CN103329632A - 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备 - Google Patents

等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备 Download PDF

Info

Publication number
CN103329632A
CN103329632A CN2012800064553A CN201280006455A CN103329632A CN 103329632 A CN103329632 A CN 103329632A CN 2012800064553 A CN2012800064553 A CN 2012800064553A CN 201280006455 A CN201280006455 A CN 201280006455A CN 103329632 A CN103329632 A CN 103329632A
Authority
CN
China
Prior art keywords
gas
electrode
mentioned
liquid
producing apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN2012800064553A
Other languages
English (en)
Inventor
斋藤亮彦
实松涉
成田宪二
町昌治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Publication of CN103329632A publication Critical patent/CN103329632A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32018—Glow discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B13/00—Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

等离子体发生装置(1)具备：液体容纳部(4)，其容纳含水的液体；气体容纳部(5)，其容纳气体；隔离壁部(3)，其将液体容纳部(4)与气体容纳部(5)隔开，形成有用于将气体容纳部(5)中的气体引导到液体容纳部(4)的气体通路(3a)；第一电极(12)，其被配置于气体容纳部(5)；以及第二电极(13)，其被配置成至少与第一电极(12)成对的一侧的部分与液体容纳部(4)中的液体(17)相接触。而且，在将第二电极(13)接地的状态下在第一电极(12)与第二电极(13)之间施加规定的电压。

Description

等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备
技术领域
本发明涉及一种等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备。
背景技术
以往，已知一种通过在含有气泡的液体中进行放电来使气泡产生自由基等以重整液体的方法(例如参照专利文献1)。
专利文献1：日本特开2001-9463号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，在上述以往的技术中，完全没有提及装置的安全性。
因此，本发明的目的在于得到一种能够进一步提高安全性的等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备。
用于解决问题的方案
本发明的第一的特征的要旨在于，具备：液体容纳部，其容纳含水的液体；气体容纳部，其容纳气体；隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，形成有用于将上述气体容纳部中的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；第一电极，其被配置于上述气体容纳部；第二电极，其被配置成与上述第一电极隔开距离，且至少与上述第一电极成对的一侧的部分与上述液体容纳部中的液体相接触；气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；以及等离子体电源部，其在将上述第二电极接地的状态下在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使导入到上述气体容纳部的气体等离子体化。
本发明的第二特征的要旨在于，在上述隔离壁部形成有多个上述气体通路。
本发明的第三特征的要旨在于，上述第一电极被配置成与上述多个气体通路的距离大致相等。
本发明的第四特征的要旨在于，上述第一电极是一个构造体。
本发明的第五特征的要旨在于，作为上述一个构造体的第一电极被配置成与上述隔离壁部的气体容纳部侧紧密结合。
本发明的第六特征的要旨在于，上述第一电极被配置成在上述气体通路的中心轴上与该气体通路相对。
本发明的第七特征的要旨在于，是一种具备上述等离子体发生装置的清洗净化装置。
本发明的第八特征的要旨在于，是一种具备上述等离子体发生装置的小型电器设备。
本发明的第九特征的要旨在于，是一种具备上述清洗净化装置的小型电器设备。
发明的效果
根据本发明所涉及的等离子体发生装置，在将第二电极接地的状态下在第一电极与第二电极之间施加规定的电压。因此，即使万一用户等误触摸到液体、第二电极，也能够抑制该用户等触电。即，根据本发明所涉及的等离子体发生装置，能够进一步提高安全性。
而且，通过使清洗净化装置、小型电器设备具备上述的等离子体发生装置，能够得到能够进一步提高安全性的清洗净化装置和小型电器设备。
附图说明
图1是包含示意性地表示本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图2是表示对本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的第一电极和第二电极施加的电压值的图表。
图3是示意性地表示用于说明本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的动作的一个状态的局部放大截面图。
图4是示意性地表示图3所示的状态之后的状态的局部放大截面图。
图5是包含示意性地表示本发明的第一实施方式的第一变形例所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图6是包含示意性地表示本发明的第一实施方式的第二变形例所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图7是包含示意性地表示本发明的第一实施方式的第三变形例所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图8是示意性地表示本发明的第一实施方式的第四变形例所涉及的隔离壁部与第一电极的配置关系的图。
图9是包含示意性地表示本发明的第一实施方式的第五变形例所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图10是本发明的第一实施方式的第五变形例所涉及的等离子体发生装置的从气体供给部侧观察隔离壁部所得的背面图。
图11是包含示意性地表示本发明的第一实施方式的第六变形例所涉及的等离子体发生装置的结构的局部截面的图。
图12是表示本发明的第二实施方式所涉及的具备等离子体发生装置的小型电器设备的具体例的立体图。
