JP2008055262A - 放電型水浄化処理装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】装置がシンプルで初期コストが安く、処理効率の高い放電型水浄化処理装置を提供する。
【解決手段】処理水が貯水される反応槽11と、反応槽の下部に設けられ、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材部材18を有し、少なくとも一方が誘電体部材に接する接地電極19および高電圧電極20を有する放電部12と、高電圧電極と接地電極にそれぞれ接続される高電圧電源13と、放電部に近接して設置されるガスバッファ部14と、ガスバッファ部に接続される多湿化酸素含有ガス製造部15と、多湿化酸素含有ガス製造部に接続される酸素含有ガス供給部16と、を具備し、多湿化酸素含有ガス製造部で製造される多湿化酸素含有ガスを放電電極に送気することにより、活性種を生成して難分解性有害有機物含有水を処理する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、本発明は難分解性で有害な有機物を含有する水の浄化に係り、多湿化酸素含有ガス放電内で発生するオゾン、ヒドロキシルラジカル等の活性種を処理水中に溶解させることで難分解性有害有機物を反応分解させて処理する放電型水浄化処理装置に関する。
従来の水の浄化処理方法は塩素処理やオゾン処理が主流である。特にオゾン(O)による処理は残留塩素フリーであり環境負荷の少ないクリーンな処理方法として、上下水処理だけでなくパルプ漂白や半導体洗浄、ゴミ浸出水処理など様々な方面に利用されている。
塩素処理、オゾン処理の両処理方法ともに化学的に高い酸化ポテンシャルを利用して水中に溶存する有機物質を分解して処理を行う。酸化ポテンシャルは塩素が1.4電子ボルトであるのに対しオゾンは2.07電子ボルトと高い。
しかし、近年、人工由来の難分解性有機物でオゾンでは分解できないダイオキシンや農薬、環境ホルモンといった難分解で有害な有機物処理のニーズが大きい。
ダイオキシンや農薬、環境ホルモンの処理を行うためには、これらの有機物を完全に分解する必要がある。これは、有機物の分子結合で炭素原子同士の結合C−Cの結合エネルギーを上回る酸化ポテンシャルを持つ酸化剤を適用する必要がある。これが可能な酸化剤の一つに活性種であるヒドロキシルラジカル(・OH)がある。ヒドロキシルラジカルの酸化ポテンシャルは2.81eVと塩素やオゾンよりもはるかに高い。すなわち、水処理にヒドロキシルラジカルを適用することでこれまで以上に広い物質に適用できるようになる。
近年、ヒドロキシルラジカルによる処理方法は盛んに研究されており、オゾン/過酸化水素法(特許文献1)やオゾン/紫外線法が主に行われている。前者は放電により生成されるオゾンと市販の過酸化水素を処理水中で反応させ、オゾンが分解されるときにヒドロキシルラジカルが生成されるもので、従来のオゾン発生器をそのまま利用できるという利点があるが、毒劇物である過酸化水素の運搬・貯蔵が問題となっている。また後者のオゾン/紫外線法は処理水中での紫外線透過率が低いことと、紫外線ランプ自身の効率が低いことから、処理効率が上がらないという問題がある。また、オゾン/過酸化水素/紫外線ランプ法も検討されているが、上記のような問題がある(特許文献2)。また、放電によりオゾンと過酸化水素を別々に発生させるという方法があるが、それぞれの放電発生電極と電源を設ける必要があり、初期コストの高騰ならびに装置の大型化という問題がある(特許文献3)。
特開2001−314881号公報 特開2001−170672号公報 特開平7−33409号公報
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、装置がシンプルで初期コストが安く、処理効率の高い放電型水浄化処理装置を提供することを目的とする。
(1)本発明に係る放電型水浄化処理装置は、処理水が貯水される反応槽と、前記反応槽の下部に設けられ、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材を有し、少なくとも一方が前記誘電体部材に接する接地電極および高電圧電極を有する放電部と、前記高電圧電極と前記接地電極にそれぞれ接続される高電圧電源と、前記放電部に近接して設置されるガスバッファ部と、前記ガスバッファ部に接続される多湿化酸素含有ガス製造部と、前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続される酸素含有ガス供給部と、を具備することを特徴とする。
上記(1)の発明によれば、反応槽の下部に設けられる、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材を、処理水側に少なくとも一つ以上の開口部を持つもしくはメッシュ状の導電性金属である接地電極と少なくとも一つ以上のワイヤもしくはブレード型電極である高電圧電極で挟み、高電圧電極と接地電極間に高電圧を印加することにより、放電が発生する。この放電部には多湿化酸素含有ガス製造部から供給される多湿化酸素含有ガスが流れるため、放電内では活性種であるオゾン、ヒドロキシルラジカル、酸素原子が生成される。本発明では放電部を処理水下部に設けることにより、短寿命であるヒドロキシルラジカルやその他の活性種を寿命内に処理水中に溶解させることで高効率に難分解性有害有機物を処理することができる。
(2)上記(1)の放電部は、少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属である接地電極と、前記接地電極から一定の距離をおいて配置されるワイヤ状またはブレード状の高電圧電極と、を具備し、前記接地電極および前記高電圧電極のうちの少なくとも一方が前記誘電体部材で覆われていることが好ましい。このようにすると、処理水の近傍で放電を発生させることが可能となる。このことにより短寿命の活性種を寿命内に処理水中に溶解させることができるため、高効率に難分解性有害有機物の処理ができるようになる。
(3)上記(1)の放電部は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水と反対側に少なくとも一方が前記誘電体部材に覆われる少なくとも一対の高電圧電極と接地電極を具備することが好ましい。このような高電圧電極と接地電極との間に高電圧を印加すると、印加した電圧に依存することなく常に一定の放電長を得ることができるようになる。このことにより活性種の発生量制御がしやすくなり、高効率処理が可能となる。
(4)上記(1)の接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、前記高電圧電極は、前記誘電体部材に対して接地電極と反対側に前記誘電体部材から一定距離を置いて配置される少なくとも1つの開口部を有するか又は導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることが好ましい。このような高電圧電極と接地電極との間に高電圧を印加すると、高電圧電極と誘電体部材の間の全域に放電を発生させることが可能となる。場合によっては、高電圧電極を誘電体部材に接して配置し、誘電体部材から一定の距離を開けて接地電極を配置しても良い。これにより、より広い面積での放電の発生が可能となることから、高効率処理が可能となる。
