JP2008059807A - エキシマランプ - Google Patents
エキシマランプ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008059807A JP2008059807A JP2006232652A JP2006232652A JP2008059807A JP 2008059807 A JP2008059807 A JP 2008059807A JP 2006232652 A JP2006232652 A JP 2006232652A JP 2006232652 A JP2006232652 A JP 2006232652A JP 2008059807 A JP2008059807 A JP 2008059807A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric
- discharge vessel
- excimer lamp
- support member
- excimer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 26
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 16
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000010485 coping Effects 0.000 abstract 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- -1 etc. Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/046—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using capacitive means around the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/04—Electrodes; Screens; Shields
- H01J61/06—Main electrodes
- H01J61/067—Main electrodes for low-pressure discharge lamps
- H01J61/0672—Main electrodes for low-pressure discharge lamps characterised by the construction of the electrode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/50—Auxiliary parts or solid material within the envelope for reducing risk of explosion upon breakage of the envelope, e.g. for use in mines
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/24—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
- H01J9/245—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps
- H01J9/247—Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases specially adapted for gas discharge tubes or lamps specially adapted for gas-discharge lamps
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Vessels And Coating Films For Discharge Lamps (AREA)
Abstract
【解決手段】 誘電体からなる放電容器にエキシマ生成ガスが封入され、一対の電極が備わり、該一対の電極間には二つの誘電体部材が介在してなり、該一対の電極に高電圧が印加されて放電するエキシマランプにおいて、一方の誘電体部材には他方の誘電体部材に向けて延在する支持部材を有し、該支持部材と該他方の誘電体部材とが接触する、該支持部材または該他方の誘電体部材の部位に、緩衝材を具備したことを特徴とするエキシマランプとする。
【選択図】 図1
Description
シリカガラス製の管の内面に生じた傷を計測し、ランプの割れ特性と直接結びつけることは難しい。ガラスの表面には無数の細かい傷があるが、そのいずれが割れの起点となっているかは判断がむずかしい。そこでシリカガラス表面の傷について表面粗さ計を用いて以下のような詳細な調査を行った。まず、シリカガラス製の原管表面の傷の深さについて調査した。シリカガラス製の原管というのは、ランプの放電容器に使用するシリカガラス製の原材料管のことをいう。シリカガラス製の原管には深さ0.01μm程度の傷が多数存在していた。
長尺のエキシマランプを包装箱に収容し、これを大型振動試験装置に搭載して以下の条件で振動させた。
周波数範囲:10~150Hz
振動加速度:7.4m/s2
スイープ :20分対数掃引方式
方向 :3方向
振動時間 :1時間
なお、振動試験は実際の輸送状態を模したものであり、実際に輸送を行っても良い。本調査において実際の輸送をおこなった試料(陸送約600km)と振動試験装置にかけたものを比較した結果、実際の輸送をおこなったものと振動試験を行ったものは傷の発生、および防止効果について同等の結果を得た。
図5は本発明のエキシマランプの支持部材付近の拡大図である。図5(a)は支持部材3を含む領域の放電容器1の部分断面図であり、図5(b)は図5(a)のC−C´断面図を示す。放電容器1の内面の支持部材3と相互接触する箇所にあらかじめ窒化ホウ素の膜42を塗布したものである。この場合も窒化ホウ素膜の作用効果については図2の実施形態と同等であることが確認された。
図6は本発明のエキシマランプとして、放電容器にシリカガラス製の角型管を利用してエキシマランプを構成した事例である。図6(a)は支持部材23を含む領域の角型の放電容器21の部分断面図であり、図6(b)は図6(a)のD−D´断面図を示す。放電容器21の内部には支持部材23が配置され、支持部材23と放電容器21の接触部には窒化ホウ素の膜が緩衝材24として塗布されている。放電容器21の内部にはエキシマ生成ガス7が封入され、放電容器21の外面に外部電極25と外部電極26が形成されこの電極間に高周波電源PSが接続されている。外部電極25、26は網状に加工した電極を放電容器21に貼り付けたものを例示したが、例えば、外部電極の一方はニッケル金属膜、外部電極の他方はITO膜であったり、メッシュ状に形成した金属蒸着膜やパンチングメタル、エキスパンドメタルなどが採用されうる。外部電極25、26の間には放電容器21の2つの誘電体壁が介在する。