图13是图12所示的小型电器设备的侧截面图。
图14是包含示意性地表示本发明的第二实施方式所涉及的等离子体发生装置的局部截面的图。
图15是图13的A-A截面图。
图16是包含示意性地表示本发明的第三实施方式所涉及的清洗净化装置的结构的局部截面的图。
图17是表示本发明的第四实施方式所涉及的小型电器设备的侧截面图。
具体实施方式
下面，参照附图来详细地说明本发明的实施方式。此外，在下面的多个实施方式中包含相同的构成要素。因此，在下面，对这些相同的构成要素附加共同的附图标记，并且省略重复的说明。
(第一实施方式)
本实施方式所涉及的等离子体发生装置1具备大致圆筒状的壳体部件2。此外，壳体部件的形状并不限于圆筒状，例如也可以为方筒状。
而且，如图1所示，在壳体部件2的内侧配置有陶瓷部件3，由该陶瓷部件3对壳体部件2的内部空间进行上下分割。
在本实施方式中，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体(参照图3和图4)17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
这样，在本实施方式中，陶瓷部件3相当于将液体容纳部4和气体容纳部5隔开的隔离壁部。
另外，在壳体部件2的侧壁2b的下部设置有将气体容纳部5与外部连通的气体导入口9，在该气体导入口9中贯穿有配管(气体导入路径)10。而且，经由配管10将气体容纳部5与气体供给部11相连接。在本实施方式中，将至少含氧(O2)的气体从气体供给部11供给到气体容纳部5内。
并且，在陶瓷部件3上形成有气体通路3a，从气体供给部11导入到气体容纳部5内的气体等经过该气体通路3a而被送出到液体容纳部4内。
这样，本实施方式所涉及的气体供给部11具有以下的功能：以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式向气体容纳部5供给至少含氧的气体。
此外，在本实施方式中，将气体通路3a的孔径设为约1μm～10μm左右，使得液体容纳部4所容纳的液体17不会从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。
另外，等离子体发生装置1具备第一电极12和第二电极13，该第一电极12被配置于气体容纳部5，该第二电极13被配置成与第一电极12隔开距离，且至少与第一电极12成对的一侧的部分(与第一电极12的表面之间产生放电的表面)与液体容纳部4中的液体17相接触。
具体地说，将大致呈球状的第一电极12和大致呈球状的第二电极13分别配置在气体容纳部5和液体容纳部4中。
如图1所示，大致呈球状的第一电极12被配置于陶瓷部件3的气体容纳部5内的气体通路3a附近。该第一电极12的表面被电介质(未图示)所覆盖。
另外，第二电极13以至少与第一电极12成对的一侧的部分(与第一电极12的表面之间产生放电的表面)与液体容纳部4中的液体17相接触的方式配置于液体容纳部4。该第二电极13被配置于液体容纳部4内的壳体部件2侧端部。
而且，通过将第一电极12配置于气体容纳部5内，使得第一电极12不与被导入到液体容纳部4的液体17相接触。
另一方面，通过将第二电极13配置于液体容纳部4内，使得第二电极13的至少与第一电极12成对的一侧的部分(与第一电极12的表面之间产生放电的表面)与被导入到液体容纳部4的液体17相接触。
而且，第一电极12以及第二电极13分别经由引线14与等离子体电源部15(参照图1)电连接，在该第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。
在此，在本实施方式中，在将第二电极13接地的状态下在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。
接着，对上述的等离子体发生装置1的动作以及羟基自由基的生成方法进行说明。
首先，以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式，将含氧的气体供给到气体容纳部5(供给气体的步骤)。
在本实施方式中，如图1所示，将以空气为基础而含氧的气体(流量约0.01L/min～1.0L/min(10cc/min～1000cc/min))从气体供给部11经由配管10送入到气体容纳部5。此时，送入气体的压力约为0.0098MPa～0.49MPa(0.1kgf/cm2～5kgf/cm2)左右。
这样，气体供给部11具备供给大气中的气体(空气)的功能。此外，气体的供给流量是由设置于气体供给部11的未图示的流量控制部来控制的。另外，也可以使气体供给部11具有不仅能够供给大气中的气体还能够供给其它种类的气体(例如，氧浓度不同的气体)的功能，并且在该气体供给部11中设置气体种类控制部，以能够从各种气体中选择性地供给一种或者多种气体。
然后，通过将气体供给到气体容纳部5，气体容纳部5的压力变为大气压加上该压力的约0.11MPa～0.59MPa(1.1kgf/cm2～6kgf/cm2)左右，成为正压状态。这样，通过使气体容纳部5为正压，形成从气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。此外，通过使气体容纳部5为正压，也抑制了液体容纳部4所容纳的液体17从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。
然后，通过如上所述那样供给含氧的气体，如图3所示，在气体通路3a的液体容纳部4侧(图1的上侧)的开口端3c，含氧的微小气泡16生长(生长气泡的步骤)。
接着，由等离子体电源部15在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。此外，作为所施加的电压，优选能够在大气压下辉光放电的电压(功率：约10W～100W左右)。此时，优选在等离子体电源部15中设置电压控制部，对施加于第一电极12与第二电极13之间的电压进行控制。
然后，通过对第一电极12和第二电极13施加规定的电压，在大气压或者大气压以上的压力的气体环境下，在第一电极12与第二电极13之间产生放电。此外，关于在大气压下生成等离子体的技术，例如在文献A(岡崎幸子，“大気圧グロー放电プラズマとその応用”，评论演讲：20th JSPFAnnualMeeting)中有所报告。
然后，通过该放电(接触气体的第一电极12的表面与接触液体的第二电极13的表面之间的放电)，在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等(生成羟基自由基的步骤)。
在本实施方式中，使气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)产生电位差来生成等离子体。这样，通过使易于生成羟基自由基的气液边界面的附近(气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近)产生电位差，能够生成更多的臭氧、羟基自由基等。此外，在本实施方式中，不只是在气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近的气泡16处，在送出到液体容纳部4的气泡16内也能够生成臭氧、羟基自由基等。
这样生成的臭氧、羟基自由基等随着上述的气流而被送出到液体容纳部4。
在本实施方式中，通过液体容纳部4内的液体17的流动，将含有羟基自由基等的气泡16从陶瓷部件(隔离壁部)3切断来释放到液体17中(气泡释放步骤)。