(5)上記(1)の誘電体部材は、球状をなし、少なくとも1つの開口部を有し、前記接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、前記高電圧電極は、前記誘電体部材に接し、接地電極と反対側に設けられる少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることが好ましい。このようにすると、処理水の直近で放電を発生させることができるようになる。これにより、短寿命である活性種を寿命内に処理水中に溶解させることができるようになる。このことから、高効率処理が可能となる。
(6)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給量と前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿酸素含有ガスの供給量とをそれぞれ制御する制御手段をさらに有することが好ましい。放電部に乾燥酸素含有ガスと多湿酸素含有ガスを任意に切り替えることにより、処理水中の有機物がオゾンで処理できる一般有機物とオゾンでは処理できない難分解性有害有機物が混在する場合、先に、乾燥酸素含有ガスにより放電部でオゾンを生成して一般有機物を処理し、その後多湿酸素含有ガスにより放電部でヒドロキシルラジカルを生成して難分解性有害有機物を処理できるようになる。これにより、効率よく難分解性有害有機物含有水の処理ができるようになる。
(7)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、前記酸素含有ガス供給部から前記多湿化酸素含有ガス製造部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記ガスバッファ部に直接接続される第1の分岐配管と、前記第1の分岐配管の分岐部に設けられ、前記酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給を前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部とに分岐させる分岐弁と、前記多湿化酸素含有ガス製造部から前記ガスバッファ部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記酸素含有ガス供給部に直接接続される第2の分岐配管と、前記第2の分岐配管の分岐部に設けられ、前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿化酸素含有ガスと前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスとを合流させて前記ガスバッファ部に向かわせる合流弁と、をさらに有することが好ましい。分岐弁と合流弁の開閉をそれぞれ制御することにより、処理水の水質に応じて、オゾン処理とヒドロキシルラジカル処理を切り替えることができる。これにより効率よく難分解性有害有機物含有水の処理ができるようになる。
(8)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、多湿化酸素含有ガス製造部は、前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスを水中に曝気させることにより多湿化させることが好ましい。多湿化酸素含有ガス製造部において、乾燥酸素含有ガスを一旦、水に通すことにより簡単に多湿化酸素含有ガスを得ることができる。これにより簡単な装置構成で多湿化酸素含有ガスの製造が可能となる。
(9)上記(7)または(8)のいずれかにおいて、前記多湿化酸素含有ガス製造部の周囲または内部に設けられた加熱機構さらにを有することが好ましい。このようにすると、常温の飽和水蒸気量以上の高湿度酸素含有ガスを製造できるようになる。これによりヒドロキシルラジカルの生成量が増加するので、迅速に処理水を処理できるようになる。
(10)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部との間に設けられた断熱機構または加熱機構をさらに有することが好ましい。このようにすると、多湿化酸素含有ガス製造部で製造された多湿化酸素含有ガスを結露させることなく放電部に送気させることが可能となる。これにより、高効率にヒドロキシルラジカルを生成できるようになるので、高効率処理が可能となる。
(11)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、ガスバッファ部は断熱機構をさらに有することが好ましい。このようにすると、多湿化酸素含有ガス製造部で製造された多湿化酸素含有ガスをガスバッファ内で結露させることなく放電部に送気させることが可能となる。これにより、高効率にヒドロキシルラジカルを生成できるようになるので、高効率処理が可能となる。
(12)上記(1)〜(5)のいずれかにおいて、前記反応槽、前記接地電極、前記高電圧電極および前記ガスバッファ部は、耐腐食性金属からなることが好ましい。このようにすると、常に多湿条件化にさらされている前記金属性物質の耐久時間を長くすることができる。これにより装置のメンテナンスコストを低下させることが可能となるので、安価で信頼性の高い装置の提供が可能となる。
本発明によれば、酸化ポテンシャルが高い活性種で特にヒドロキシルラジカルを放電により直接発生させ、瞬時に処理水中に溶解させ、処理水中に溶解する難分解性有害有機物を反応処理することができ、処理効率を高めることができる。これにより、装置がシンプルで初期コストが安く、処理効率の高い放電型水浄化処理装置が提供される。
以下、添付の図面を参照して本発明の種々の実施の形態を説明する。
(第1の実施の形態)
図1に示すように、本発明の第1の実施の形態に係る放電型水浄化処理装置1は、反応槽11、放電部12、高電圧電源13、ガスバッファ部14、多湿化酸素含有ガス製造部15、酸素含有ガス供給部16および制御部40を備えている。反応槽11内には所定量の処理水17が収容されている。処理水17は図示しない供給配管を通って反応槽11の上部から供給されるようになっている。
放電部12は反応槽11の下部に設けられ、処理水17のなかに浸漬されている。さらに放電部12の処理水17と反対側にガスバッファ部14が設置される。なお、場合によっては、放電部12およびガスバッファ部14を反応槽11の側面に取り付けてもよいし、あるいはこれらを反応槽11内の一部として取り付けてもよい。放電部12の数は1つのみに限られず、処理水17の水量に応じて反応槽11内に複数個を設けてもよい。例えば、反応槽11が直方体の容器である場合は、その下部の四隅のそれぞれに放電部を設置することが望ましい。このようにすると処理効率が大幅に向上する。