図7は角型管21と支持部材23の斜視図である。支持部材23は直径5mmの合成シリカガラス製の円柱体で、下部に窒化ホウ素の膜24が形成されている(図中の(1))。これをピンセットなどを用いて角型管の所定の位置に置き、外部から火炎バーナー50によって放電容器21の外周部を溶融させ、支持部材23のシリカガラス面と接合・溶着させる(図中の(2))。
2 内管
3 支持部材
4 緩衝材
5 内部電極
5A、5B 金属箔体
6 外部電極
7 エキシマ生成ガス
10 エキシマランプ
21 放電容器
23 支持部材
24 緩衝材
25 外部電極
26 外部電極
31 支持部材
41 緩衝材
42 緩衝材
60 放電容器
61 外管
62 内管
71 外部電極
72 内部電極
80 支持部材
PS 電源
Claims (4)
- 誘電体からなる放電容器にエキシマ生成ガスが封入され、一対の電極が備わり、該一対の電極間には二つの誘電体部材が介在してなり、該一対の電極に高電圧が印加されて放電するエキシマランプにおいて、
一方の誘電体部材には他方の誘電体部材に向けて延在する誘電体からなる支持部材を有し、
該支持部材と該他方の誘電体部材とが接触する、該支持部材または該他方の誘電体部材の部位に、緩衝材を具備したことを特徴とするエキシマランプ。 - 前記放電容器の端部において気密に封止された内部電極と該放電容器の外面に配置された外部電極を備え、該内部電極は、少なくとも該外部電極との間で放電を行う部位の周囲が誘電体からなる内管によって覆われてなり、該内管から該放電容器に向けて延在する誘電体からなる支持部材を有するものであることを特徴とする請求項1に記載のエキシマランプ。
- 前記緩衝材は、窒化ホウ素あるいは窒化ホウ素を主成分とするものであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエキシマランプ。
- 前記窒化ホウ素は少なくとも一部が六方晶系結晶からなることを特徴とする請求項3に記載のエキシマランプ。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232652A JP4830722B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | エキシマランプ |
TW096126193A TWI408722B (zh) | 2006-08-29 | 2007-07-18 | Excimer lamp |
KR1020070083819A KR101072146B1 (ko) | 2006-08-29 | 2007-08-21 | 엑시머 램프 |
CN2007101481598A CN101136307B (zh) | 2006-08-29 | 2007-08-28 | 准分子灯 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232652A JP4830722B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | エキシマランプ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008059807A true JP2008059807A (ja) | 2008-03-13 |
JP4830722B2 JP4830722B2 (ja) | 2011-12-07 |
Family
ID=39160314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232652A Active JP4830722B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | エキシマランプ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4830722B2 (ja) |
KR (1) | KR101072146B1 (ja) |
CN (1) | CN101136307B (ja) |
TW (1) | TWI408722B (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102172833A (zh) * | 2011-02-21 | 2011-09-07 | 南京航空航天大学 | 基于放电诱导可控烧蚀的非导电工程陶瓷磨削加工方法 |
CN102419496A (zh) * | 2010-09-02 | 2012-04-18 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
JP2014032911A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2016081695A (ja) * | 2014-10-16 | 2016-05-16 | ウシオ電機株式会社 | エキシマ放電ランプ |
KR20160062704A (ko) * | 2014-11-25 | 2016-06-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 엑시머 방전 램프 장치 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5311271B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-10-09 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ及び当該エキシマランプの製造方法 |
JP5741603B2 (ja) * | 2013-01-30 | 2015-07-01 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
KR102207678B1 (ko) * | 2019-04-24 | 2021-01-26 | 주식회사 원익큐엔씨 | 임플란트 표면개질 처리용 자외선 램프 |
CN112043972B (zh) * | 2020-10-10 | 2022-10-11 | 罗璐 | 一种夹壁管状的准分子灯及美容仪 |
KR20240073094A (ko) * | 2022-02-24 | 2024-05-24 | 엘지전자 주식회사 | 엑시머 램프 및 이를 포함하는 광 조사 장치 |
CN116173861A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-05-30 | 广明源光科技股份有限公司 | 一种用于植入物表面改性的照射装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004119038A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 無電極放電灯、無電極放電灯点灯装置及び照明装置 |
JP2005100934A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-04-14 | Ushio Inc | エキシマランプ |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3355976B2 (ja) * | 1997-02-05 | 2002-12-09 | ウシオ電機株式会社 | 放電ランプ点灯装置 |
