JP2008055262A - 放電型水浄化処理装置 - Google Patents
放電型水浄化処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008055262A JP2008055262A JP2006232452A JP2006232452A JP2008055262A JP 2008055262 A JP2008055262 A JP 2008055262A JP 2006232452 A JP2006232452 A JP 2006232452A JP 2006232452 A JP2006232452 A JP 2006232452A JP 2008055262 A JP2008055262 A JP 2008055262A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- containing gas
- oxygen
- dielectric member
- unit
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
【解決手段】処理水が貯水される反応槽11と、反応槽の下部に設けられ、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材部材18を有し、少なくとも一方が誘電体部材に接する接地電極19および高電圧電極20を有する放電部12と、高電圧電極と接地電極にそれぞれ接続される高電圧電源13と、放電部に近接して設置されるガスバッファ部14と、ガスバッファ部に接続される多湿化酸素含有ガス製造部15と、多湿化酸素含有ガス製造部に接続される酸素含有ガス供給部16と、を具備し、多湿化酸素含有ガス製造部で製造される多湿化酸素含有ガスを放電電極に送気することにより、活性種を生成して難分解性有害有機物含有水を処理する。
【選択図】 図1
Description
図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る放電型水浄化処理装置1は、反応槽11、放電部12、高電圧電源13、ガスバッファ部14、多湿化酸素含有ガス製造部15、酸素含有ガス供給部16および制御部40を備えている。反応槽11内には所定量の処理水17が収容されている。処理水17は図示しない供給配管を通って反応槽11の上部から供給されるようになっている。
e + O2 → O(1D) + O(3P) + e …(1)
O(3P) + O2 + M → O3 + M …(2)
・ヒドロキシルラジカル(・OH)の生成反応
e + H2O → ・OH + ・H + e …(3)
O(1D) + H2O → ・OH + ・OH …(4)
上式(1)〜(4)において、オゾン、酸素原子で励起状態のO(1D)、基底状態のO(3P)、ヒドロキシルラジカルは、それぞれ活性種であり、有機物との反応速度が速い。特に、ヒドロキシルラジカルは上記の活性種の中でも最も反応性に富み、有機物を二酸化炭素にまで反応させることができる。しかし、ヒドロキシルラジカルは反応性が高いがゆえに寿命も短く、一般的に大気圧では数100マイクロ秒程度と言われている。これらを処理水17中に溶解させることにより、処理水17中の難分解性有害有機物を処理する。本構成では処理水の近くで放電を発生させることから短寿命のヒドロキシルラジカルを瞬時に処理水中に溶解させることができ、高効率処理が可能となる。
次に、図2を参照して本発明の第2の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図3を参照して本発明の第3の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図4を参照して本発明の第4の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図5を参照して本発明の第5の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図6を参照して本発明の第6の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図7を参照して本発明の第7の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図8を参照して本発明の第8の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図9を参照して本発明の第9の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図10を参照して本発明の第10の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図11を参照して本発明の第11の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図12を参照して本発明の第12の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図13を参照して本発明の第13の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図16を参照して本発明の第14の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図17を参照して本発明の第15の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
次に、図18を参照して本発明の第16の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
11…反応槽、11a…上部、11b…下部、
12,12A〜12H,12M,12P…放電部、
13…高電圧電源、14…ガスバッファ部、
15…多湿化酸素含有ガス製造部、
16…酸素含有ガス供給部、17…処理水、
18…誘電体部材部材、19…接地電極、20…高電圧電極、
22…酸素含有ガス、23…多湿化酸素含有ガス、
24…開口部、25…誘電体部材、26…スペーサ、
27a…分岐弁、27b…合流弁、
28…多湿用水、29…散気部、
30…加熱機構、31…断熱機構、
40,40Q,40S,40T…制御部、L1,L2,L3,L4,L5…ライン。
Claims (12)
- 処理水が貯水される反応槽と、
前記反応槽の下部に設けられ、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材を有し、少なくとも一方が前記誘電体部材に接する接地電極および高電圧電極を有する放電部と、
前記高電圧電極と前記接地電極にそれぞれ接続される高電圧電源と、
前記放電部に近接して設置されるガスバッファ部と、
前記ガスバッファ部に接続される多湿化酸素含有ガス製造部と、
前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続される酸素含有ガス供給部と、
を具備する放電型水浄化処理装置。 - 前記放電部は、少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属である接地電極と、前記接地電極から一定の距離をおいて配置されるワイヤ状またはブレード状の高電圧電極と、を具備し、
前記接地電極および前記高電圧電極のうちの少なくとも一方が前記誘電体部材で覆われていることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 前記放電部は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水と反対側に少なくとも一方が前記誘電体部材に覆われる少なくとも一対の高電圧電極と接地電極を具備することを特徴とする請求項1記載の装置。