具体地说，在气泡16生长的液体容纳部4中，通过导入液体17来产生液体17的流动(参照图3和图4的箭头18)。如图4所示，当沿箭头18方向流动的液体17撞上生长的气泡16时，液体17的流动作为切断力作用于气泡16，使气泡16从开口端3c释放到液体17中。
被释放到液体17中的气泡16是微小气泡，因此不会立即被释放到大气中而会扩散到液体17的各个角落。而且，扩散后的微小气泡16的一部分容易溶解到液体17中。此时，气泡16中含有的臭氧等溶解到液体17中，由此液体的臭氧浓度会直线上升。
另外，根据文献B(高橋正好，“マイクロバブルとナノバブルによる水环境の改善”，Aqua网络，2004.6)，报告了以下内容：通常含有臭氧、各种自由基的微小气泡16大多带负电。因此，气泡16的其它一部分容易吸附于液体17中含有的有机物、油脂物、染料、蛋白质、细菌等(未图示)。液体17中的有机物等被溶解于液体17中的臭氧或者各种自由基、吸附在有机物等上的气泡16所含有的臭氧或者各种自由基等分解。
例如，羟基自由基等具有约120kcal/mol左右的比较大的能量。该能量超过了氮原子和氮原子的双键(N=N)、碳原子和碳原子的双键(C=C)或者碳原子和氮原子的双键(C=N)等的键能(～100kcal/mol)。因此，由氮、碳等键合而成的有机物等会被该羟基自由基等容易地切断其键而分解。有助于这种有机物等的分解的臭氧、羟基自由基等没有氯等那样的残留性而会随着时间消失，因此也是照顾到环境的物质。
如以上说明的那样，在本实施方式所涉及的等离子体发生装置1中，将第一电极12配置于气体容纳部5，并且将第二电极13配置成至少与第一电极12成对的一侧的部分(与第一电极12的表面之间产生放电的表面)与液体容纳部4中的液体相接触。
然后，通过使接触气体的第一电极12的表面与接触液体的第二电极13的表面之间产生放电，来在液体容纳部4中的液体17内的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水和气体中含有的氧来生成羟基自由基。
根据这种结构能够不那么受液体17的电阻的影响地使第一电极12与第二电极13之间产生放电，因此，能够更可靠地将气体等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等。
另外，在本实施方式中，在将第二电极13接地的状态下在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。因此，即使万一用户等误触摸到液体、第二电极，也能够抑制该用户等触电。
这样，根据本实施方式所涉及的等离子体发生装置，能够进一步提高安全性。
另外，根据本实施方式，对液体容纳部4导入液体17，在通过陶瓷部件3划分出的气体容纳部5中配置用于生成等离子体的第一电极12。因此，第一电极12完全不与液体17接触，不会受到液体17的电阻的影响。由此，能够使第一电极12与第二电极13之间稳定地产生放电，能够将被导入到气体容纳部5的含氧的气体可靠地等离子体化，来基于水和氧稳定地生成臭氧或者羟基自由基等。
另外，根据本实施方式，通过将含氧的气体导入到气体容纳部5，来使气体容纳部5为正压，形成从气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。而且，在随着该气流而在气体通路3a的面向液体17的开口端3c处生长的气泡16内，生成臭氧、羟基自由基等。
即，在本实施方式中，在气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)中，生成臭氧、羟基自由基等。然后，含有臭氧、羟基自由基等的气体作为微小气泡16扩散到液体17中。由此，能够在产生臭氧、各种自由基之后且它们消失之前极短的时间内有效地将该臭氧、各种自由基送入到液体17中。
而且，含有臭氧、各种自由基的微小气泡16扩散到液体17中，由此液体17的臭氧浓度提高并且气泡16吸附在液体17中含有的有机物等上。由此，能够利用溶解在液体17中的臭氧等、吸附的气泡16中含有的各种自由基来有效地分解有机物、细菌等。
另外，如果等离子体电源部15具备对施加于第一电极12与第二电极13之间的电压进行控制的电压控制部，则无论液体17的电阻如何变动，都能够使第一电极12与第二电极13之间稳定地产生放电。
另外，如果气体供给部11具有控制气体的种类的气体种类控制部，则能够对臭氧、羟基自由基等的生成量等进行调整。
此时，如果气体供给部11具有供给大气中的空气的功能，则能够更简便地供给气体。
另外，如果通过流量控制部来控制气体的供给流量，则能够更稳定地生成等离子体。
接着，说明等离子体发生装置的变形例。
(第一变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1A基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1A具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1A与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图5所示，在隔离壁部3中形成有多个气体通路3a。
此外，在图5中，示出了在隔离壁部3中形成有三个气体通路3a，但是气体通路3a也可以是两个或四个以上。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第一实施方式同样的作用、效果。
另外，根据本变形例，在隔离壁部3中形成有多个气体通路3a，因此能够在多个位置(多个气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近)同时产生气泡，从而能够使等离子体产生量增大。其结果，能够大量生成臭氧、自由基等。
(第二变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1B基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1B具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1B与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图6所示，在隔离壁部3中形成有多个(在本变形例中为三个)气体通路3a，并且配置有一个或多个(在本变形例中为三个)第一电极12。
并且，在本变形例中，三个第一电极12被配置成到气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端为止的距离D大致相同。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第一实施方式同样的作用、效果。
另外，根据本变形例，在隔离壁部3中形成有多个气体通路3a，并且将一个或多个第一电极12配置成到各气体通路3a为止的距离D大致相同，因此能够在多个位置对多个气泡施加电压。即，能够在各气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近产生放电。其结果，能够使等离子体产生量增大，从而能够大量生成臭氧、自由基等。此外，通过以使第一电极12到各气体通路3a为止的距离D大致相同的方式配置第一电极12，能够抑制放电的产生偏向于多个气体通路3a中的某一个。
(第三变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1C基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1C具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1C与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图7所示，在隔离壁部3中形成有多个(在本变形例中为三个)气体通路3a，并且配置有作为一个构造体的第一电极12。
具体地说，第一电极12形成为大致呈板状的一个构造体，被配置成该第一电极12的表面与气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端相对并且大致与其平行。即，在本变形例中，也与上述第二变形例同样地，第一电极12被配置成到气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端为止的距离D大致相同。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第一实施方式及其第二变形例同样的作用、效果。
另外，根据本变形例，第一电极12为一个构造体，因此制造变得容易，进而能够实现成本的削减。
(第四变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1D基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1D具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1D与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图8所示，在隔离壁部3中形成有多个(在本变形例中为三个)气体通路3a，并且配置有作为一个构造体的第一电极12。
具体地说，在具有大致球壳状的至少一部分的隔离壁部3的大致中心位置配置有作为一个构造体的球状的第一电极12。这样，通过在大致呈球壳状的隔离壁部3的大致中心位置配置第一电极12，使得从第一电极12到气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端的距离D大致相同。此外，沿着圆筒状的隔离壁部3的中心轴配置棒状或球状的第一电极12，也能够使从第一电极12到气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端的距离D大致相同。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第三变形例同样的作用、效果。
(第五变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1E基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1E具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1E与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图9和图10所示，将作为一个构造体的第一电极12配置成与隔离壁部3的气体容纳部5侧紧密结合。
具体地说，当在隔离壁部3的气体容纳部5侧通过镀处理形成电极之后，在与气体通路3a对应的部位以与该气体通路3a呈同心状的方式开深沉孔，由此形成第一电极12。这样，通过以与该气体通路3a呈同心状的方式开深沉孔，使得从第一电极12到气体通路3a的气体容纳部5侧的开口端的距离D大致相同。
此外，在图9和图10中，例示了开直径比气体通路3a的直径大的深沉孔，但是也可以开与气体通路3a直径相同或直径比气体通路3a的直径小的深沉孔。
另外，也能够将气体通路3a、深沉孔形成为大致圆锥台状(锥状)。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第一实施方式同样的作用、效果。
另外，根据本变形例，通过镀处理和形成深沉孔来设置作为一个构造体的第一电极12，因此能够容易地制造第一电极12。
另外，通过将作为一个构造体的第一电极12配置成与隔离壁部3的气体容纳部5侧紧密结合，能够实现装置的薄型化。
(第六变形例)
本变形例所涉及的等离子体发生装置1F基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1F具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
在此，本变形例所涉及的等离子体发生装置1E与上述第一实施方式的等离子体发生装置1的主要不同点在于，如图11所示，将第一电极12配置成在气体通路3a的中心轴上与该气体通路3a相对。
此外，在图11中，示出了一个第一电极12和气体通路3a，但是第一电极12和气体通路3a也可以是多个。
根据以上的本变形例，也能够起到与上述第一实施方式同样的作用、效果。
另外，根据本变形例，将第一电极12配置成在气体通路3a的中心轴上与该气体通路3a相对，因此能够以最短路径产生等离子体。其结果，能够削减不需要的电极，从而能够实现成本削减。另外，通过以最短路径产生等离子体，能够缩短从第一电极12到气液边界面的距离，因此能够减小电压值(第一电极与第二电极之间的电位差)，能够实现装置的节电化。
(第二实施方式)
在本实施方式中，参照图12～15来说明使用了等离子体发生装置1的小型电器设备的一例。下面，例示了对作为脱毛装置的电动剃须刀的头部进行清洗的清洗净化装置。
作为图12～15所示的小型电器设备的清洗净化装置40用于对作为脱毛装置的一种的电动剃须刀50的头部(被清洗处理对象部)51进行清洗。
如图12～15所示，清洗净化装置40具备：机壳41，其具有用于插入头部51朝下的电动剃须刀50的开口41a；以及托盘42，其容纳通过开口41a插入的头部51。
另外，清洗净化装置40具备：罐43，其存储液体；溢出部44，其与托盘42连通；以及泵45，其将罐43内的液体循环供给到液体导入口7。还具备：滤筒46，其具有对液体进行过滤的过滤器46a；开闭阀47，其用于对罐43内的气密状态进行控制；以及循环路径，其用于使液体循环。
该循环路径包括：配管(液体导入路径)21，其将罐43中存储的液体导入到托盘42；路径23(排出路径)，其将从托盘42排出的液体引导到滤筒46；路径24，其将从溢出部44排出的液体引导到滤筒46；路径25，其将从滤筒46排出的液体引导到泵45；以及路径26，其将从泵45送出的液体引导到罐43。另外，罐43经由气密路径27连接开闭阀47。下面，对各结构部件进行说明。
机壳41在其后部具有与电动剃须刀50的把持部52抵接的支架部41b，与托盘42一起保持从开口41a插入的电动剃须刀50。如图12所示，在支架部41b的前表面设置有触点部件41c，该触点部件41c用于检测已在清洗净化装置40中安装了电动剃须刀50。触点部件41c根据与设置于把持部52背面的端子52a的接触来检测电动剃须刀50的安装，除了这种检测功能以外，同时还具有将各种控制信号、驱动电力输出到电动剃须刀50的功能。
在机壳41的前部上方容纳有风扇48，该风扇48用于在清洗后使头部51干燥。在机壳41前表面设置有风扇48用的通气窗41d、用于执行清洗动作的动作按钮41e、显示动作状态的灯41f等。在机壳41的后表面侧具有连接口41g、41h、41i，该连接口41g、41h、41i为装配罐43的装配部，用于与罐43的各口43a、43b、43c相连接。连接口41g与配管(液体导入路径)21连接，连接口41h与路径26连接，连接口41i与气密路径27连接。
托盘42被设为沿着头部51的形状的凹形状，在底壁部形成有贯通孔42b。而且，等离子体发生装置1以液体容纳部4经由该贯通孔42b与托盘42的内部空间连通的方式设置于底壁部的背面侧，。
在本实施方式中，构成为以下结构：以液体容纳部4与托盘42的内部空间连通的方式设置等离子体发生装置1，托盘42的内部空间也作为等离子体发生装置1的液体容纳部4而发挥功能。此外，在托盘42中例如形成排水槽等，由此使得能够更顺畅地从路径23(排出路径)排出液体容纳部4内部的液体。此外，在本实施方式中，在等离子体发生装置1的液体容纳部4的外周端部安装有堵塞壳体部件2与陶瓷部件3的间隙的环状的密封构件6，使得液体容纳部4内的液体17不会从壳体部件2与陶瓷部件3之间的间隙漏出到气体容纳部5内(参照图14)。
另外，在托盘42的底部壁背面侧设置有加热器49(参照图15)。该加热器49与风扇48联动地进行头部51的干燥。
而且，在托盘42的前方设置有溢出部44，在本实施方式中，托盘42与溢出部44形成为一体。溢出部44的入口与托盘42连接，出口与路径24连接。路径24从溢出部44的出口经由设置在托盘42后部的中继口42a而到达滤筒46。
罐43在前表面具有喷出口43a和流入口43b、以及用于开放气密状态的通气口43c，通过通气口43c的开闭来控制液体从喷出口43a的喷出。罐43装卸自如地设置在机壳41后表面侧，在安装于机壳41的状态下，喷出口43a与连接口41g相连接，以能够将罐43中存储的液体从配管(液体导入路径)21导入到托盘42。另外，流入口43b与连接口41h相连接，通过路径26与泵45的送出口45a连接，通气口43c与连接口41i相连接，通过气密路径27与开闭阀47连接。
滤筒46是在内部容纳有过滤器46a的大致箱状体，在上部具有流入口46b，在前部具有流出口46c。该滤筒46装卸自如地设置在机壳41的下部后方，在安装于机壳41的状态下，流入口46b通过路径23(排出通路)与排出口41k连接，并且通过路径24与溢出部44的出口连接。而且，流出口46c通过路径25与泵45的吸入口45b连接。
接着，说明清洗净化装置40的动作。
首先，从罐43经由配管(液体导入路径)21将液体导入到托盘42和等离子体发生装置1的液体容纳部4内。
然后，将以空气为基础而含氧的规定流量的气体从气体供给部11经由配管(气体导入路径)10送入到气体容纳部5内，使气体容纳部5成为正压状态，来形成从该气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。
接着，通过在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压，来在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电(在接触气体的第一电极12的表面与接触液体的第二电极13的表面之间的放电)，来在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等(参照图4)。
然后，所生成的臭氧、各种自由基随着上述的气流被送出到液体容纳部4以及托盘42内存储的液体中。此时，生长的气泡作为经微小化单元进行微小化所得的气泡16从开口端3c释放到液体中，释放到液体中的微小气泡16扩散到液体的各个角落。即，所生成的清洗液会被供给到作为被清洗处理对象部30的头部51。然后，利用溶解在液体(清洗液)中的臭氧或者自由基、气泡16中含有的臭氧或者自由基等，能够使附着在头部51上的有机物等有效地分解。
如以上说明所说明的那样，在本实施方式中，使清洗净化装置(小型电器设备)40具备上述的等离子体发生装置1。即，在本实施方式所涉及的清洗净化装置(小型电器设备)40中，在将第二电极13接地的状态下在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。因此，即使万一用户等误触摸到液体17、第二电极13，也能够抑制该用户等触电。这一点在如本实施方式那样设为将第二电极13配置成露出到外部的结构的情况下尤其有效。
以上，根据本实施方式，能够得到能够进一步提高安全性的小型电器设备。
另外，对于等离子体发生装置1A～1F，也能够应用本实施方式。
(第三实施方式)
在本实施方式中，说明使用了等离子体发生装置的清洗净化装置的一例。
本实施方式所涉及的清洗净化装置20如图16所示那样具备等离子体发生装置1G。
等离子体发生装置1G基本上与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1为同样的结构。即，等离子体发生装置1G具备壳体部件2，由配置于该壳体部件2的内侧的陶瓷部件(隔离壁部)3对壳体部件2的空间进行上下分割。
而且，壳体部件2的内部空间中的陶瓷部件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4，并且，下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。
另外，在液体容纳部4的外周端部安装有堵塞壳体部件2与陶瓷部件3的间隙的环状的密封构件6，使得液体容纳部4内的液体17不会从壳体部件2与陶瓷部件3之间的间隙漏出到气体容纳部5内。
本实施方式所涉及的等离子体发生装置1G主要在以下方面与上述第一实施方式所涉及的等离子体发生装置1不同：在壳体部件2的顶壁部(液体容纳部4侧的壁部)2a设置有向液体容纳部4导入液体17的液体导入口7，并且设置有将导入到液体容纳部4内的液体17送出到外部的液体排出口8。
而且，在本实施方式所涉及的清洗净化装置20中，在容纳陶瓷部件3的壳体部件2的液体导入口7处连接有用于将完成处理的液体17从被清洗处理对象部30导入到液体容纳部4的配管(液体导入路径)21。另外，在液体排出口8处连接有用于将液体容纳部4内的液体向被清洗处理对象部30输送的配管(液体排出路径)22。
接着，说明上述的清洗净化装置20的动作。
首先，如图16所示，将以空气为基础而含氧的规定流量的气体从气体供给部11经由配管(气体导入路径)10送入到气体容纳部5内。然后，气体容纳部5成为正压状态，形成从该气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。
此时，从被清洗处理对象部30将完成处理的液体17从配管(液体导入路径)21经过液体导入口7导入到液体容纳部4。
接着，通过在将第二电极13接地的状态下在第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压，来在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电(在接触气体的第一电极12的表面与接触液体的第二电极13的表面之间的放电)，来在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水、气体中含有的氧生成臭氧、羟基自由基等(参照图4)。
然后，所生成的臭氧、各种自由基随着上述的气流被送出到液体容纳部4。此时，生长的气泡如上所述那样被液体17的流动切断，作为微小气泡16从开口端3c释放到液体中。
被释放到液体中的微小气泡16扩散到液体的各个角落。此时，扩散的微小气泡16的一部分与气泡16中含有的臭氧、羟基自由基等一起容易地溶解到液体17中，臭氧浓度上升。另外，一部分气泡16以含有臭氧、羟基自由基等的状态容易地吸附在液体17中含有的有机物等上。并且，气泡16的一部分吸附微小的有机物。
这样，液体17中的有机物等被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。然后，分解了有机物等而净化后的液体17从液体排出口8经过配管(液体排出路径)22返回到被清洗处理对象部30，被再次使用。
此外，在上述内容中，作为清洗净化装置20，例示了在壳体部件2内清洗净化液体17的使用方式(使用方式A)，此外，例如也能够如上述第二实施方式所示的那样，是将微小气泡扩散的液体17作为清洗液供给到规定的装置的使用方式(使用方式B)。
在这种情况下，清洗净化装置20如下那样进行动作。
首先，含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到被导入到壳体部件2内的液体17中，并且，微小气泡16中含有的臭氧、自由基被溶解。此时，气泡16的一部分吸附微小的有机物。
接着，将该液体17作为清洗液供给到被清洗处理对象部30。在被清洗处理对象部30中，有机物等会被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。
此外，在以使用方式A使用清洗净化装置的情况下，能够将该清洗净化装置应用于例如浴盆中蓄积的水、雨水、污水、下水等各种液体的净化。另外，在以使用方式B来使用的情况下，能够作为清洗液使用于在例如洗衣机、洗碗机等各种家电产品、口腔清洗机等健康家电产品、厕所等卫生设备等中使用的水。另外，除了家电产品等以外，能够广泛地应用于例如食品的清洗、工业产品的制造工艺中的清洗等行业。
如以上所说明的那样，在本实施方式中，使清洗净化装置20具备上述的等离子体发生装置1G。因此，能够得到能够进一步提高安全性的清洗净化装置20。
此外，对于等离子体发生装置1A～1F，也能够应用本实施方式。
(第四实施方式)
在本实施方式中，参照图17来说明使用了等离子体发生装置1G的小型电器设备的一例。下面，例示了对作为脱毛装置的电动剃须刀的头部进行清洗的清洗净化装置。
作为图17所示的小型电器设备的清洗净化装置40H用于对作为脱毛装置的一种的电动剃须刀50的头部51进行清洗。即，清洗净化装置40H是以上述的使用方式B使用的清洗净化装置。在这种情况下，电动剃须刀50的头部51相当于被清洗处理对象部30。
清洗净化装置40H为与上述第二实施方式的清洗净化装置40大致同样的结构，具备：机壳41，其具有用于插入头部51朝下的电动剃须刀50的开口41a；以及托盘42，其容纳通过开口41a插入的头部51(参照图17)。
另外，清洗净化装置40H具备：罐43，其存储液体；溢出部44，其与托盘42连通；以及泵45，其将罐43内的液体循环供给到液体导入口7。还具备：滤筒46，其具有对液体进行过滤的过滤器46a；开闭阀47，其用于对罐43内的气密状态进行控制；以及循环路径，其用于使液体循环。
该循环路径包括：配管(液体导入路径)21，其将罐43中存储的液体引导到液体导入口7；配管(液体排出路径)22，其将从液体排出口8排出的液体引导到托盘42；路径23(排出路径)，其将从托盘42排出的液体引导到滤筒46；路径24，其将从溢出部44排出的液体引导到滤筒46；路径25，其将从滤筒46排出的液体引导到泵45；以及路径26，其将从泵45送出的液体引导到罐43。
托盘42被设为沿着头部51的形状的凹形状，在底壁部的背面侧设置有等离子体发生装置1G。此外，也可以在清洗净化装置40H中设置对等离子体发生装置1G的位置进行调整的位置调整部。例如，能够在底壁部的背面侧设置臂部，并且通过该臂部将等离子体发生装置1G安装为可摆动，使得能够通过位置调整部将等离子体发生装置1G调整为水平配置。这样，能够使等离子体发生装置1G始终水平配置，能够更稳定地生成等离子体。
该等离子体发生装置1G具有与配管(液体导入路径)21连接的液体导入口7以及与配管(液体排出路径)22连接的液体排出口8。而且，在托盘42的底壁部设置有与配管(液体排出路径)22连接的供给口41j，并且设置有与路径23连接的排出口41k。
而且，在托盘42的前方设置有溢出部44，在本实施方式中，托盘42与溢出部44形成为一体。溢出部44的入口与托盘42连接，出口与路径24连接。路径24从溢出部44的出口经由设置在托盘42后部的中继口42a而到达滤筒46。
罐43在前表面具有喷出口43a和流入口43b、以及用于开放气密状态的通气口43c，通过通气口43c的开闭来控制液体从喷出口43a的喷出。罐43装卸自如地设置在机壳41后表面侧，在安装于机壳41的状态下，喷出口43a与连接口41g相连接，通过配管(液体导入路径)21与等离子体发生装置1的液体导入口7连接，流入口43b与连接口41h相连接，通过路径26与泵45的送出口45a连接，通气口43c与连接口41i相连接，通过气密路径27与开闭阀47连接。
通过设为所述结构，使含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到从罐43导入到等离子体发生装置1G的液体中而生成的清洗液会从供给口41j供给到托盘42内。即，所生成的清洗液会被供给到作为被清洗处理对象部30的头部51。然后，利用溶解在液体(清洗液)中的臭氧或者自由基、气泡16中含有的臭氧或者自由基等，能够使附着在头部51上的有机物等有效地分解。
如以上所说明的那样，在本实施方式中，使清洗净化装置(小型电器设备)40H具备上述的等离子体发生装置1G。因而，能够得到能够进一步提高安全性的小型电器设备。
此外，如果在清洗净化装置(小型电器设备)40H中设置对等离子体发生装置1G的位置进行调整的位置调整部，则能够使等离子体更稳定。
另外，也能够设为使用了将壳体部件2的形状设为等离子体发生装置1G的形状并且具有等离子体发生装置1A～1F的结构的等离子体发生装置的清洗净化装置(小型电器设备)。
以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式，可以进行各种各样的变形。
例如，在上述各实施方式中，作为形成有气体通路的隔离壁部，例示了陶瓷部件，但隔离壁部的材料并不限于陶瓷部件。例如，也能够使用以下部件：使用将气体和液体隔离的如玻璃板等的适当部件并通过对该部件实施光刻和蚀刻而形成有细孔径约为1μm～10μm左右的微小孔。此时，也可以设置多个气体通路。
另外，清洗净化装置、小型电器设备也不限于上述实施方式所示的装置和设备，例如，也能够将本发明应用于电动牙刷的清洗净化装置、净水装置、将含有洗涤剂等的水在排水前进行净化的装置等。
另外，液体容纳部、气体容纳部、其他细节的规格(形状、大小、布局等)也能够适当地改变。
产业上的可利用性
根据本发明，能够得到能够进一步提高安全性的等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备。

Claims (9)

1.一种等离子体发生装置，其特征在于，具备：
液体容纳部，其容纳含水的液体；
气体容纳部，其容纳气体；
隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，形成有用于将上述气体容纳部中的气体引导到上述液体容纳部的气体通路；
第一电极，其被配置于上述气体容纳部；
第二电极，其被配置成与上述第一电极隔开距离，且至少与上述第一电极成对的一侧的部分与上述液体容纳部中的液体相接触；
气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的气体的方式，来向上述气体容纳部供给含氧的气体；以及
等离子体电源部，其在将上述第二电极接地的状态下在上述第一电极与上述第二电极之间施加规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此使导入到上述气体容纳部的气体等离子体化。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置，其特征在于，