放電部12は、誘電体部材18、接地電極19および高電圧電極20を備えている。誘電体部材18は、通気性をもつ多孔質板を用いるか、または少なくとも1つの開口部24を有する有孔板を用いる。
接地電極19は、誘電体部材18の上面に接し、誘電体部材18の処理水17に近い側に取り付けられている。接地電極19は、導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、1つ又は複数の開口部24を有する。
高電圧電極20は、誘電体部材18の下面に接し、接地電極19と反対側に取り付けられている。高電圧電極20は、少なくとも1本のワイヤまたはブレードからなる。ブレード状の高電圧電極20は、ほぼ一定長の横幅と縦幅を有し、幅狭の横幅が誘電体部材18の下面に当接し、かつ幅広の縦幅が電極の高さとなるように誘電体部材18に取り付けられている。誘電体部材18、接地電極19、高電圧電極20は、本実施の形態に限られることなく、それぞれ他の形態とすることができる。ここで、反応槽11の内壁、接地電極19、高電圧電極20およびガスバッファ部14の内壁は、それぞれ耐腐食性金属、特にステンレス鋼でつくられることが好ましい。
酸素含有ガス供給部16から供給される乾燥酸素含有ガス22は、多湿化酸素含有ガス製造部15内の散気部29を通して多湿用水28に曝気される。曝気されたガスは多湿化酸素含有ガス23となり、ガスバッファ部14に一旦滞留した後に、高電圧電極20の近傍を通過し、誘電体部材18を通過し、さらに接地電極19の開口部24を通過した後に、処理水中に曝気される。高電圧電極20と接地電極19との間に高電圧電源13から高電圧(例えば5〜20kV)が印加されると、高電圧電極20の近傍では放電が発生する。この放電領域を多湿化酸素ガス23が通過する時、下式(1)〜(4)の反応により、オゾン、ヒドロキシルラジカル(・OH)および酸素原子が生成される。
・オゾン(O3)の生成反応
e + O2 → O(1D) + O(3P) + e …(1)
O(3P) + O2 + M → O3 + M …(2)
・ヒドロキシルラジカル(・OH)の生成反応
e + H2O → ・OH + ・H + e …(3)
O(1D) + H2O → ・OH + ・OH …(4)
上式(1)〜(4)において、オゾン、酸素原子で励起状態のO(1D)、基底状態のO(3P)、ヒドロキシルラジカルは、それぞれ活性種であり、有機物との反応速度が速い。特に、ヒドロキシルラジカルは上記の活性種の中でも最も反応性に富み、有機物を二酸化炭素にまで反応させることができる。しかし、ヒドロキシルラジカルは反応性が高いがゆえに寿命も短く、一般的に大気圧では数100マイクロ秒程度と言われている。これらを処理水17中に溶解させることにより、処理水17中の難分解性有害有機物を処理する。本構成では処理水の近くで放電を発生させることから短寿命のヒドロキシルラジカルを瞬時に処理水中に溶解させることができ、高効率処理が可能となる。
本実施の形態によれば、処理水中又はその近傍で放電を発生させることにより、酸化ポテンシャルが高い活性種を直接生成する。活性種は他の物質との反応性に富むため短寿命であるが、反応槽内に放電部を設けることで短寿命な活性種を寿命内に処理水中に溶解させることができる。これにより高効率処理が可能となる。
(第2の実施の形態)
次に、図2を参照して本発明の第2の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Aは、円筒状の放電部12Aを備えている。円筒状の放電部12Aの内部にはガスバッファ部14Aが形成されている。放電部12Aは、多孔質もしくは少なくとも1つ以上の開口部24を有する誘電体部材18Aと、誘電体部材18Aに接し、誘電体部材の処理水側に設けられる少なくとも一つ以上の開口部24を持つ導電性金属もしくはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Aと、誘電体部材18Aに接し、接地電極19Aと反対側に設けられるワイヤまたはブレードからなる高電圧電極20Aとを備えている。
これらの誘電体部材18A、接地電極19A、高電圧電極20Aは、それぞれどの形態をとってもよい。また、用途に応じて高電圧電極20Aは誘電体により覆われていてもよい。また、高電圧電極20Aの電極部の内部に圧損を得るための圧損機構を設けてもよい。ここで、反応槽11と接地電極19Aと、高電圧電極20Aは耐腐食性金属で特にステンレス製であることが好ましい。本実施形態の装置1Aでは高電圧電源13からの高電圧用配線は一つの高電圧電極20Aのみの接続を示しているが、実際には全ての高電圧電極20Aに接続されている。なお、多湿化酸素含有ガス23は円筒状の放電部12Aの端部または一部から導入される。このような構成とすることにより、高電圧電極20Aと誘電体部材18Aとの間に発生する放電内で生成される活性種は処理水17のなかへ瞬時に溶解することができ、高効率処理が可能となる。
(第3の実施の形態)
次に、図3を参照して本発明の第3の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Bでは、放電部12Bとガスバッファ部14Bの構成を変えている。放電部12Bは、処理水17の下部に少なくとも一つ以上の開口部24を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Bと、この接地電極19Bから一定の距離をおいて配置される少なくとも1本のワイヤまたはブレード状の高電圧電極20Bとを備えている。接地電極19Bおよび高電圧電極20Bの両方、または接地電極19Bおよび高電圧電極20Bのいずれか一方は、誘電体部材18Bで覆われている。
なお、放電部12Bおよびガスバッファ部14Bは、反応槽11の側面や反応槽11内の一部に設けてもよい。また、放電部12Bは、処理水17の量に応じて反応槽11内に複数個設けてもよい。例えば反応槽11が直方体である場合は、4つの放電部12Bを反応槽11の各隅角部から中央部までの対角線のほぼ中間位置にそれぞれ配置することができる。ここで、反応槽11、接地電極19Bおよび高電圧電極20Bは、耐腐食性金属からなることが好ましく、特にステンレス鋼からなることが好ましい。
本実施形態の装置1Bの放電部12Bにおいて、放電は高電圧電極20Bと接地電極19Bとの間に発生する。すなわち、処理水17の近傍において放電が発生することから、放電内で生成される活性種を寿命内に処理水17中に溶解させることができる。これにより高効率処理が可能になる。
(第4の実施の形態)
次に、図4を参照して本発明の第4の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Cでは、放電部12Cとガスバッファ部14Cの構成を変えている。放電部12Cは、処理水17の下部に少なくとも一つの開口部24を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる円筒状の接地電極19Cと、この接地電極19Cから一定の距離をおいて配置される少なくとも1本のワイヤまたはブレード状の高電圧電極20Cと、を備えている。接地電極19Cおよび高電圧電極20Cの両方、または接地電極19Cおよび高電圧電極20Cのいずれか一方は誘電体部材18Cで覆われている。
なお、高電圧電極20Cの電極部の内部に圧損を得るための圧損機構を設けるようにしてもよい。反応槽11、接地電極19Cおよび高電圧電極20Cは、耐腐食性金属からなることが好ましく、特にステンレス鋼からなることが好ましい。
また、多湿化酸素含有ガス23は円筒状の放電部の端部または一部から供給される。また、誘電体部材18Cが接地電極19Cの側に付く場合には、誘電体部材18Cは多孔質または少なくとも1つの開口部を持つ構造とする。
本実施形態の装置1Cの放電部12Cにおいて、放電は高電圧電極20Cと接地電極19Cとの間に発生する。すなわち、処理水17の近傍において放電が発生することから、放電内で生成される活性種を寿命内に処理水17中に溶解させることができる。これにより高効率処理が可能になる。
(第5の実施の形態)
次に、図5を参照して本発明の第5の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Dでは、放電部12Dの構成を変えている。放電部12Dは、処理水17の下部に設けられる多孔質または少なくとも1つの開口部を持つ誘電体部材18Dと、誘電体部材18Dに接し、誘電体部材18Dの処理水17と反対側に設けられ、少なくとも一方が誘電体部材18dにより覆われる少なくとも一対以上の高電圧電極20Dおよび接地電極19Dと、を備えている。高電圧電極20Dと接地電極19Dとは1つおきに互い違いに配置されている。この互い違いの配置において、両端に配置される電極は接地電極19Dであることが好ましい。
なお、放電部12Dおよびガスバッファ部14Dは反応槽11の側面に配置するようにしてもよい。また、処理水17の量に応じて複数個の放電部12Dを反応槽11内に設置するようにしてもよい。ここで、反応槽11、接地電極19D、高電圧電極20Dおよびガスバッファ部14Dは、耐腐食性金属からなることが好ましく、特にステンレス鋼からなることが好ましい。
本実施形態の装置1Dの放電部12Dにおいて、高電圧電極20Dと接地電極19Dとの間に発生する放電の放電長は、印加電圧に依存することなく常に一定となる。これにより活性種の発生量制御がよりしやすくなることから高効率処理が可能となる。
(第6の実施の形態)
次に、図6を参照して本発明の第6の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Eでは、放電部12Eとガスバッファ部14Eの構成を変えている。処理水17の下部に少なくとも1つの円筒状の放電部12Eが設置される。本実施形態の装置1Eでは、ガスバッファ部14Eは円筒状の放電部12Eの内部に設けられる。放電部12Eは、多孔質または少なくとも1つの開口部24を持つ誘電体部材18Eと、誘電体部材18Eに接し、誘電体部材18Eの処理水17と反対側に設けられ、少なくとも一方が誘電体部材18eにより覆われる少なくとも一対以上の高電圧電極20Eおよび接地電極19Eと、を備えている。
なお、高電圧電極20Eの電極部の内部に圧損を得るための圧損機構を設けるようにしてもよい。反応槽11、接地電極19Eおよび高電圧電極20Eは、耐腐食性金属からなることが好ましく、特にステンレス鋼からなることが好ましい。なお、図示では高電圧電源13からの高電圧用配線は、一つの高電圧電極20Eのみに接続されているが、実際には全ての高電圧電極20Eに接続される。接地電極19Eについても同様である。なお、多湿化酸素含有ガス23は円筒状の放電部12Eの端部または一部から導入される。
本実施形態の装置1Eによれば、高電圧電極20Eと接地電極19Eとの間で発生する放電の放電長は、印加電圧に依存することなく常に一定となる。これにより活性種の発生量制御がよりしやすくなることから高効率処理が可能となる。
(第7の実施の形態)
次に、図7を参照して本発明の第7の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Fでは、放電部12Fの構成を変えている。放電部12Fは、処理水17の下部に設けられる多孔質または少なくとも一つの開口部を持つ誘電体部材18Fと、この誘電体部材18Fに接し、誘電体部材18Fの処理水17側に設けられ、少なくとも一つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Fと、誘電体部材18Fに対向するように接地電極19Fと反対側に誘電体部材18Fからスペーサ26により一定距離を置いて配置される少なくとも一つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Fと、を備えている。なお、放電部12Fおよびガスバッファ部14Fは、反応槽11の側面や反応槽11内の一部に設けてもよい。また、処理水17の量に応じて複数個の放電部12Fを反応槽11内に設けてもよい。
本実施形態の放電部12Fにおいて、高電圧電極20Fと誘電体部材18Fとの間の全域に放電を発生させることが可能となることから、効率よく活性種を生成させることが可能となる。このことから、高効率処理を実現できる。
(第8の実施の形態)
次に、図8を参照して本発明の第8の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Gでは、放電部12Gの構成を変えている。放電部12Gは、処理水17下部に設けられ、多孔質または少なくとも一つの開口部を持つ誘電体部材18Gと、誘電体部材18Gに接し、誘電体部材18Gの処理水17と反対側に設けられ、少なくとも一つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Gと、誘電体部材18Gに対抗するように高電圧電極20Gと反対側に誘電体部材18Gからスペーサ26により一定距離を置いて配置される少なくとも一つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Gと、を備えている。処理水17の量に応じて複数個の放電部12Gを反応槽11内に設けてもよい。
本実施形態の装置1Gでは、放電部12Gにおいて接地電極19Gと誘電体部材18Gとの間の全域にわたって放電を発生させることができ、効率よく活性種を生成させることが可能になる。このことから高効率処理を実現できる。
(第9の実施の形態)
次に、図9を参照して本発明の第9の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Hでは、放電部12Hおよびガスバッファ部14Hの構成を変えている。すなわち、処理水17の下部に少なくとも1つの円筒状の放電部12Hが設けられ、この円筒状放電部12Hの内部にガスバッファ部14Hが配置される。放電部12Hは、多孔質または少なくとも1つの開口部を持つ誘電体部材18Hと、誘電体部材18Hに接し、誘電体部材18Hの処理水17側に設けられ、少なくとも1つの開口部24を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Hと、接地電極19Hとは反対側において誘電体部材18Hに対向するように誘電体部材18Hからスペーサ26により一定距離を置いて配置される少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Hと、を備えている。処理水17の量に応じて複数個の放電部12Hを反応槽11内に設けてもよい。
本実施形態の装置1Hにおいても、接地電極19Hと誘電体部材18Hとの間の全域にわたって放電を発生させることができ、効率よく活性種を生成させることが可能になり、高効率処理を実現できる。
(第10の実施の形態)
次に、図10を参照して本発明の第10の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Mでは、放電部12Mおよびガスバッファ部14Mの構成を変えている。本実施形態においても処理水17の下部に少なくとも1つの円筒状の放電部12Mが配置され、ガスバッファ部14Mは円筒状放電部12Mの内部に設けられる。放電部12Mは、多孔質または少なくとも1つの開口部24を持つ誘電体部材18Mと、誘電体部材18Mに接し、誘電体部材18Mの処理水17と反対側に設けられ、少なくとも1つの開口部24を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Mと、高電圧電極20Mとは反対側において誘電体部材18Mに対向するようにスペーサ26により誘電体部材18Mから一定距離を置いて配置される少なくとも1つの開口部24を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Mと、を備えている。処理水17の量に応じて複数個の放電部12Mを反応槽11内に設けてもよい。なお、多湿化酸素含有ガス23は円筒状の放電部12Mの端部または一部から導入される。
本実施形態の装置1Mにおいても、接地電極19Mと誘電体部材18Mとの間の全域にわたって放電を発生させることができ、効率よく活性種を生成させることが可能になり、高効率処理を実現できる。
(第11の実施の形態)
次に、図11を参照して本発明の第11の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Nでは、放電部12Nの構成を変えている。放電部12Nは、処理水17の下部に設けられ、球状または粒子状の誘電体材料が充填された少なくとも1つの誘電体部材18Nと、誘電体部材18Nに接し、誘電体部材18Nの処理水17側に設けられ、少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Nと、接地電極19Nと反対側において誘電体部材18Nに接する少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Nと、を備えている。本実施形態の誘電体部材18Nは、球状または粒子状の多数の誘電体材料がケース内に詰め込まれるか、あるいは球状または粒子状の多数の誘電体材料がバラバラにならないように一体成型された所謂パックド・ベッド(packed bed)である。球状または粒子状の誘電体材料には例えばチタン酸バリウムのような高誘電材料を用いることができる。
本実施形態の装置1Nによれば、放電は、高電圧電極20Nからパックド・ベッドの誘電体部材18Nの表面に沿って進展し、接地電極19Nへ延びる。これにより処理水17の直近で放電を発生させることができ、活性種をさらに効率よく処理水17中に溶解させることが可能になる。
(第12の実施の形態)
次に、図12を参照して本発明の第12の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Pでは、放電部12Pの構成を変えている。放電部12Pは、処理水17の下部に設けられ、球状または粒子状の誘電体材料が充填された少なくとも1つの円筒状の誘電体部材18Pと、誘電体部材18Pに接し、誘電体部材18Pの処理水17側に設けられ、少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる接地電極19Pと、接地電極19Pと反対側において誘電体部材18Pに接する少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなる高電圧電極20Pと、を備えている。本実施形態の誘電体部材18Pは、球状または粒子状の多数の誘電体材料がケース内に詰め込まれるか、あるいは球状または粒子状の多数の誘電体材料がバラバラにならないように一体成型された所謂パックド・ベッド(packed bed)である。なお、多湿化酸素含有ガス23は円筒状の放電部12Pの端部または一部から導入される。
本実施形態の装置1Pによれば、放電は、高電圧電極20Pからパックド・ベッドの誘電体部材18Pの表面を伝わって発生することから、処理水17の近くに放電を発生させることができ、短寿命の活性種を瞬時に処理水17中に溶解させることが可能になる。
(第13の実施の形態)
次に、図13を参照して本発明の第13の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Qは、ガス流の進行方向で、ガスバッファ部14以降の下流側の構成は図1から図12までに示した装置1〜1Pのいずれかと同じである。装置1Qでは、酸素含有ガス供給部16は、ラインL3,L31,L32,L5により多湿化酸素含有ガス製造部15およびガスバッファ部14のそれぞれに接続される。すなわち、酸素含有ガス供給部16は、ラインL3,L31を介して多湿化酸素含有ガス製造部15に接続されるとともに、ラインL3,L32,L5を介してガスバッファ部14に直接接続されている。
酸素含有ガス供給部16からの供給ラインL3は、2つのラインL31とL32とに分岐している。この分岐部分に分岐弁27aが取り付けられている。また、多湿化酸素含有ガス製造部15からの供給ラインL4は、ガスバッファ部14へ向かうラインL32〜L5に合流している。この合流部分に合流弁27bが取り付けられている。これらの分岐弁27aおよび合流弁27bは、制御部40Qによって弁の開度がそれぞれ調整されるようになっている。なお、分岐弁27aと合流弁27bは任意の要素であり、省略してもよい。ラインL3,L31,L32,L5の配管と弁27a,27bは耐腐食性金属からなることが好ましく、特にステンレス鋼からなることが好ましい。
酸素含有ガス供給部16からの乾燥酸素含有ガスは、分岐弁27aにて分岐され、一方側はラインL31を通って多湿化酸素含有ガス製造部15に入って多湿化され、他方側はラインL31〜L5を通ってガスバッファ部14へ直接送られる。
一方、多湿化酸素含有ガス製造部15で生成された多湿化酸素含有ガス23は、合流弁27bにおいてラインL32からの乾燥酸素含有ガスと合流して混合され、ラインL5を通ってガスバッファ部14へ送られる。
本実施形態の装置1Qによれば、乾燥酸素含有ガス22と多湿化酸素含有ガス23とを任意に切り替えて放電部12Qに供給することができる。これにより、処理水17の水質でオゾン処理が可能な有機物のみもしくはオゾンで処理できる有機物とヒドロキシルラジカルでなければ処理できない難分解性有害有機物が混入している処理水の場合、乾燥酸素含有ガス22を放電に通過させ、オゾンを発生させることで最初にオゾンで処理した後、多湿化酸素含有ガス23によりヒドロキシルラジカルを発生させて処理することが可能となる。場合によっては、分岐弁17aと合流弁17bの開度をそれぞれ調整し、酸素含有ガス22と多湿化酸素含有ガス23の混合比を調整して活性種の生成量を制御するようにしてもよい。こうすることにより、処理水17を効率よく処理できるようになり、高効率処理が可能となる。
次に、図14のタイミングチャートを参照して第13の実施形態の装置1Qを用いて処理水17を浄化処理する場合を説明する。
水浄化処理装置1Qの各所に設けられたセンサ(図示せず)から各種の検出信号S1,S2,S3が入力されると、制御部40Qは時間t1のタイミングに弁27a,27bのラインL32側の流路を開け、酸素含有ガス供給部16からガスバッファ部14へ乾燥酸素含有ガス22を流量V1で供給を開始させる。このときのガス流量V1は一定とする。時間t2のタイミングで弁27a,27bを閉じ、ガスバッファ部14への乾燥酸素含有ガス22の供給を停止する。なお、ガス供給時間t1〜t2は、処理水量、水中の有機物濃度、放電電力、ガス流量などに応じて適宜に設定される。
次いで、制御部40Qは、時間t3のタイミングに分岐弁27aのラインL31側の流路を開けるとともに、合流弁27bのラインL4側の流路を開け、酸素含有ガス供給部16から多湿化酸素含有ガス製造部15へ乾燥酸素含有ガス22を流量V2で供給を開始し、散気部29のガスバブリングにより多湿化酸素含有ガス23を生成する。このときのガス流量V2は一定とする。生成された多湿化酸素含有ガス23は、多湿化酸素含有ガス製造部15からラインL4、分岐弁27b、ラインL5を通って処理槽11のガスバッファ部14へ供給される。時間t4のタイミングで弁27a,27bを閉じ、ガスバッファ部14への多湿化酸素含有ガス23の供給を停止する。なお、ガス供給時間t3〜t4及びインターバル時間t2〜t3は、処理水量、水中の有機物濃度、放電電力、ガス流量などに応じて適宜に設定される。また、ガス流量V1,V2は、処理槽11内の水量に応じて適宜調整される。
次に、図15のタイミングチャートを参照して上記と異なる方法で処理水17を浄化処理する場合を説明する。
水浄化処理装置1Qの各所に設けられたセンサ(図示せず)から各種の信号S1,S2,S3が入力されると、制御部40Qは時間t1のタイミングに弁27a,27bの流路を開け、酸素含有ガス供給部16からガスバッファ部14へ乾燥酸素含有ガス22を一定の流量V1で供給させるとともに、酸素含有ガス供給部16から多湿化酸素含有ガス製造部15へ乾燥酸素含有ガス22の流量を徐々に増加させながら供給させる。
時間t2のタイミングから弁27aの開度を徐々に小さくし、ガスバッファ部14への乾燥酸素含有ガス22の供給量を漸減させる。また、時間t3のタイミングから弁27aの開度を徐々に大きくするか、および/または酸素含有ガス供給部16からの流量を増大させることにより、乾燥酸素含有ガス22を一定の流量V2で多湿化酸素含有ガス製造部15へ供給する。時間t4のタイミングで弁27a,27bを閉じ、ガスバッファ部14への乾燥酸素含有ガス22および多湿化酸素含有ガス23の供給をともに停止する。なお、一定ガス量供給時間t1〜t2、漸減ガス量供給時間t2〜t4、漸増ガス量供給時間t1〜t3、一定ガス量供給時間t3〜t4、は、処理水量、水中の有機物濃度、放電電力、ガス流量などに応じてそれぞれ適宜に設定される。
(第14の実施の形態)
次に、図16を参照して本発明の第14の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Rでは、多湿化酸素含有ガス製造部15の構成を変えている。すなわち、多湿化酸素含有ガス製造部15の外周にコイル状の加熱機構30が巻きつけられ、加熱機構30によって外側から多湿化酸素含有ガス製造部15内の多湿化酸素含有ガスが加熱されるようになっている。なお、加熱機構30は多湿化酸素含有ガス製造部15の内部に設置してもよい。
本実施形態の装置1Rの多湿化酸素含有ガス製造部15によれば、常温での飽和水蒸気量以上の水分量を有する多湿化酸素含有ガス23を生成できるようになる。これによりヒドロキシルラジカルの生成量を増加させることができるようになり、高速かつ高効率の処理が可能になる。
(第15の実施の形態)
次に、図17を参照して本発明の第15の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Sでは、多湿化酸素含有ガス供給部15からガスバッファ部14までの間のラインL2を断熱機構31により覆っている。断熱機構31で被覆されたラインL2に加えて上述の加熱機構30をさらに設けることもできる。
本実施形態の装置1Sによれば、多湿化酸素含有ガス製造部15で製造された多湿化酸素含有ガス23を結露させることなく放電部12に送ることが可能になる。これにより、高効率にヒドロキシルラジカルを生成できるようになり、高効率処理が可能になる。
(第16の実施の形態)
次に、図18を参照して本発明の第16の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態が上記の実施の形態と重複する部分の説明は省略する。
本実施形態の装置1Tでは、ラインL2の断熱機構31の他にさらにガスバッファ部14の周囲に断熱機構41を設けている。断熱機構31,41により、多湿化酸素含有ガス23を結露させることなく放電部12に送気させることができる。
本実施形態の装置1Tによれば、高効率にヒドロキシルラジカルを生成できるようになり、高効率処理が可能になる。
以上、種々の実施の形態を挙げて説明したが、本発明は上記各実施の形態のみに限定されるものではなく、種々変形および組み合わせることが可能である。
本発明は、難分解性で有害な有機物を含有する水を浄化するための放電型水浄化処理装置に利用することができる。このような放電型水浄化処理装置は、多湿化酸素含有ガス放電内で発生するオゾン、ヒドロキシルラジカル等の活性種を処理水中に溶解させることができる。
