1垂直強磁性体膜2との交換結合が弱
くなり、σwを大きくすることができないからである。
清浄化された基板1の表面および第1垂直強磁性体膜2
の表面に、第2垂直強磁性体膜3を成膜する(d)。第
2垂直強磁性体膜3の成膜方法は第1垂直強磁性体膜2
と同種のプロセスでも良いし、適宜他の方法を用いても
良い。
【0045】
【発明の効果】以上詳述したように、第1発明ないし第
4発明にあっては、垂直強磁性体膜が発生する磁界を大
きくし、パターン境界における磁界変化を急峻にするこ
とにより、外部磁界の変動による磁化パターンの転写位
置ずれを低減し、転写精度の高いマスタ媒体とすること
ができる。また、同一の転写精度とすれば、外部磁界の
変動マージンを大きくすることができ、外部磁界発生装
置における仕様の許容範囲を大きくすることが可能とな
る。
【0046】第5発明にあっては、第1発明ないし第4
発明に係るマスタ媒体を用いて、マスタ媒体からスレー
ブ媒体への記録情報の転写をすることから、転写精度の
高い磁気転写記録方法が可能となる。
【0047】第6発明にあっては、第5発明に係る磁気
転写記録方法によりマスタ媒体に記録された記録情報を
スレーブ媒体へ転写するので、精度良く転写されたスレ
ーブ媒体を提供することが可能となる。
【0048】第7発明、第8発明にあっては、スレーブ
媒体への転写精度の高いマスタ媒体を安定的に効率よく
提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の磁気転写用マスタ媒体の断面図であ
る。
【図2】本発明の磁気転写用マスタ媒体における磁力線
状況説明図である。
【図3】図2の場合の磁界状況と磁化境界移動量の説明
図である。
【図4】本発明の実施の形態における磁化方向説明図で
ある。
【図5】本発明の実施の形態における磁化状態説明図で
ある。
【図6】本発明の実施の形態における磁化状態説明図で
ある。
【図7】本発明の実施例における磁界状況と磁化境界移
動量の説明図である。
【図8】本発明の磁気転写用マスタ媒体の製造工程図で
ある。
【図9】従来の磁気転写用マスタ媒体の説明図である。
【図10】従来の磁気転写用マスタ媒体の磁界状況と磁
化境界移動量の説明図である。
【符号の説明】
1 基板 2 第1垂直強磁性体膜 3 第2垂直強磁性体膜 5 スレーブ媒体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾崎 一幸 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 玉野井 健 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 松本 幸治 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 Fターム(参考) 5D006 BB01 BB07 BB08 CB07 5D112 AA02 AA05 AA11 BB01 GA20

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性体の基板と、該基板の表面に形成
    された凹部に成膜された第1垂直強磁性体膜と、前記基
    板の表面および前記第1垂直強磁性体膜の表面に積層さ
    れた第2垂直強磁性体膜とを備えたことを特徴とする磁
    気転写用マスタ媒体。
  2. 【請求項2】 前記基板の表面および前記第1垂直強磁
    性体膜の表面が同一平面状に平坦化されていることを特
    徴とする請求項1に記載の磁気転写用マスタ媒体。
  3. 【請求項3】 前記第1垂直強磁性体膜の磁化方向と第
    2垂直強磁性体膜の磁化方向とは、平行になるように交
    換結合が作用する構成とされたことを特徴とする請求項
    1または2に記載の磁気転写用マスタ媒体。
  4. 【請求項4】 前記第1垂直強磁性体膜の磁化方向と第
    2垂直強磁性体膜の磁化方向とは、反平行になるように
    交換結合が作用し、前記第1垂直強磁性体膜の飽和磁化
    Ms1、膜厚t1、前記第2垂直強磁性体膜の飽和磁化
    Ms2、膜厚t2についてMs1・t1>Ms2・t2
    の関係を有する構成とされたことを特徴とする請求項1
    または2に記載の磁気転写用マスタ媒体。
  5. 【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかに記載の磁
    気転写用マスタ媒体と予め磁化を一方向に初期化した垂
    直異方性を有する磁気記録用スレーブ媒体とを近接配置
    し、前記磁気記録用スレーブ媒体の前記初期化した磁化
    方向と逆方向の外部磁界を印加することにより、前記磁
    気転写用マスタ媒体に記録された記録情報を前記磁気記
    録用スレーブ媒体に転写することを特徴とする磁気転写
    記録方法。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の磁気転写記録方法によ
    り、前記磁気転写用マスタ媒体の記録情報を転写された
    ことを特徴とする磁気記録用スレーブ媒体。
  7. 【請求項7】 基板表面に第1垂直強磁性体膜と第2垂
    直強磁性体膜とを備えた磁気転写用マスタ媒体の製造方
    法であって、前記基板表面に凹部を形成する工程と、前
    記基板表面に前記第1垂直強磁性体膜を成膜することに
    より前記凹部に前記第1垂直強磁性体膜を形成する工程
    と、前記基板表面および前記第1垂直強磁性体膜の表面
    を同一平面状に平坦化する工程と、平坦化した前記基板
    表面および前記第1垂直強磁性体膜の表面に前記第2垂
    直強磁性体膜を成膜する工程とを備えたことを特徴とす
    る磁気転写用マスタ媒体の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記基板表面および前記第1垂直強磁性
    体膜の表面を同一平面状に平坦化する工程と、平坦化し
    た前記基板表面および前記第1垂直強磁性体膜の表面に
    前記第2垂直強磁性体膜を成膜する工程との間に、平坦
    化した前記基板表面および前記第1垂直強磁性体膜の表
    面をエッチングする工程を備えたことを特徴とする請求
    項7に記載の磁気転写用マスタ媒体の製造方法。
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