CN103392383A - 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置 - Google Patents

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Abstract

等离子体发生装置(1)具有容纳含水的液体(6)的液体容纳部(3)、容纳气体的气体容纳部(4)以及隔离壁部(3)，该隔离壁部形成有用于将气体容纳部中的气体引导到液体容纳部的气体通路(5a)，将液体容纳部与气体容纳部隔开。另外，具备被配置于气体容纳部的第一电极(10)和被配置成与液体容纳部中的液体相接触的第二电极(11)。并且，还具备向气体容纳部供给气体的气体供给部(9)、等离子体电源部(13)以及作为排水促进部的突起形状部(14)，该排水促进部避免在排出液体容纳部内的液体之后在气体通路中残留液体。

Description

等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
技术领域
本发明涉及一种等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置。
背景技术
作为以往的技术，专利文献1公开了一种水中放电装置。该水中放电装置通过在含有气泡的液体中进行放电来使气泡产生自由基等以重整液体。
专利文献1：日本特开2001-9463号公报
发明内容
发明要解决的问题
在这种水中放电装置中，需要对放电容器内的液体导入气体，因此在容器上开出小孔，将该孔作为气体通路。若在放电产生结束后以液体没有从气体通路完全排出的状态进行放置，则水分会蒸发而析出钙等杂质，气体通路会发生堵塞，从而有可能变得无法进行稳定的放电。
因此，本发明的目的在于防止放电产生结束后的气体通路的堵塞，防止由堵塞导致的不稳定放电现象。
用于解决问题的方案
本发明的第一方式所涉及的等离子体发生装置的特征在于，具备：液体容纳部，其容纳含水的液体；气体容纳部，其容纳气体；隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，具有用于将上述气体容纳部的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；第一电极，其被配置于上述气体容纳部；第二电极，其被配置成与上述液体容纳部的液体相接触；气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使加压输送到上述液体容纳部的液体内的气体等离子体化；以及排水促进部，其避免在排出上述液体容纳部内的液体之后在上述气体通路中残留液体。
也可以是，上述排水促进部由使上述气体通路的上述液体容纳部侧的开口周缘部比该开口周缘部的周围突出而得到的突起形状部构成。
也可以是，上述气体通路的至少内表面或者上述突起形状部由疏水性部件形成。
也可以是，作为上述排水促进部，上述气体通路的上述液体容纳部侧的至少开口周缘部由亲水性部件形成。
也可以是，利用向上述气体通路喷出空气的空气喷出机构来构成上述排水促进部。
也可以是，利用对上述气体通路施加振动的振动施加机构来构成上述排水促进部。
也可以是，上述空气喷出机构使用从上述气体供给部向上述气体容纳部供给的气体。
也可以是，上述振动施加机构使用上述气体供给部的振动。
本发明的第二方式所涉及的清洗净化装置的特征在于具备上述等离子体发生装置。
发明的效果
本发明的等离子体发生装置具有避免在排出液体容纳部内的液体之后在气体通路中残留液体的排水促进部。通过该排水促进部，在放电产生结束排水之后，在气体通路中不残留液体，因此抑制由于水分的蒸发而钙等杂质析出，从而抑制该气体通路的堵塞。其结果，在本发明的等离子体发生装置中，气体通路不会被杂质堵塞，因此会得到稳定的放电。
另外，通过使清洗净化装置具备上述等离子体发生装置，能够得到稳定的等离子体放电来稳定地得到自由基，能够得到清洗效果高的清洗净化装置。
附图说明
图1是示意性地表示第一实施方式的等离子体发生装置的截面图，(A)是整体图，(B)是气体通路部分的放大图，(C)是气体通路周围残留有液体的状态的气体通路部分的放大图。
图2是示意性地表示用于说明第一实施方式的等离子体发生装置的动作的一个状态的局部放大截面图。
图3是示意性地表示图2所示的状态之后的状态的局部放大截面图。
图4是表示第二实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的其它方式的气体通路部分的放大截面图。
图5是表示第二实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的另一方式的气体通路部分的放大截面图。
图6是表示第三实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。
图7是表示第四实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。
图8是表示第五实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。
图9是表示第六实施方式的等离子体发生装置的排水促进部的又一方式的气体通路部分的放大截面图。
图10是表示将本实施方式的等离子体发生装置应用于清洗净化装置的例子的立体图。
图11是图10的截面图。
图12是图11的A-A截面图。
具体实施方式
下面，参照附图来详细说明应用了本发明的具体实施方式。
[第一实施方式]
如图1所示，第一实施方式的等离子体发生装置1具备壳体部件2。壳体部件2的形状例如为圆筒形状或方筒形状等，但是对其形状并没有限定。在壳体部件2的内侧设置有将液体容纳部3与气体容纳部4隔开的隔离壁部5。该壳体部件2的内部空间被隔离壁部5进行上下分割，将图1中上方空间作为液体容纳部3，将下方空间作为气体容纳部4。液体容纳部3中容纳含水的液体6。气体容纳部4中容纳含氧的气体。
隔离壁部5例如由陶瓷部件等形成，具有将气体容纳部4的气体引导到液体容纳部3的气体通路5a。该气体通路5a被设为能够从气体容纳部4向液体容纳部3送入气体的大小。因此，气体通路5a优选尽可能大。但是，当气体通路5a的孔过大时，液体容纳部3中容纳的液体6会流入到气体容纳部4。因此，期望将气体通路5a形成为能够将气体导入到液体容纳部3并能够防止液体6从液体容纳部3流入到气体容纳部4的大小。
在本实施方式中，将气体通路5a的孔径设为约1μm～10μm左右，使得液体容纳部3中容纳的液体6不会从气体通路5a漏出到气体容纳部4。
在壳体部件2的侧壁2a上设置有将气体容纳部4与外部之间连通的气体导入口7。该气体导入口7中贯穿有配管(气体导入路)8。而且，经由配管8将气体容纳部4与设置于壳体部件2的外部的气体供给部9相连接。在本实施方式中，将至少含氧(O2)的气体从气体供给部9供给到气体容纳部4内。将从气体供给部9供给的气体从气体通路5a加压输送到液体容纳部3的液体内。
气体容纳部4中配置有第一电极10。另一方面，液体容纳部3中以与液体6相接触的方式配置有第二电极11。该第一电极10与第二电极11构成为相互之间隔着隔离壁部5而分别配置于气体容纳部4和液体容纳部3。另外，该第一电极10和第二电极11均以不与隔离壁部5和壳体部件2接触的状态进行配置。另外，第一电极10和第二电极11均大致呈球状。第二电极11以与液体6相接触的方式进行配置，并且接地。此外，第一电极10和第二电极11的形状并不限定于大致呈球状。
另外，第一电极10和第二电极11分别经由引线12与等离子体电源部13电连接。等离子体电源部13在第一电极10与第二电极11之间施加规定的电压。通过该电压施加，在第一电极10与第二电极11之间产生放电。然后，通过该放电使从气体通路5a加压输送到液体容纳部3的液体6内的气体等离子体化。
排水促进部(排水促进单元)避免在排出液体容纳部3内的液体6之后在气体通路5a中残留液体6。在第一实施方式中，排水促进部由使气体通路5a的液体容纳部3侧的开口周缘部比其周围突出而成的突起形状部14构成。突起形状部14在气体通路5a的开口周缘部以从作为液体容纳部3的底面的隔离壁部5的一面5b起向上方突出的方式形成为圆环壁等。在气体通路5a的孔形状不是圆形的情况下，突起形状部14不是圆环壁，而形成为与其孔形状相应的形状。该突起形状部14的形状并没有特别限定。
对于突起形状部14的高度H，优选如图1的(B)中那样为距隔离壁部5的一面(液体容纳部3的底面)5b的规定高度。当突起形状部14的高度H过低时，排水后气体通路5a中会残留液体6。而且，该液体6干燥而水分蒸发，析出钙等杂质，气体通路5a会发生堵塞。另一方面，当突起形状部14的高度H过高时，等离子体化后的气体在液体容纳部3内难以扩散。此外，等离子体化是在气体、液体的界面处进行的，因此认为不会由于突起形状部14的高度H而变得难以扩散。
当排出液体容纳部3内的液体6时，如图1的(C)所示，隔离壁部5的一面5b上薄薄地残留有一层液体6，在气体通路5a之中和该气体通路5a的周缘部由于突起形状部14而没有液体6残留。若不存在该突起形状部14，则液体6会由于表面张力而覆盖气体通路5a地残留，由于干燥而水分蒸发，析出的杂质会使气体通路5a堵塞。但是，突起形状部14作为防波堤而发挥功能，由此在液体容纳部3侧的气体通路5a之中和该气体通路5a的周缘部没有液体6残留。其结果，防止杂质堵塞气体通路5a。
接着，对上述的等离子体发生装置1的动作以及羟基自由基的生成方法进行说明。
首先，以经由气体通路5a向液体容纳部3加压输送气体容纳部4的气体的方式，将含氧的气体供给到气体容纳部4(供给气体的步骤)。
在本实施方式中，将以空气为基础而含氧的气体(流量约0.01L/min～1.0L/min(10cc/min～1000cc/min))从气体供给部9经由配管8送入到气体容纳部4。此时，送入气体的压力约为0.0098MPa～0.05MPa左右。
这样，气体供给部9具备供给大气中的气体(空气)的功能。此外，气体的供给流量由设置于气体供给部9的未图示的流量控制部来控制。另外，也可以使气体供给部9具有不仅能够供给大气中的气体还能够供给其它种类的气体(例如，氧浓度不同的气体)的功能。并且，也可以在该气体供给部9中设置气体种类控制部，以能够从各种气体中选择性地供给一种或者多种气体。
然后，通过将气体供给到气体容纳部4，气体容纳部4的压力变为大气压加上该压力的约0.11MPa～0.05MPa左右，成为正压状态。这样，通过使气体容纳部4为正压，形成从气体容纳部4经过气体通路5a流向液体容纳部3的气流。
然后，通过如上所述那样供给含氧的气体，如图2所示，在气体通路5a的液体容纳部3侧的开口端15，含氧的微小气泡16生长(生长气泡的步骤)。
接着，由等离子体电源部13在第一电极10与第二电极11之间施加规定的电压。此外，作为所施加的电压，优选能够在大气压下辉光放电的电压(功率：约10W～100W左右)。此时，优选在等离子体电源部13中设置电压控制部，对施加于第一电极10与第二电极11之间的电压进行控制。
然后，通过对第一电极10和第二电极11施加规定的电压，在大气压以上的压力的气体环境下，在第一电极10与第二电极11之间产生放电。此外，关于在大气压下生成等离子体的技术，例如在文献A(岡崎幸子，“大気圧グロー放电プラズマとその応用”，评论演讲：20th JSPFAnnual Meeting)中有所报告。
然后，通过该放电，在液体容纳部3的液体6中的气体区域处生成等离子体，基于液体6中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等(生成羟基自由基的步骤)。
在本实施方式中，使气泡16内的气体(液体容纳部3的液体6中的气液边界面附近的气体)产生电位差来生成等离子体。这样，通过在易于生成羟基自由基的气液边界面的附近产生电位差，能够生成更多的臭氧、羟基自由基等。此外，在本实施方式中，不只是在气体通路5a的面向液体6的开口端15附近的气泡16处，在送出到液体容纳部3的气泡16内也能够生成臭氧、羟基自由基等。
这样生成的臭氧、羟基自由基等随着上述的气泡16的流动而被送出到液体容纳部3。
在本实施方式中，通过液体容纳部3内的液体6的流动，将含有羟基自由基等的气泡16从隔离壁部5切断来释放到液体6中(气泡释放步骤)。
具体地说，在气泡16生长的液体容纳部3中，通过导入液体6来产生液体6的流动(参照图2和图3的箭头17)。如图3所示，当沿箭头17方向流动的液体6撞上生长的气泡16时，液体6的流动作为切断力作用于气泡16，使气泡16从开口端15释放到液体6中。
被释放到液体6中的气泡16是微小气泡，因此不会立即被释放到大气中而会扩散到液体6的各个角落。而且，扩散后的微小气泡16的一部分容易溶解到液体6中。此时，气泡16中含有的臭氧等溶解到液体6中，由此液体的臭氧浓度会直线上升。
另外，根据文献B(高橋正好，“マイクロバブルとナノバブルによる水环境の改善”，Aqua网络，2004.6)，报告了以下内容：通常含有臭氧、各种自由基的微小气泡16大多带负电。因此，气泡16的一部分吸附于液体6中含有的有机物、油脂物、染料、蛋白质、细菌等。液体6中的有机物等被溶解于液体6的臭氧或者各种自由基、吸附在有机物等上的气泡16所含有的臭氧或者各种自由基等分解。
例如，羟基自由基等具有约120kcal/mol左右的比较大的能量。该能量超过了氮原子和氮原子的双键(N=N)、碳原子和碳原子的双键(C=C)或者碳原子和氮原子的双键(C=N)等的键能(～100kcal/mol)。因此，由氮、碳等键合而成的有机物等会被该羟基自由基等容易地切断其键而分解。有助于这种有机物等的分解的臭氧、羟基自由基等没有氯等那样的残留性而会随着时间消失，因此也是照顾到环境的物质。
如以上说明的那样，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，将第一电极10配置于气体容纳部4，将第二电极11配置成与液体容纳部3中的液体6相接触。而且，使该第一电极10与第二电极11之间产生放电。由此，在液体容纳部3的液体6内的气体区域处生成等离子体，基于液体6中含有的水和气体中含有的氧来生成羟基自由基。
根据这种结构，能够不那么受液体6的电阻的影响地使第一电极10与第二电极11之间产生放电。其结果，能够更可靠地将气体等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等。在将该等离子体发生装置1用作清洗净化装置的情况下的液体6中，由于水中含有杂质等，因此液体6的电阻值大幅变动。但是，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，由于上述的理由而不那么受液体6的电阻值的影响，因此能够抑制放电的偏差，从而稳定地产生等离子体。由此，能够稳定地得到自由基等。