JP2000011953A (ja) | 1998-06-25 | 2000-01-14 | Nec Corp | 多重管からなる蛍光ランプ |
JP2000294192A (ja) | 1999-04-06 | 2000-10-20 | Sanken Electric Co Ltd | 二重管式放電管及びその製造方法 |
DE19936863A1 (de) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Herstellungsverfahren für eine Gasentladungslampe |
JP4461707B2 (ja) * | 2003-05-06 | 2010-05-12 | ウシオ電機株式会社 | エキシマランプ |
-
2006
- 2006-08-29 JP JP2006232652A patent/JP4830722B2/ja active Active
-
2007
- 2007-07-18 TW TW096126193A patent/TWI408722B/zh active
- 2007-08-21 KR KR1020070083819A patent/KR101072146B1/ko active IP Right Grant
- 2007-08-28 CN CN2007101481598A patent/CN101136307B/zh active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004119038A (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | 無電極放電灯、無電極放電灯点灯装置及び照明装置 |
JP2005100934A (ja) * | 2003-09-04 | 2005-04-14 | Ushio Inc | エキシマランプ |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102419496A (zh) * | 2010-09-02 | 2012-04-18 | 优志旺电机株式会社 | 光照射装置 |
CN102172833A (zh) * | 2011-02-21 | 2011-09-07 | 南京航空航天大学 | 基于放电诱导可控烧蚀的非导电工程陶瓷磨削加工方法 |
JP2014032911A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-02-20 | Ushio Inc | エキシマランプ |
JP2016081695A (ja) * | 2014-10-16 | 2016-05-16 | ウシオ電機株式会社 | エキシマ放電ランプ |
KR20160062704A (ko) * | 2014-11-25 | 2016-06-02 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 엑시머 방전 램프 장치 |
KR101951982B1 (ko) * | 2014-11-25 | 2019-02-25 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 엑시머 방전 램프 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101072146B1 (ko) | 2011-10-10 |
CN101136307A (zh) | 2008-03-05 |
KR20080021510A (ko) | 2008-03-07 |
TW200816259A (en) | 2008-04-01 |
JP4830722B2 (ja) | 2011-12-07 |
CN101136307B (zh) | 2010-06-02 |
TWI408722B (zh) | 2013-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4830722B2 (ja) | エキシマランプ | |
KR101006848B1 (ko) | 기판 지지 장치 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 | |
JP5422847B2 (ja) | 基板を処理するための複合トランスデューサー装置及びシステム、及びそれを造る方法 | |
KR101073253B1 (ko) | 엑시머 방전 램프 | |
TWI272637B (en) | Excimer discharge lamp | |
JP2012164531A (ja) | エキシマランプ | |
JP2008511113A (ja) | ランプ | |
TWI269344B (en) | Excimer lamp | |
JP6647678B2 (ja) | ショートアーク型放電ランプ | |
KR102357452B1 (ko) | 불화칼슘 광학 부재, 그 제조 방법, 기체 유지 용기 및 광원 장치 | |
JP2012181999A (ja) | エキシマランプ | |
JP2010123323A (ja) | エキシマ放電ランプおよびエキシマ放電ランプの製造方法 | |
JP4622998B2 (ja) | エキシマ放電ランプ光源装置 | |
JP5302866B2 (ja) | 光照射窓 | |
JP2007088966A (ja) | 圧電振動デバイスの製造方法およびその製造方法により製造された圧電振動デバイス | |
JP4293067B2 (ja) | フラッシュランプ | |
KR101073295B1 (ko) | 엑시머 방전 램프 | |
CN102576636A (zh) | 电极座以及采用该电极座的高压放电灯及其制造方法 | |
JP2010103250A (ja) | 圧電アクチュエータ | |
JP2009146590A (ja) | 放電ランプ | |
JP4483591B2 (ja) | 閃光放電ランプ | |
JP2008052964A (ja) | メタルハライドランプ | |
TW525204B (en) | A plasma lamp | |
JPH1125847A (ja) | 多重管形放電灯および放電灯点灯装置ならびに光化学反応装置 | |
JP2003331782A (ja) | ランプ容器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090318 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110418 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110711 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110823 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110905 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4830722 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |