JP2012204248A - プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止し、気体通路の目詰まり及び気体収容部側に設けた電極への液体の付着により発生する不安定放電現象を防止することのできるプラズマ発生装置を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体6を収容する液体収容部3と、気体を収容する気体収容部4と、気体収容部中の気体を液体収容部へ導く気体通路5aが形成され、液体収容部と気体収容部とを隔てる隔壁部3を有している。また、気体収容部に配設された第1電極10と、液体収容部中の液体と接触するように配設した第2電極11とを備えている。更に、気体を気体収容部に供給する気体供給部9と、プラズマ電源部13と、気体通路を介して液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止する液体流入防止手段(制御部14)とを有している。
【選択図】図1
【解決手段】プラズマ発生装置1は、水を含む液体6を収容する液体収容部3と、気体を収容する気体収容部4と、気体収容部中の気体を液体収容部へ導く気体通路5aが形成され、液体収容部と気体収容部とを隔てる隔壁部3を有している。また、気体収容部に配設された第1電極10と、液体収容部中の液体と接触するように配設した第2電極11とを備えている。更に、気体を気体収容部に供給する気体供給部9と、プラズマ電源部13と、気体通路を介して液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止する液体流入防止手段(制御部14)とを有している。
【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置に関する。
従来より、気泡を含む液中で放電を行うことにより、気泡にラジカル等を発生させ、液体を改質するようにした水中放電装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
この種の水中放電装置では、放電容器内の液体に気体を導入する必要があるため、容器に開けた気体通路から液体が漏れ出てしまう場合がある。その場合、放電発生終了後に液体が排出し切れないままで放置されると、水分が蒸発してカルシウム等の不純物が析出し、気体通路が目詰まりを起こし、安定した放電が得られなくなる可能性がある。
そこで、本発明は、液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止し、気体通路の目詰まり及び気体収容部側に設けた電極への液体の付着により発生する不安定放電現象を防止することを目的とする。
本発明のプラズマ発生装置は、水を含む液体を収容する液体収容部と、気体を収容する気体収容部と、前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ導く気体通路を有し、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、前記気体収容部に配設された第1電極と、前記液体収容部の液体と接触するように配設された第2電極と、前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記液体収容部の液体内に圧送された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、前記気体通路を介して前記液体収容部から前記気体収容部に前記液体が流入するのを防止する液体流入防止手段と、を備えたことを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、前記気体通路の圧力が前記液体収容部の圧力より高圧となるように、前記気体供給部から前記気体収容部内へ供給する気体の圧力を制御する制御部を備えたことを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、更に、前記液体収容部に前記液体があるか否かを検知する液体検知手段を備えたことを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記制御部は、前記液体収容部に前記液体がある場合のみ、前記気体供給部を動作するよう制御することを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、更に、前記液体収容部に開閉自在に取り付けた蓋の開閉状態を検知する蓋開閉検知手段を備え、前記制御部は、前記蓋開閉検知手段からの蓋開状態検知信号を得て前記気体供給部を動作するよう制御することを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路が、防水性気体透過多孔質体であることを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路が、疎水性体であることを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路の内面に形成された疎水性コーティング層であることを特徴とする。
また、本発明のプラズマ発生装置にあっては、前記液体流入防止手段は、前記気体通路に設けられて前記液体収容部から前記気体収容部に前記液体が流入するのを防止する逆止弁であることを特徴とする。
また、本発明の洗浄浄化装置にあっては、前記プラズマ発生装置を備えることを特徴とする。
本発明のプラズマ発生装置は、気体通路を介して液体収容部から気体収容部に液体が流入するのを防止する液体流入防止手段を有している。そのため、液体収容部から気体収容部に液体が流れようとすると、液体流入防止手段によって、その流入が阻止される。このため、放電発生終了後に気体通路に液体が残ることがなく、水分が蒸発してカルシウム等の不純物が析出することで気体通路が目詰まりするのが抑制される。また、気体通路から気体収容部に液体が流入しないので、気体収容部側に設けた電極に液体が付着し難くなる。よって、本発明のプラズマ発生装置では、安定した放電が得られるようになる。
そして、洗浄浄化装置に、上述のプラズマ発生装置を備えさせることで、安定したプラズマ放電が得られ、ラジカルを安定して得ることが可能となり、洗浄効果の高い洗浄浄化装置を得ることができる。
以下、本発明を適用した具体的な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
[第1実施形態]
第1実施形態のプラズマ発生装置1は、図1に示すように、ケース部材2を備えている。ケース部材2の形状は、例えば円筒形状または角筒形状等とされるが、その形状には限定されない。ケース部材2の内側には、液体収容部3と気体収容部4を隔てる隔壁部5が設けられている。このケース部材2は、隔壁部5によって内部空間が上下に仕切られ、図1中上方空間を液体収容部3とし、下方空間を気体収容部4としている。液体収容部3には、水を含む液体6が収容される。気体収容部4には、酸素を含む気体が収容される。なお、ケース部材2と隔壁部5との間には、リング状のシール材Sが装着されている。シール部材Sは、液体収容部3内の液体6がケース部材2と隔壁部5との隙間から気体収容部4内に漏れ出ないようにしている。
第1実施形態のプラズマ発生装置1は、図1に示すように、ケース部材2を備えている。ケース部材2の形状は、例えば円筒形状または角筒形状等とされるが、その形状には限定されない。ケース部材2の内側には、液体収容部3と気体収容部4を隔てる隔壁部5が設けられている。このケース部材2は、隔壁部5によって内部空間が上下に仕切られ、図1中上方空間を液体収容部3とし、下方空間を気体収容部4としている。液体収容部3には、水を含む液体6が収容される。気体収容部4には、酸素を含む気体が収容される。なお、ケース部材2と隔壁部5との間には、リング状のシール材Sが装着されている。シール部材Sは、液体収容部3内の液体6がケース部材2と隔壁部5との隙間から気体収容部4内に漏れ出ないようにしている。
隔壁部5は、例えばセラミックス部材等で形成されており、気体収容部4の気体を液体収容部3へ導く気体通路5aを有している。この気体通路5aは、気体収容部4から液体収容部3へ気体を送り込むことができる大きさとされている。このため、気体通路5aは、出来るだけ大きい方が良い。しかし、気体通路5aの孔が大き過ぎると、液体収容部3に収容された液体6が気体収容部4へと流れ込んでしまう。これを解決するために、本実施形態のプラズマ発生装置1は、後述する液体流入防止手段を備えている。
ケース部材2の側壁2aには、気体収容部4と外部との間を連通する気体導入口7が設けられている。この気体導入口7には、配管(気体導入路)8が挿通されている。そして、気体収容部4は、配管8を介してケース部材2の外部に設けられた気体供給部9と接続されている。本実施形態では、少なくとも酸素(O2)を含む気体が、気体供給部9から気体収容部4内に供給される。気体供給部9から供給された気体は、気体通路5aから液体収容部3の液体内へ圧送される。
気体収容部4には、第1電極10が配設されている。この一方、液体収容部3には、液体6と接触するように第2電極11が配設されている。これら第1電極10と第2電極1は、互いに隔壁部5を間に挟んで気体収容部4と液体収容部3にそれぞれ配置された構造となっている。また、これら第1電極10及び第2電極11は、何れも隔壁部5に接触して配置されている。
第1電極10及び第2電極11は、それぞれリード線12を介してプラズマ電源部13に電気的に接続されている。プラズマ電源部13は、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧を印加するようになっている。この電圧印加により、第1電極10と第2電極11との間には、放電が発生する。そして、この放電によって気体通路5aより液体収容部3の液体内に圧送された気体がプラズマ化される。
液体流入防止手段は、第1実施形態では、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように、気体供給部9から気体収容部4内へ供給する気体の圧力を制御する制御部14で構成している。液体収容部3の液体6が気体収容部4に流入するのを防止するために、これまでは気体通路5aの孔の大きさで制御してきたが、液体6の流入を抑えるためにどうしても小さな孔とするしかなかった。気体通路5aの孔が小さいと、プラズマ放電終了後の排水処理で排水し切れないままで放置されて水分蒸発によりカルシウム等が析出して目詰まりを起こす。しかし、制御部14で気体供給部9から気体収容部4内へ供給する気体の圧力を、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧にすることで、気体収容部4への液体6の流出を防止できる。これにより、気体通路5aの孔を従来よりも大きくすることができ、また孔を大きくすることで目詰まりを抑制することが可能となる。