- 前記接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、
前記高電圧電極は、前記誘電体部材に対して接地電極と反対側に前記誘電体部材から一定距離を置いて配置される少なくとも1つの開口部を有するか又は導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 前記誘電体部材は、球状をなし、少なくとも1つの開口部を有し、
前記接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、
前記高電圧電極は、前記誘電体部材に接し、接地電極と反対側に設けられる少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 前記酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給量と前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿酸素含有ガスの供給量とをそれぞれ制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
- 前記酸素含有ガス供給部から前記多湿化酸素含有ガス製造部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記ガスバッファ部に直接接続される第1の分岐配管と、
前記第1の分岐配管の分岐部に設けられ、前記酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給を前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部とに分岐させる分岐弁と、
前記多湿化酸素含有ガス製造部から前記ガスバッファ部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記酸素含有ガス供給部に直接接続される第2の分岐配管と、
前記第2の分岐配管の分岐部に設けられ、前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿化酸素含有ガスと前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスとを合流させて前記ガスバッファ部に向かわせる合流弁と、
をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。 - 前記多湿化酸素含有ガス製造部は、前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスを水中に曝気させることにより多湿化させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
- 前記多湿化酸素含有ガス製造部の周囲または内部に設けられた加熱機構をさらに有することを特徴とする請求項7または8のいずれか1項記載の装置。
- 前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部との間に設けられた断熱機構または加熱機構をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
- 前記ガスバッファ部は断熱機構をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
- 前記反応槽、前記接地電極、前記高電圧電極および前記ガスバッファ部は、耐腐食性金属からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232452A JP4762084B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 放電型水浄化処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006232452A JP4762084B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 放電型水浄化処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008055262A true JP2008055262A (ja) | 2008-03-13 |
JP4762084B2 JP4762084B2 (ja) | 2011-08-31 |
Family
ID=39238647
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006232452A Active JP4762084B2 (ja) | 2006-08-29 | 2006-08-29 | 放電型水浄化処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4762084B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009234900A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Univ Of Miyazaki | 水中オゾナイザ |
JP2010084201A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 還元水発生装置 |
JP2012011301A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Nagoya Univ | 水処理方法および水処理装置 |
JP2012043769A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-03-01 | Panasonic Corp | プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
WO2012108235A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
JP2013128909A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Tokyo Institute Of Technology | 液体処理装置 |
JP2013150975A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-08-08 | Daikin Industries Ltd | 浄化装置 |
JP2013220425A (ja) * | 2012-04-17 | 2013-10-28 | Samkun Century Co Ltd | バラスト水処理装置およびこれを備えたバラスト水処理システム |
CN103392383A (zh) * | 2011-03-28 | 2013-11-13 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置 |
CN103648986A (zh) * | 2011-07-15 | 2014-03-19 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置 |
JP2014534045A (ja) * | 2012-03-27 | 2014-12-18 | オブシェストヴォ エス オグラニチェンノィ オトゥヴェトゥストゥヴェンノスティユ “プラズマ−プロ” | 有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005296909A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-10-27 | Toshiba Corp | 水処理システム |
JP2006187743A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Toshiba Corp | ラジカル処理装置 |
-
2006
- 2006-08-29 JP JP2006232452A patent/JP4762084B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005296909A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-10-27 | Toshiba Corp | 水処理システム |
JP2006187743A (ja) * | 2005-01-07 | 2006-07-20 | Toshiba Corp | ラジカル処理装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009234900A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-15 | Univ Of Miyazaki | 水中オゾナイザ |
JP2010084201A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 還元水発生装置 |
JP2012011301A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Nagoya Univ | 水処理方法および水処理装置 |
JP2012043769A (ja) * | 2010-07-21 | 2012-03-01 | Panasonic Corp | プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
WO2012108235A1 (ja) * | 2011-02-08 | 2012-08-16 | パナソニック株式会社 | プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器 |
CN103329632A (zh) * | 2011-02-08 | 2013-09-25 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备 |
CN103392383A (zh) * | 2011-03-28 | 2013-11-13 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置 |
CN103648986A (zh) * | 2011-07-15 | 2014-03-19 | 松下电器产业株式会社 | 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置 |
JP2013128909A (ja) * | 2011-12-22 | 2013-07-04 | Tokyo Institute Of Technology | 液体処理装置 |
JP2013150975A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-08-08 | Daikin Industries Ltd | 浄化装置 |
JP2014534045A (ja) * | 2012-03-27 | 2014-12-18 | オブシェストヴォ エス オグラニチェンノィ オトゥヴェトゥストゥヴェンノスティユ “プラズマ−プロ” | 有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置 |
JP2013220425A (ja) * | 2012-04-17 | 2013-10-28 | Samkun Century Co Ltd | バラスト水処理装置およびこれを備えたバラスト水処理システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4762084B2 (ja) | 2011-08-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4762084B2 (ja) | 放電型水浄化処理装置 | |
US20100239473A1 (en) | Apparatus for decomposing organic matter with radical treatment method using electric discharge | |
KR20110109111A (ko) | 플라즈마 건을 이용한 수처리 장치 및 방법 | |
JP2007222778A (ja) | 放電生成ガス溶解装置 | |
JP2014159008A (ja) | 水処理装置 | |
KR20170121425A (ko) | 플라즈마 수처리 장치 | |
KR101303832B1 (ko) | 스컴 제거를 위한 고전압 방전 시스템 | |
JP4709608B2 (ja) | ラジカル処理装置 | |
KR102284032B1 (ko) | 악취 처리 장치 | |
JP3838611B2 (ja) | 窒素酸化物・硫黄酸化物の浄化方法及び浄化装置 | |
JP6178522B2 (ja) | 高電圧放電と微細気泡を利用した廃水浄化処理システム | |
JP2005218890A (ja) | ラジカル処理システム | |
KR20000034849A (ko) | 고전압 방전을 이용한 이온화가스 발생장치 | |
JP6884443B1 (ja) | オゾン水製造用ノズル装置、この装置を用いたオゾン水洗浄装置 | |
JP2001058803A (ja) | 高電圧放電を利用したイオン化ガスの発生装置 | |
LT6737B (lt) | Valymo ir dezinfekavimo būdas ir sistema | |
JP2013158706A (ja) | 水浄化装置 | |
US11530142B2 (en) | Water treatment apparatus | |
JP2009207811A (ja) | 空気清浄モジュール及びそれを用いた空気清浄装置 | |
WO2021192154A1 (ja) | 液体処理装置 | |
JP2007038121A (ja) | ガス浄化システムおよびガス浄化方法 | |
WO2020021635A1 (ja) | 水処理システム及び水処理方法 | |
CN103848494A (zh) | 一种降低有机胺脱硫工艺废水中cod浓度的方法和处理系统 | |
JP2007136321A (ja) | 空気清浄機および空気清浄化方法 | |
JP2007260545A (ja) | 放電生成ガスの溶解装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090108 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110607 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4762084 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140617 Year of fee payment: 3 |