在上述隔离壁部形成有多个上述气体通路。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述第一电极被配置成与上述多个气体通路的距离大致相等。
4.根据权利要求1～3中的任一项所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述第一电极是一个构造体。
5.根据权利要求4所述的等离子体发生装置，其特征在于，
作为上述一个构造体的第一电极被配置成与上述隔离壁部的气体容纳部侧紧密结合。
6.根据权利要求1～4中的任一项所述的等离子体发生装置，其特征在于，
上述第一电极被配置成在上述气体通路的中心轴上与该气体通路相对。
7.一种清洗净化装置，其特征在于，具备根据权利要求1～6中的任一项所述的等离子体发生装置。
8.一种小型电器设备，其特征在于，具备根据权利要求1～6中的任一项所述的等离子体发生装置。
9.一种小型电器设备，其特征在于，具备根据权利要求7所述的清洗净化装置。
CN2012800064553A 2011-02-08 2012-01-18 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备 Pending CN103329632A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011024931A JP2012164557A (ja) 2011-02-08 2011-02-08 プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
JP2011-024931 2011-02-08
PCT/JP2012/050890 WO2012108235A1 (ja) 2011-02-08 2012-01-18 プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN103329632A true CN103329632A (zh) 2013-09-25

Family

ID=46638454

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2012800064553A Pending CN103329632A (zh) 2011-02-08 2012-01-18 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20130299090A1 (zh)
EP (1) EP2675250A1 (zh)
JP (1) JP2012164557A (zh)
CN (1) CN103329632A (zh)
RU (1) RU2013135488A (zh)
WO (1) WO2012108235A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111318151A (zh) * 2018-12-17 2020-06-23 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 应用于半导体腔室的净化系统
CN113321265A (zh) * 2020-07-24 2021-08-31 西安交通大学 一种等离子体活化水制备装置及方法
CN115164314A (zh) * 2022-07-11 2022-10-11 中电科奥义健康科技有限公司 一种抑制臭氧产生的水合自由基发生装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2711342A4 (en) 2011-05-17 2014-04-09 Panasonic Corp PLASMA GENERATION DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
JP2013022475A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Panasonic Corp 洗浄装置
JP5796174B2 (ja) 2012-07-24 2015-10-21 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 液体処理装置及び液体処理方法
CN115092988B (zh) * 2022-07-26 2024-10-18 珠海格力电器股份有限公司 反应器及活化水制备装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004268003A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 Masayuki Sato 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置
JP2005296909A (ja) * 2004-03-16 2005-10-27 Toshiba Corp 水処理システム
JP2008055262A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Toshiba Corp 放電型水浄化処理装置
JP2008178870A (ja) * 2006-12-28 2008-08-07 Sharp Corp プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
CN101373196A (zh) * 2008-10-10 2009-02-25 东南大学 一种测量MgO外逸电子发射电流的方法及其装置
EP2046101A1 (en) * 2007-07-19 2009-04-08 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO A surface dielectric barrier discharge plasma unit and a method of generating a surface plasma
JP2009234900A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Univ Of Miyazaki 水中オゾナイザ
JP2010142701A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Panasonic Corp 洗浄装置および洗浄方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4101979B2 (ja) 1999-06-24 2008-06-18 株式会社神戸製鋼所 水中放電法及び装置
CN101242755B (zh) * 2005-08-17 2010-12-08 皇家飞利浦电子股份有限公司 清洁电动剪发设备的装置和方法及包括这种装置的成套用具
US9131595B2 (en) * 2006-12-28 2015-09-08 Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno Surface dielectric barrier discharge plasma unit and a method of generating a surface plasma
JP5204061B2 (ja) * 2009-09-11 2013-06-05 国立大学法人東京工業大学 気液２相流プラズマ処理装置
JP5870279B2 (ja) * 2010-07-21 2016-02-24 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および電器機器
JP5793661B2 (ja) * 2011-02-08 2015-10-14 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および電器機器
JP2012204249A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Panasonic Corp プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置
JP2012204248A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Panasonic Corp プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置
JP2013022476A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Panasonic Corp プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置
JP2013022475A (ja) * 2011-07-15 2013-02-04 Panasonic Corp 洗浄装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004268003A (ja) * 2003-03-06 2004-09-30 Masayuki Sato 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置
JP2005296909A (ja) * 2004-03-16 2005-10-27 Toshiba Corp 水処理システム
JP2008055262A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Toshiba Corp 放電型水浄化処理装置
JP2008178870A (ja) * 2006-12-28 2008-08-07 Sharp Corp プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
EP2046101A1 (en) * 2007-07-19 2009-04-08 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO A surface dielectric barrier discharge plasma unit and a method of generating a surface plasma
JP2009234900A (ja) * 2008-03-28 2009-10-15 Univ Of Miyazaki 水中オゾナイザ
CN101373196A (zh) * 2008-10-10 2009-02-25 东南大学 一种测量MgO外逸电子发射电流的方法及其装置
JP2010142701A (ja) * 2008-12-17 2010-07-01 Panasonic Corp 洗浄装置および洗浄方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111318151A (zh) * 2018-12-17 2020-06-23 夏泰鑫半导体(青岛)有限公司 应用于半导体腔室的净化系统
CN113321265A (zh) * 2020-07-24 2021-08-31 西安交通大学 一种等离子体活化水制备装置及方法
CN115164314A (zh) * 2022-07-11 2022-10-11 中电科奥义健康科技有限公司 一种抑制臭氧产生的水合自由基发生装置
CN115164314B (zh) * 2022-07-11 2023-12-08 中电科奥义健康科技有限公司 一种抑制臭氧产生的水合自由基发生装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20130299090A1 (en) 2013-11-14
EP2675250A1 (en) 2013-12-18
WO2012108235A1 (ja) 2012-08-16
JP2012164557A (ja) 2012-08-30
RU2013135488A (ru) 2015-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102960073B (zh) 等离子体发生装置和自由基生成方法、使用了该装置和方法的清洗净化装置以及小型电器设备
CN103340020A (zh) 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备
CN103329632A (zh) 等离子体发生装置、使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置以及小型电器设备
CN103648986A (zh) 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
JP5067802B2 (ja) プラズマ発生装置、ラジカル生成方法および洗浄浄化装置
CN103392383A (zh) 等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
JP3704074B2 (ja) オゾン及びマイナスイオン発生器
WO2012132611A1 (ja) プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置
CN107207292B (zh) 水处理装置及水处理方法
CN103648667A (zh) 清洗装置
US7713403B2 (en) Water treatment method and apparatus
JP2007289898A (ja) 浄化装置
JP2012164556A (ja) プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
JP2012164558A (ja) プラズマ発生装置、当該プラズマ発生装置を用いた洗浄浄化装置および小型電器機器
KR20180052800A (ko) 비가열 살균을 위한 수처리용 플라즈마 활성종 발생장치 및 사용방법
WO2013011727A1 (ja) プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置
KR100381272B1 (ko) 다중채널을 갖는 오존발생장치
KR101853759B1 (ko) 이중 살균 기능을 갖는 식기세척기의 급수시스템
JP2005305293A (ja) 浄化装置
JP2005087393A (ja) 空気清浄機および空気清浄方法
JP2007136444A (ja) 液体製造装置、処理装置および表面加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20130925