次に、上述したプラズマ発生装置1の動作ならびにヒドロキシラジカルの生成方法について説明する。
先ず、気体収容部4の気体を気体通路5aを介して液体収容部3へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を気体収容部4に供給する(気体を供給する工程)。
本実施形態では、空気をベースとして酸素を含有した気体(流量約0.01L/min〜1.0L/min(10cc/min〜1000cc/min))が、気体供給部9から配管8を介して気体収容部4に送り込まれる。このとき、気体を送り込む圧力は、前記した条件の下に制御部14で制御されて約0.0098MPa〜0.735MPa(0.1kgf/cm2〜7.5kgf/cm2)程度とされる。
このように、気体供給部9は、大気中の気体(空気)を供給する機能を備えている。なお、気体の供給流量は、気体供給部9に設けた図示せぬ流量制御部によって制御されている。また、気体供給部9に、大気中の気体だけでなく他の種類の気体(例えば、酸素濃度が異なる気体)を供給できる機能を持たせるようにしてもよい。更には、この気体供給部9に、様々な種類の気体の中から1種類もしくは複数種類の気体を選択的に供給できるように気種制御部を設けてもよい。
そして、気体が気体収容部4に供給されることで、気体収容部4の圧力は、大気圧にこの圧力が加わって約0.11MPa〜0.835MPa(1.1kgf/cm2〜8.5kgf/cm2)程度となり、陽圧状態になる。このように、気体収容部4を陽圧とすることで、気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れが形成される。
そして、上述したように酸素を含有した気体を供給することで、図2に示すように、気体通路5aの液体収容部3側の開口端15において酸素を含む微細な気泡16が成長する(気泡を成長させる工程)。
次に、プラズマ電源部13によって、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧が印加される。なお、印加する電圧としては、大気圧の下においてグロー放電を可能にする電圧(パワー:約10W〜100W程度)が好ましい。このとき、プラズマ電源部13に電圧制御部を設け、第1電極10と第2電極11との間に印加する電圧を制御するようにするのが好ましい。
そして、第1電極10と第2電極11に所定の電圧が印加されることで、第1電極10と第2電極11との間には、大気圧以上の圧力の気体雰囲気の下で放電が生じる。なお、大気圧のもとでプラズマを生成する技術については、たとえば文献A(岡崎幸子、「大気圧グロー放電プラズマとその応用」、レビュー講演:20th JSPF Annual Meeting)に報告されている。
そして、この放電によって、液体収容部3の液体6中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体6に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される(ヒドロキシラジカルを生成する工程)。
本実施形態では、気泡16内の気体(液体収容部3の液体6中の気液境界面近傍の気体)に電位差を生じさせてプラズマを生成している。このように、ヒドロキシラジカルが生成され易い気液境界面の近傍に電位差を生じさせることで、より多くのオゾンやヒドロキシラジカル等を生成できるようになる。なお、本実施形態では、気体通路5aの液体6に臨む開口端15近傍の気泡16だけでなく、液体収容部3へ送り出された気泡16内でもオゾンやヒドロキシラジカル等を生成することができる。
こうして生成されたオゾンやヒドロキシラジカル等は、上述した気体の流れに伴って、液体収容部3へ送り出されることになる。
本実施形態では、液体収容部3内の液体6の流れにより、ヒドロキシラジカル等を含んだ気泡16を隔壁部5からせん断して液体6中に放出させている(気泡放出工程)。
具体的には、気泡16が成長する液体収容部3では、液体6が導入されることによって液体6の流れ(図2及び図3の矢印17参照)が生じている。図3に示すように、矢印17方向に流れる液体6が、成長する気泡16に当たると、液体6の流れが気泡16にせん断力として作用し、気泡16は開口端15から液体6中へ解き放たれる。
液体6中に解き放たれた気泡16は、微細な気泡であるため、大気中に直ぐに放出されることなく液体6の隅々にまで拡散する。そして、拡散した微細な気泡16の一部は、液体6中に溶解する。このとき、気泡16に含まれているオゾン等が液体6中に溶解することで、液体6のオゾン濃度は一気に上昇することになる。
また、文献B(高橋正好、「マイクロバブルとナノバブルによる水環境の改善」、アクアネット、2004.6)によれば、通常、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16はマイナスに帯電していることが多いことが報告されている。そのため、気泡16の一部は、液体6中に含まれる有機物、油脂物、染料、たんぱく質、細菌等に吸着する。液体6中の有機物等は、液体6に溶解したオゾン或いは各種のラジカルや有機物等に吸着した気泡16に含まれるオゾンあるいは各種のラジカル等によって分解される。
例えば、ヒドロキシラジカル等は、約120kcal/mol程度の比較的大きなエネルギーを有している。このエネルギーは、窒素原子と窒素原子との二重結合(N=N)、炭素原子と炭素原子との二重結合(C=C)或いは炭素原子と窒素原子との二重結合(C=N)等の結合エネルギー(〜100kcal/mol)を上回る。そのため、窒素や炭素等の結合からなる有機物等は、このヒドロキシラジカル等によって容易にその結合が切断されて分解されることになる。このような有機物等の分解に寄与するオゾンやヒドロキシラジカル等は、塩素等のような残留性がなく時間とともに消滅するため、環境に配慮した物質でもある。
以上説明したように、第1実施形態のプラズマ発生装置1では、第1電極10を気体収容部4に配設し、第2電極11を液体収容部3中の液体6と接触するように配設している。そして、これら第1電極10と第2電極11間に放電を発生させている。これにより、液体収容部3の液体6内における気体の領域において、プラズマを生成し、液体6に含まれる水及び気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成するようにしている。
このような構成によれば、液体6の電気抵抗による影響をそれほど受けることなく第1電極10と第2電極11との間に放電を生じさせることができる。その結果、気体をより確実にプラズマ化することができ、より安定してオゾンやラジカル等を大量に生成することができるようになる。このプラズマ発生装置1を洗浄浄化装置として使用した場合の液体6には、水に不純物等が含まれるため、液体6の電気抵抗値が大きく変動する。しかし、第1実施形態のプラズマ発生装置1では、前記した理由により液体6の電気抵抗値による影響をそれほど受けないため、放電のばらつきが抑えられ、安定してプラズマを発生させることができる。これにより、ラジカル等を安定的に得ることが可能となる。
また、第1実施形態によれば、液体流入防止手段である制御部14が、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように、気体供給部9から気体収容部4へ供給する圧力を制御している。このように、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力よりも高圧であると、液体収容部3内の液体6がこの気体通路5aを介して気体収容部4へ流入しない。その結果、気体収容部4に液体6が流入しないことにより、第1電極10に液体6が付着せず、安定した放電が得られる。
また、第1実施形態によれば、気体収容部4に液体6が流入しないため、液体排出後の乾燥によりカルシウム等が析出して気体通路5aが目詰まりし難くなることから、気体通路5aを大きくすることができ、気体の導入量を確保することができる。また、本実施形態では、制御部14で気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力より高圧するだけの制御なので、新規に追加する専用部品も必要とせず装置構成を簡略化することができる。
また、第1実施形態によれば、気体収容部4に酸素を含む気体を導入することで、気体収容部4を陽圧にし、気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れを形成している。そして、この気体の流れに乗って気体通路5aの液体6に臨む開口端15において成長する気泡16内にオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。これに加えて、気体通路5aの圧力を、液体収容部3の圧力よりも高くしている。
すなわち、第1実施形態では、気泡16内の気体(液体収容部3の液体6中の気液境界面近傍の気体)中でオゾンやヒドロキシラジカル等が生成されるようにしている。そして、オゾンやヒドロキシラジカル等を含んだ気体が微細な気泡16として液体6中に拡散されるようにしている。これにより、オゾンや各種のラジカルを発生させた後、これらが消滅する前に極めて短時間で効率的にそのオゾンや各種のラジカルを液体6中に送り込むことができるようになる。
そして、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡16が液体6中に拡散することによって、液体6のオゾン濃度が高められ、液体6中に含まれる有機物等に気泡16が吸着する。これにより、液体6中に溶解したオゾンや吸着した気泡16に含まれる各種のラジカルによって、有機物や細菌等を効率的に分解することができる。
また、第1実施形態のプラズマ発生装置1において、プラズマ電源部13が第1電極10と第2電極11間に印加する電圧を制御する電圧制御部を備えていれば、安定して放電を発生させることができる。つまり、液体6の電気抵抗が変動してもそれに応じて電圧を変化させることで、安定した放電が得られるようになる。
また、第1実施形態のプラズマ発生装置1において、気体供給部9が、気体の種類を制御する気種制御部を有していれば、オゾンやヒドロキシラジカル等の生成量等の調整を行うことが可能となる。
また、第1実施形態のプラズマ発生装置1において、気体供給部9が大気中の空気を供給する機能を有していれば、より簡便に気体を供給することができる。
また、第1実施形態のプラズマ発生装置1において、流量制御部により気体の供給流量を制御するようにすれば、より安定的にプラズマを生成することができる。
[第2実施形態]
第2実施形態のプラズマ発生装置1は、液体収容部3に液体6があるか否かを検知する液体検知手段を備えている。第2実施形態のプラズマ発生装置1は、液体検知手段以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第2実施形態のプラズマ発生装置1は、液体収容部3に液体6があるか否かを検知する液体検知手段を備えている。第2実施形態のプラズマ発生装置1は、液体検知手段以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図4は、第2実施形態のプラズマ発生装置1を示す。図4の液体検知手段は、液体収容部3の底部に設けた液体検知センサー18である。この液体検知センサー18は、液体収容部3に臨む隔壁部5の一面に設けられ、この液体収容部3内の液体6の有無を検知する。液体検知センサー18で液体収容部3内に液体6があると検知されると、制御部14は、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように気体供給部9を動作させる。液体検知センサー18で液体収容部3内に液体6が無いと検知されると、制御部14は、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように気体供給部9を動作させない。
図5は、第2実施形態のプラズマ発生装置1の他の例を示す。図5の液体検知手段は、液体6の有無をセンサーで検知するのではなく、浮きを利用した機械的な液体検知スイッチ19である。この液体検知スイッチ19は、図6に示すように、筐体20内に配置された浮き21と、この浮き21が液体6に押し上げられて接触状態を検知する検知部22と、を備えたメカニカルスイッチである。筐体20は、その内部に液体6が侵入するスリットや孔等を有している。
液体収容部3内に液体6が無い場合は、図6(A)に示すように、筐体20内に液体6が侵入しないため、浮き21は上昇しない。そのため、検知部22は、浮き21と非接触となる。この一方、液体収容部3内に液体6がある場合は、図6(B)に示すように、筐体20内に液体6が侵入し、浮き21が検知部22に接触する。検知部22が液体6を検知すると、制御部14は、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように気体供給部9を動作させる。
図4及び図5の何れの場合も液体収容部3内に液体6がある場合、液体検知センサー18及び液体検知スイッチ19がその存在を検知して、気体通路5aの圧力が液体収容部3の圧力より高圧となるように、制御部14が気体供給部9を作動させる。つまり、制御部14は、液体収容部3に液体6がある場合のみ、気体供給部9を動作させるように制御する。
第2実施形態のプラズマ発生装置1によれば、液体検知手段で液体収容部3内の液体6の有無を検知して、気体供給部9を動作するように制御すれば、電量消費アップ等高効率且つ安全に気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。
また、第2実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14が液体収容部3に液体6がある場合のみ気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力より高圧にするので、効率的且つ安全に気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。
図4〜図6では、何れも液体検知手段で液体6の有無を検知したが、目視により液体6の有無を検知してもよい。目視により、液体収容部3に液体6があると判断した場合は、制御部14にて気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力より高圧になるように気体供給部9を動作させるように制御する。
[第3実施形態]
第3実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の構成に加えて、液体流入防止手段が、液体収容部3に開閉自在に取り付けた蓋の開閉状態を検知する蓋開閉検知手段を備えている。そして、制御部14は、この蓋開閉検知手段からの蓋開状態検知信号を得て気体供給部9を動作するように制御するようになっている。第3実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第3実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の構成に加えて、液体流入防止手段が、液体収容部3に開閉自在に取り付けた蓋の開閉状態を検知する蓋開閉検知手段を備えている。そして、制御部14は、この蓋開閉検知手段からの蓋開状態検知信号を得て気体供給部9を動作するように制御するようになっている。第3実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図7は、第3実施形態のプラズマ発生装置1を示す。このプラズマ発生装置1の液体収容部3には、蓋23が開閉自在に取り付けられている。蓋23は、液体収容部3の開口側に設けられ、図7(A)の閉じた状態と図7(B)の開いた状態に開閉自在となる。蓋開閉検知手段は、液体収容部3の開口周縁部の上面に設けられたセンサー部24と、蓋23に設けられた接点25とを備えている。図7(A)に示すように蓋23が閉じた状態では、接点25がセンサー部24に接触する。図7(B)に示すように蓋23が開いた状態では、接点25がセンサー部24から離れて非接触となる。