本発明の第1の実施の形態に係る放電型水浄化処理装置を示す概略ブロック断面図。 第2の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第3の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第4の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第5の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第6の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第7の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第8の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第9の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第10の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第11の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第12の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第13の実施の形態の放電型水浄化処理装置の全体を示す概略ブロック断面図。 ガス供給動作を示すタイミングチャート。 他のガス供給動作を示すタイミングチャート。 第14の実施の形態の放電型水浄化処理装置の要部を示す概略ブロック断面図。 第15の実施の形態の放電型水浄化処理装置の全体を示す概略ブロック断面図。 第16の実施の形態の放電型水浄化処理装置の全体を示す概略ブロック断面図。
符号の説明
1,1A〜1H,1M,1N,1P,1Q,1R,1S,1T…放電型水浄化処理装置、
11…反応槽、11a…上部、11b…下部、
12,12A〜12H,12M,12P…放電部、
13…高電圧電源、14…ガスバッファ部、
15…多湿化酸素含有ガス製造部、
16…酸素含有ガス供給部、17…処理水、
18…誘電体部材部材、19…接地電極、20…高電圧電極、
22…酸素含有ガス、23…多湿化酸素含有ガス、
24…開口部、25…誘電体部材、26…スペーサ、
27a…分岐弁、27b…合流弁、
28…多湿用水、29…散気部、
30…加熱機構、31…断熱機構、
40,40Q,40S,40T…制御部、L1,L2,L3,L4,L5…ライン。

Claims (12)

  1. 処理水が貯水される反応槽と、
    前記反応槽の下部に設けられ、多孔質または少なくとも1つの開口部を有する誘電体部材を有し、少なくとも一方が前記誘電体部材に接する接地電極および高電圧電極を有する放電部と、
    前記高電圧電極と前記接地電極にそれぞれ接続される高電圧電源と、
    前記放電部に近接して設置されるガスバッファ部と、
    前記ガスバッファ部に接続される多湿化酸素含有ガス製造部と、
    前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続される酸素含有ガス供給部と、
    を具備する放電型水浄化処理装置。
  2. 前記放電部は、少なくとも1つの開口部を持つ導電性金属またはメッシュ状の導電性金属である接地電極と、前記接地電極から一定の距離をおいて配置されるワイヤ状またはブレード状の高電圧電極と、を具備し、
    前記接地電極および前記高電圧電極のうちの少なくとも一方が前記誘電体部材で覆われていることを特徴とする請求項1記載の装置。
  3. 前記放電部は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水と反対側に少なくとも一方が前記誘電体部材に覆われる少なくとも一対の高電圧電極と接地電極を具備することを特徴とする請求項1記載の装置。
  4. 前記接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、
    前記高電圧電極は、前記誘電体部材に対して接地電極と反対側に前記誘電体部材から一定距離を置いて配置される少なくとも1つの開口部を有するか又は導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることを特徴とする請求項1記載の装置。
  5. 前記誘電体部材は、球状をなし、少なくとも1つの開口部を有し、
    前記接地電極は、前記誘電体部材に接し、前記誘電体部材の処理水側に設けられ、少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなり、
    前記高電圧電極は、前記誘電体部材に接し、接地電極と反対側に設けられる少なくとも1つの開口部を有する導電性金属またはメッシュ状の導電性金属からなることを特徴とする請求項1記載の装置。
  6. 前記酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給量と前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿酸素含有ガスの供給量とをそれぞれ制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
  7. 前記酸素含有ガス供給部から前記多湿化酸素含有ガス製造部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記ガスバッファ部に直接接続される第1の分岐配管と、
    前記第1の分岐配管の分岐部に設けられ、前記酸素含有ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスの供給を前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部とに分岐させる分岐弁と、
    前記多湿化酸素含有ガス製造部から前記ガスバッファ部までの間において分岐し、分岐した一方側が前記多湿化酸素含有ガス製造部に接続され、分岐した他方側が前記酸素含有ガス供給部に直接接続される第2の分岐配管と、
    前記第2の分岐配管の分岐部に設けられ、前記多湿化酸素含有ガス製造部からの多湿化酸素含有ガスと前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスとを合流させて前記ガスバッファ部に向かわせる合流弁と、
    をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
  8. 前記多湿化酸素含有ガス製造部は、前記酸素ガス供給部からの乾燥酸素含有ガスを水中に曝気させることにより多湿化させることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
  9. 前記多湿化酸素含有ガス製造部の周囲または内部に設けられた加熱機構をさらに有することを特徴とする請求項7または8のいずれか1項記載の装置。
  10. 前記多湿化酸素含有ガス製造部と前記ガスバッファ部との間に設けられた断熱機構または加熱機構をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