另外，根据第一实施方式，具有避免在排出液体容纳部3内的液体6之后在气体通路5a中残留液体6的突起形状部14，因此该突起形状部14成为防波堤，能够防止液体6残留于气体通路5a内和该气体通路5a的周缘部。其结果，能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，该杂质使气体通路5a堵塞。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。
另外，根据第一实施方式，通过将含氧的气体导入到气体容纳部4，来使气体容纳部4为正压，形成从气体容纳部4经过气体通路5a流向液体容纳部3的气流。而且，在随着该气流而在气体通路5a的面向液体6的开口端15处生长的气泡16内，生成臭氧、羟基自由基等。
即，在第一实施方式中，在气泡16内的气体(液体容纳部3的液体6中的气液边界面附近的气体)中，生成臭氧、羟基自由基等。而且，含有臭氧、羟基自由基等的气体作为微小气泡16扩散到液体6中。由此，能够在产生臭氧、各种自由基之后且它们消失之前极短的时间内有效地将该臭氧、各种自由基送入到液体6中。
而且，含有臭氧、各种自由基的微小气泡16扩散到液体6中，由此液体6的臭氧浓度提高并且气泡16吸附在液体6中含有的有机物等上。由此，能够利用溶解在液体6中的臭氧等、吸附的气泡16中含有的各种自由基来有效地分解有机物、细菌等。
另外，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，在将第二电极11接地的状态下在第一电极10与第二电极11之间施加电压。因此，即使万一用户等误触摸到液体6、第二电极11，也能够防止该等离子体发生装置1的用户触电。
另外，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，如果等离子体电源部13具备对施加于第一电极10与第二电极11之间的电压进行控制的电压控制部，则能够稳定地产生放电。也就是说，即使液体6的电阻发生变动也会与该变动相应地改变电压而得到稳定的放电。
另外，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，如果气体供给部9具有控制气体的种类的气体种类控制部，则能够对臭氧、羟基自由基等的生成量等进行调整。
另外，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，如果气体供给部9具有供给大气中的空气的功能，则能够更简便地供给气体。
另外，在第一实施方式的等离子体发生装置1中，如果通过流量控制部来控制气体的供给流量，则能够更稳定地生成等离子体。
[第二实施方式]
第二实施方式的等离子体发生装置1将突起形状部14的形状设为与第一实施方式的突起形状部14不同的形状。第二实施方式的等离子体发生装置1除了突起形状部14的形状不同以外，其它与第一实施方式的等离子体发生装置1相同。因此，在此，对与第一实施方式相同的结构部件附加相同的标记，省略其说明。
图4和图5示出第二实施方式的等离子体发生装置1的突起形状部14。图4的突起形状部14形成为呈山形状的突起，该山形状是随着从气体通路5a的外周围向其中心前进而高度渐渐增高的形状。图5的突起形状部14不是如图4那样形成急峻的山形状而是形成为随着从外周围向其中心前进而高度平稳地增高的山形状。
如果是该图4和图5的突起形状部14，则与第一实施方式同样地，该突起形状部14成为防波堤，能够防止液体6残留于气体通路5a内和该气体通路5a的周缘部。其结果，能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发，从而析出钙等杂质，该杂质使气体通路5a堵塞。由此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化。而且，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，从而能够提高清洗净化作用。
[第三实施方式]
在第三实施方式的等离子体发生装置1中，利用疏水性部件18形成第一实施方式的突起形状部14的至少气体通路5a的内表面或者突起形状部14。第三实施方式的等离子体发生装置1除了利用疏水性部件18形成气体通路5a的内表面或者突起形状部14这一点以外，其它与第一实施方式的等离子体发生装置1相同。因此，在此，对与第一实施方式相同的结构部件附加相同的标记，省略其说明。
图6示出第三实施方式的等离子体发生装置1的突起形状部14。在图6的(A)中，包括突起形状部14的内表面在内的气体通路5a的内表面整体由疏水性部件18形成。在图6的(B)中，包括突起形状部14在内的隔离壁部5的整体由疏水性部件18形成。疏水性部件18防水性高，是表面自由能(表面张力)高的物质。作为该疏水性部件18的例子，能够利用防水性高的精细结构、例如科赫曲线那样分形结构的表面形状来实现。
对于疏水性部件18，除此以外，例如还包括PTFE(聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene))、氟系树脂或者氟系水系涂布材料(フロロテクノロジー(Fluoro Technology)公司制的フロロサーフ(Fluorosarf))等。除此以外，疏水性部件18由具有硅醚(シリルエーテル)、烷基甲硅烷基的物质等构成。另外，对于疏水性部件18，能够使用饱和氟代烷基(尤其是三氟甲基CF3-)、烷基甲硅烷基、氟代甲硅烷基、长链烷基等。
为了如图6的(A)那样使包括突起形状部14的内表面在内的气体通路5a的内表面整体为疏水性部件18，通过涂布、浸涂、旋转涂布、电镀、蒸镀、溅镀等对上述疏水性材料进行成膜处理。图6的(B)的使包括突起形状部14在内的隔离壁部5的整体为疏水性部件18也是同样的。
在第三实施方式中，突起形状部14成为防波堤，防止液体6残留于气体通路5a内和该气体通路5a的周缘部，除此以外，即使液体6附着在气体通路5a内，也会由于该气体通路5a的疏水性作用而液体6不会残留在气体通路5a内。因而，即使液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，也不会发生如杂质堵塞气体通路5a这样的情况。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化。而且，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。
[第四实施方式]
在第四实施方式的等离子体发生装置1中，作为排水促进部，气体通路5a的液体容纳部3侧的至少开口周缘部由亲水性部件19构成。第四实施方式的等离子体发生装置1除利用亲水性部件19形成气体通路5a的至少开口周缘部这一点以外，其它与图4的例相同。因此，在此，对与图4相同的结构部件附加相同的标记，省略其说明。
在图7的(A)中，将包括呈山形状的突起形状部14在内的隔离壁部5的一面5b整体设为亲水性部件19，该山形状是随着从气体通路5a的外周围向其中心前进而高度渐渐增高的形状。换言之，包括气体通路5a的开口周缘部在内的隔离壁部5的底面整体由亲水性部件19构成。在图7的(B)中，利用亲水性部件19构成整个隔离壁部5，利用疏水性部件18构成气体通路5a的内表面。
作为亲水性部件19，例如使用二氧化钛(TiO2)、氧化铝(Al2O3)等亲水性材料。在本实施方式中，作为亲水性材料，使用了日本Aerosil(アエロジル)株式会社制的亲水性气相(fumed)金属氧化物。通过使用亲水性部件19，排水后稍微残留于隔离壁部5的底面的液体6会被吸收。
在图7的(A)的构造中，在排水后要在隔离壁部5的底面(一面5b)薄薄地残留一层液体6，但是由于底面整体为亲水性部件19，因此液体6被该亲水性部件19吸收。另外，在图7的(B)的构造中，同样由于隔离壁部5整体为亲水性部件19而底面的液体6被吸收。另外，由于气体通路5a的内表面为疏水性部件18，因此该气体通路5a排斥液体6。因而，根据第四实施方式，能够防止液体6残留于气体通路5a内和该气体通路5a的周缘部。其结果，能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，该杂质使气体通路5a堵塞。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化。而且，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。
[第五实施方式]
在第五实施方式的等离子体发生装置1中，排水促进部由向气体通路5a喷出空气的空气喷出机构构成。第五实施方式的等离子体发生装置1除了排水促进部的构造不同和没有突起形状部14以外，其它与第一实施方式的等离子体发生装置1相同。因此，在此，对与第一实施方式相同的结构部件附加相同的标记，省略其说明。
在图8的(A)中，将吹出空气的鼓风机等设为空气喷出机构20，向液体容纳部3的底面直接喷出空气21，来使气体通路5a内和该气体通路5a的开口周缘部的液体6成为水滴6a而将其驱散。在图8的(B)中，从设置于气体容纳部4侧的鼓风机等空气喷出机构20向液体容纳部3将空气21喷出到气体通路5a，来使气体通路5a内的液体6成为水滴6a而将其驱散。
如果利用该图8的(A)和(B)的空气喷出机构20来喷出空气，则能够使气体通路5a内的液体6成为水滴6a而将其驱散，能够防止液体6残存于气体通路5a内。其结果，能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，该杂质使气体通路5a堵塞。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。
[第六实施方式]
在第六实施方式的等离子体发生装置1中，排水促进部由对气体通路5a施加振动的振动施加机构构成。第六实施方式的等离子体发生装置1除了排水促进部的构造不同和没有突起形状部14以外，其它与第一实施方式的等离子体发生装置1相同。因此，在此，对与第一实施方式相同的结构部件附加相同的标记，省略其说明。
在图9中，形成对隔离壁部5施加振动的振动施加机构22，利用该振动施加机构22来对隔离壁部5直接施加振动，通过该振动来使气体通路5a内和该气体通路5a的开口周缘部的液体6成为水滴6a而将其驱散。作为振动施加机构22，能够使用以往一般的构造，并没有特别限定于该构造。
如果利用图9所示的振动施加机构22使隔离壁部5振动，则能够使气体通路5a内的液体6成为水滴6a而将其驱散，能够防止液体6残存于气体通路5a内。其结果，能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，该杂质使气体通路5a堵塞。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化。而且，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。
[第七实施方式]
第七实施方式的等离子体发生装置1为以下的方式：将第五实施方式的空气喷出机构20兼用作气体供给部9，另外，将第六实施方式的振动施加机构22兼用作气体容纳部9。因此，在第七实施方式中，代用图1、图8的(B)、图9来进行说明。
使用向气体容纳部4吹入气体的气体供给部9来代替图8的(B)所示的空气喷出机构20。也就是说，在清洗后排出液体容纳部3内的液体6之后，也使气体供给部9进行动作来将气体送入到气体容纳部4，由此从气体通路5a向液体容纳部3吹出气体。由此，气体通路5a内的液体6变为水滴6a而被驱散。
使用向气体容纳部4吹入气体的气体供给部9来代替图9所示的振动施加机构22。也就是说，在清洗后排出液体容纳部3内的液体6之后，也使气体供给部9进行动作，使随着该气体供给部9的动作而产生的振动通过振动传递部件等传递到隔离壁部5。通过该振动来除去气体通路5a内的液体6。
根据第七实施方式，除去了气体通路5a内的液体6，由此能够避免以下情况：液体6干燥而水分蒸发从而析出钙等杂质，杂质使气体通路5a堵塞。因此，能够得到稳定的放电而将气体可靠地等离子体化。而且，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等，能够提高清洗净化作用。另外，根据第七实施方式，将空气喷出机构20或者振动施加机构22兼用作气体供给部9，由此，不需要专用部件，能够实现装置本身的小型化和低成本化。
[第八实施方式]
参照图10到图12来说明本发明的第八实施方式。在此，作为第八实施方式的一例，列举出使用了等离子体发生装置1的小型电器设备。该小型电器设备是对电动剃须刀(小型脱毛装置)的头部进行清洗的清洗净化装置。
清洗净化装置40对作为脱毛装置的一种的电动剃须刀50的头部(被清洗处理对象部)51进行清洗。
清洗净化装置40如图10到图12所示那样，具备：机壳41，其具有用于插入头部51朝下的电动剃须刀50的开口41a；以及托盘42，其容纳通过开口41a插入机壳41内的头部51。
另外，清洗净化装置40具备：罐43，其存储液体6；溢出部44，其与托盘42连通；以及泵45，其将罐43内的液体6循环供给到液体导入口。还具备：滤筒46，其具有对液体进行过滤的过滤器46a；开闭阀47，其用于对罐43内的气密状态进行控制；以及循环路径，其用于使液体6循环。
循环路径具有：配管(液体导入路径)30，其将罐43中存储的液体6导入到托盘42；以及路径31(排出路径)，其将从托盘42排出的液体引导到滤筒46。另外，循环路径具有：路径32，其将从溢出部44排出的液体6引导到滤筒46；以及路径33，其将从滤筒46排出的液体6引导到泵45。并且，循环路径包括路径34，该路径34将从泵45送出的液体6引导到罐43。另外，罐43经由气密路径35连接开闭阀47。下面，对各结构部件进行说明。
机壳41在其后部具有与电动剃须刀50的把持部52抵接的支架部41b，将从开口41a插入的电动剃须刀50保持于托盘42。如图10所示，在支架部41b的前表面设置有触点部件41c，该触点部件41c用于检测已在清洗净化装置40中安装了电动剃须刀50。触点部件41c根据与设置于把持部52背面的端子52a的接触来检测电动剃须刀50的安装，除了这种检测功能以外，同时还具有将各种控制信号、驱动电力输出到电动剃须刀50的功能。
在机壳41的前部上方容纳有风扇48，该风扇48用于在清洗后使头部51干燥。在机壳41前表面设置有风扇用的通气窗41d、用于执行清洗动作的动作按钮41e、显示动作状态的灯41f等。在机壳41的后表面侧具有连接口41g、41h、41i，该连接口41g、41h、41i为装配罐43的装配部，用于与罐43的各口43a、43b、43c相连接。连接口41g与配管30连接，连接口41h与路径34连接，连接口41i与气密路径35连接。
托盘42被设为沿着头部51的形状的凹形状，在底壁部形成有贯通孔42b。而且，等离子体发生装置1以液体容纳部3经由该贯通孔42b与托盘42的内部空间连通的方式设置于该托盘42的底壁部背面侧。
在本例中，以液体容纳部3与托盘42的内部空间连通的方式设置等离子体发生装置1，托盘42的内部空间也作为等离子体发生装置1的液体容纳部3而发挥功能。此外，优选的是，在托盘42中例如形成排水槽等，由此使得能够更顺畅地从路径31(排出路径)排出液体容纳部3的液体6。
另外，在托盘42的底部壁背面侧设置有加热器49(参照图12)。该加热器49与风扇48联动地进行头部51的干燥。
在托盘42的前方设置有溢出部44。托盘42与溢出部44形成为一体。溢出部44的入口与托盘42连接，出口与路径32连接。路径32从溢出部44的出口经由设置在托盘42后部的中继口42a而到达滤筒46。
罐43在前表面具有喷出口43a和流入口43b、以及用于开放气密状态的通气口43c，通过通气口43c的开闭来控制液体从喷出口43a的喷出。罐43装卸自如地安装在机壳41后表面侧。而且，罐43在安装于机壳41的状态下，喷出口43a与连接口41g相连接，以能够将罐43中存储的液体从配管(液体导入路径)30导入到托盘42。另外，流入口43b与连接口41h相连接，通过路径34与泵45的送出口45a连接，通气口43c与连接口41i相连接，通过气密路径35与开闭阀47连接。
滤筒46是在内部容纳有过滤器46a的大致箱状体，在上部具有流入口46b，在前部具有流出口46c。该滤筒46装卸自如地设置在机壳41的下部后方，在安装于机壳41的状态下，流入口46b通过路径31(排出通路)与排出口41k连接。另外，流入口46b通过路径32与溢出部44的出口连接。而且，流出口46c通过路径33与泵45的吸入口45b连接。
接着，说明清洗净化装置40的动作。首先，从罐43经由配管(液体导入路径)30将液体6导入到托盘42和等离子体发生装置1的液体容纳部3内。
然后，将以空气为基础而含氧的规定流量的气体从气体供给部9经由配管8送入到气体容纳部4内。在使用了第一实施方式的等离子体发生装置1的情况下，由控制部14对气体供给部9进行控制，使气体通路5a的压力高于液体容纳部3的压力。由此，使气体容纳部4成为正压状态，形成从该气体容纳部4经过气体通路5a流向液体容纳部3的气流。
接着，通过在第一电极10与第二电极11之间施加规定的电压，来在第一电极10与第二电极11之间产生放电。通过该放电，来在液体容纳部3的液体6中的气体区域处生成等离子体，基于液体6中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等。
然后，所生成的臭氧、各种自由基与上述的气流一起被送出到液体容纳部3以及托盘42内存储的液体中。此时，生长的气泡16作为经微小化单元进行微小化所得到的气泡16从开口端15释放到液体中，释放到液体中的微小气泡16扩散到液体的各个角落。即，所生成的清洗液会被供给到头部51。然后，利用溶解在液体6中的臭氧或者自由基、气泡16中含有的臭氧或者自由基等，使附着在头部51上的有机物等分解。
此外，在第八实施方式的清洗净化装置40中，使其具备第一实施方式的等离子体发生装置1，但是使用第二实施方式～第七实施方式的任一个等离子体发生装置1也能够得到同样的效果。也就是说，根据使用了本发明的等离子体发生装置1的清洗净化装置40，气体通路5a不会堵塞，能够维持稳定的放电状态来稳定地得到自由基，从而得到高清洗效果。
以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式，可以进行各种各样的变形。
例如，在上述各实施方式中，作为形成有气体通路5a的隔离壁部5，例示了陶瓷部件，但隔离壁部5的材料并不限于陶瓷部件。例如，也能够使用以下部件：使用将气体和液体隔离的如玻璃板等的适当部件并通过对该部件实施光刻和蚀刻而形成微小孔(气体通路5a)。此时，也可以设置多个气体通路5a。
另外，本发明的清洗净化装置40并不限于第八实施方式所示的装置，例如，也能够应用于电动牙刷的清洗净化装置、净水装置、将含有洗涤剂等的水在排水前进行净化的装置等。
另外，液体容纳部3、气体容纳部4、其他细节的规格(形状、大小、布局等)也能够适当地改变。
在此引用日本特愿2011-069481号(申请日：2011年3月28日)的全部内容。
以上，按实施例说明了本发明的内容，但是本发明并不限定于这些记载，能够进行各种变形和改良，这对本领域技术人员来说是显而易见的。
产业上的可利用性
本发明的等离子体发生装置具有排水促进部。排水促进部避免在排出液体容纳部内的液体之后在气体通路中残留液体。由此，在放电产生结束排水之后，该气体通路中不残留液体。因而，抑制由于水分的蒸发而钙等杂质析出，抑制该气体通路的堵塞。其结果，在本发明的等离子体发生装置中，得到稳定的放电。
权利要求书(按照条约第19条的修改)
1.(修改后)一种等离子体发生装置，其特征在于，具备：
液体容纳部，其容纳含水的液体；
气体容纳部，其容纳气体；
隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，具有用于将上述气体容纳部的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；
第一电极，其被配置于上述气体容纳部；
第二电极，其被配置成与上述液体容纳部的液体相接触；
气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；
等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使加压输送到上述液体容纳部的液体内的气体等离子体化；以及
排水促进部，其避免在排出上述液体容纳部内的液体之后在上述气体通路中残留液体，
上述排水促进部由使上述气体通路的上述液体容纳部侧的开口周缘部比该开口周缘部的周围突出而得到的突起形状部构成。
2.(删除)
3.(修改后)根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述气体通路的至少内表面或者上述突起形状部由疏水性部件形成。
4.(修改后)根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
作为上述排水促进部，上述气体通路的上述液体容纳部侧的至少开口周缘部由亲水性部件形成。
5.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
利用向上述气体通路喷出空气的空气喷出机构来构成上述排水促进部。
6.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
利用对上述气体通路施加振动的振动施加机构来构成上述排水促进部。
7.根据权利要求5所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述空气喷出机构使用从上述气体供给部向上述气体容纳部供给的气体。
8.根据权利要求6所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述振动施加机构使用上述气体供给部的振动。
9.(修改后)一种清洗净化装置，其特征在于，具备根据权利要求1、权利要求3～8中的任一项所述的等离子体发生装置。

Claims (9)

1.一种等离子体发生装置，其特征在于，具备：
液体容纳部，其容纳含水的液体；
气体容纳部，其容纳气体；
隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，具有用于将上述气体容纳部的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；
第一电极，其被配置于上述气体容纳部；
第二电极，其被配置成与上述液体容纳部的液体相接触；
气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；
等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使加压输送到上述液体容纳部的液体内的气体等离子体化；以及
排水促进部，其避免在排出上述液体容纳部内的液体之后在上述气体通路中残留液体。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述排水促进部由使上述气体通路的上述液体容纳部侧的开口周缘部比该开口周缘部的周围突出而得到的突起形状部构成。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述气体通路的至少内表面或者上述突起形状部由疏水性部件形成。
4.根据权利要求1或2所述的等离子体发生装置，其特征在于，
作为上述排水促进部，上述气体通路的上述液体容纳部侧的至少开口周缘部由亲水性部件形成。
5.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
利用向上述气体通路喷出空气的空气喷出机构来构成上述排水促进部。
6.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
利用对上述气体通路施加振动的振动施加机构来构成上述排水促进部。
7.根据权利要求5所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述空气喷出机构使用从上述气体供给部向上述气体容纳部供给的气体。
8.根据权利要求6所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述振动施加机构使用上述气体供给部的振动。
9.一种清洗净化装置，其特征在于，具备根据权利要求1～8中的任一项所述的等离子体发生装置。
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