JP2008060564A - 異なる熱安定性の抵抗材料を有する電気ヒューズ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板25上に形成された抵抗を有する電気ヒューズである。抵抗は、第1の領域10と第1の領域に埋め込まれた第2の領域12を有する。第1の領域10は第1の材料で形成され、第2の領域12は第1の材料よりも熱安定性が低い第2の材料で形成される。異なる熱安定性のため、第2の領域12は、プログラミング電圧が印加されるときに破断しやすい。このように形成した電気ヒューズはより信頼性が増し、使われるプログラミング電圧をより低くできる。
【選択図】図1
Description
Claims (18)
- 基板上に形成された抵抗を備える電気ヒューズであり、
前記抵抗は、第1の領域を規定する第1の材料と、前記第1の領域に埋め込まれた第2の領域を規定する第2の材料とを備え、
前記第1の材料は第1の熱安定性を有し、前記第2の材料は前記第1の熱安定性よりも低い第2の熱安定性を有している電気ヒューズ。 - 前記第1の材料はポリシリコン上に金属シリサイドを備え、前記第2の材料はポリシリコンゲルマニウム上に金属シリサイドを備える請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記金属シリサイドは、NiSix、CoSix、TiSix、PdSix、PtSix、YbSix、及びErSixからなるグループから選択され、前記xは0.3乃至2である請求項2に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料は金属シリサイドを備え、前記第2の材料はポリシリコン上の金属シリサイドを備える請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記金属シリサイドは、NiSix、CoSix、TiSix、PdSix、PtSix、YbSix、及びErSixからなるグループから選択され、前記xは0.3乃至2である請求項4に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料はNiSiであり、前記第2の材料はCoSi2である請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料はNiSi2であり、前記第2の材料はNi3Siである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料はWであり、前記第2の材料はNiSiである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料はTiNであり、前記第2の材料はNiSiである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記第1の材料はTaCであり、前記第2の材料はNiSiである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記基板はシリコン・オン・インシュレータを備え、前記第1の材料はシリコン上の金属シリサイドであり、前記第2の材料はシリコンゲルマニウム上の金属シリサイドゲルマニウムである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記金属シリサイドは、NiSix、CoSix、TiSix、PdSix、PtSix、YbSix、及びErSixからなるグループから選択され、前記xは0.3乃至2である請求項11に記載の電気ヒューズ。
- 前記基板はシリコン・オン・インシュレータを備え、前記第1の材料はシリコン上の金属シリサイドであり、前記第2の材料はシリコンゲルマニウム上のシリコン上の金属シリサイドである請求項1に記載の電気ヒューズ。
- 前記金属シリサイドは、NiSix、CoSix、TiSix、PdSix、PtSix、YbSix、及びErSixからなるグループから選択され、前記xは0.3乃至2である請求項13に記載の電気ヒューズ。
- 前記基板は絶縁体上にシリコンゲルマニウムを備え、前記第1の材料はシリコン上の金属シリサイドであり、前記第2の材料は金属シリサイドゲルマニウムである請求項1記載の電気ヒューズ。
- 前記金属シリサイドは、NiSix、CoSix、TiSix、PdSix、PtSix、YbSix、及びErSixからなるグループから選択され、前記xは0.3乃至2である請求項15に記載の電気ヒューズ。
- 請求項1に記載の電気ヒューズを備えるシリコン・オン・インシュレータ相補型金属酸化物半導体の大規模システム集積回路(SOI・CMOS・LSI)装置。
- 請求項1に記載の電気ヒューズを備えるバルク相補型金属酸化物半導体の大規模システム集積回路(CMOS LSI)装置。
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