  11. 前記ガスバッファ部は断熱機構をさらに有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
  12. 前記反応槽、前記接地電極、前記高電圧電極および前記ガスバッファ部は、耐腐食性金属からなることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項記載の装置。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009234900A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Univ Of Miyazaki 水中オゾナイザ
JP2010084201A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Panasonic Electric Works Co Ltd 還元水発生装置
JP2012011301A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Nagoya Univ 水処理方法および水処理装置
JP2012043769A (ja) * 2010-07-21 2012-03-01 Panasonic Corp プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
WO2012108235A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 パナソニック株式会社 プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
JP2013128909A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Tokyo Institute Of Technology 液体処理装置
JP2013150975A (ja) * 2011-12-29 2013-08-08 Daikin Industries Ltd 浄化装置
JP2013220425A (ja) * 2012-04-17 2013-10-28 Samkun Century Co Ltd バラスト水処理装置およびこれを備えたバラスト水処理システム
CN103392383A (zh) * 2011-03-28 2013-11-13 松下电器产业株式会社 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
CN103648986A (zh) * 2011-07-15 2014-03-19 松下电器产业株式会社 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
JP2014534045A (ja) * 2012-03-27 2014-12-18 オブシェストヴォ エス オグラニチェンノィ オトゥヴェトゥストゥヴェンノスティユ “プラズマ−プロ” 有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005296909A (ja) * 2004-03-16 2005-10-27 Toshiba Corp 水処理システム
JP2006187743A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Toshiba Corp ラジカル処理装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005296909A (ja) * 2004-03-16 2005-10-27 Toshiba Corp 水処理システム
JP2006187743A (ja) * 2005-01-07 2006-07-20 Toshiba Corp ラジカル処理装置

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009234900A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Univ Of Miyazaki 水中オゾナイザ
JP2010084201A (ja) * 2008-09-30 2010-04-15 Panasonic Electric Works Co Ltd 還元水発生装置
JP2012011301A (ja) * 2010-06-30 2012-01-19 Nagoya Univ 水処理方法および水処理装置
JP2012043769A (ja) * 2010-07-21 2012-03-01 Panasonic Corp プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
WO2012108235A1 (ja) * 2011-02-08 2012-08-16 パナソニック株式会社 プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
CN103329632A (zh) * 2011-02-08 2013-09-25 松下电器产业株式会社 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备
CN103392383A (zh) * 2011-03-28 2013-11-13 松下电器产业株式会社 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
CN103648986A (zh) * 2011-07-15 2014-03-19 松下电器产业株式会社 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
JP2013128909A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Tokyo Institute Of Technology 液体処理装置
JP2013150975A (ja) * 2011-12-29 2013-08-08 Daikin Industries Ltd 浄化装置
JP2014534045A (ja) * 2012-03-27 2014-12-18 オブシェストヴォ エス オグラニチェンノィ オトゥヴェトゥストゥヴェンノスティユ “プラズマ−プロ” 有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置
JP2013220425A (ja) * 2012-04-17 2013-10-28 Samkun Century Co Ltd バラスト水処理装置およびこれを備えたバラスト水処理システム

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