この第3実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14は、蓋開閉検知手段からの蓋開状態検知信号を得ると、つまり接点25がセンサー部24から離れると、気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力より高圧になるように気体供給部9を動作させる。例えば、このプラズマ発生装置1を洗浄浄化装置に適用した場合、洗浄器に被洗浄体をセットする際の蓋23を開ける動作に伴い、蓋開状態検知信号を検知して気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧にする。このようにすれば、洗浄時に自動的に気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧にすることができる。被洗浄時には、蓋23が閉じて蓋開状態検知信号が得られないので、気体供給部9は動作しない。
また、第3実施形態のプラズマ発生装置1においては、液体収容部3を覆うようにして開閉自在に蓋23が設けられているので、誤って液体6を液体収容部3に混入するのを防止することができる。
[第4実施形態]
第4実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aが単なる孔であるが、この気体通路5aを、防水性気体透過多孔質体としている。第4実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第4実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aが単なる孔であるが、この気体通路5aを、防水性気体透過多孔質体としている。第4実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図8は、第4実施形態のプラズマ発生装置1を示す。このプラズマ発生装置1の防水性気体透過多孔質体26は、気体収容部4から液体収容部3へ気体を透過させるが、液体収容部3から気体収容部4へは液体6を流入させない多孔質材料で気体通路5aを形成している。この防水性気体透過多孔質体26には、例えば住友電工ファインポリマー株式会社製のポアフロン(登録商標)等が使用できる。
図8では、隔壁部5の一部を防水性気体透過多孔質体26で形成しているが、隔壁部5の全体を防水性気体透過多孔質体26で形成するようにしてもよい。
第4実施形態のプラズマ発生装置1においては、気体通路5aを防水性気体透過多孔質体26としているので、それ自体で液体収容部3から気体収容部4に液体6が流入するのを防止することができる。これにより、気体収容部4に設けられた第1電極10に液体6が付着するのを抑制することができ、安定したプラズマ放電を発生させることができる。
また、第4実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14で気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧に制御してもよいが、防水性気体透過多孔質体26を備えているので、制御部14で制御しなくても液体6の流入を防止できる。この場合、気体圧力に頼ることなく気体収容部4への液体6の流入を防止できることから、何らかの理由で気体の供給が遮断された場合でも、防水性気体透過多孔質体26にて気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。なお、気体圧力を調整しない場合は、防水性気体透過多孔質体26が流体流入防止手段となる。
[第5実施形態]
第5実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aを、疎水性体としている。第5実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第5実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aを、疎水性体としている。第5実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図9は、第5実施形態のプラズマ発生装置1を示す。このプラズマ発生装置1の疎水性体27は、気体収容部4から液体収容部3へ気体を透過させるが、液体収容部3から気体収容部4へは液体6を流入させない疎水性材料で気体通路5aを形成している。疎水性体27は、少なくとも気体通路5aを形成する部位であればよいが、隔壁部5の全体を構成していてもよい。第5実施形態では、隔壁部5の全体を疎水性体27で構成している。
疎水性体27は、例えばPTFE(ポリテトラフルオロエチレン (polytetrafluoroethylene))、フッ素系樹脂、或いはフッ素系水系コーティング材料(フロロテクノロジー社製のフロロサーフ)等からなる。この他、疎水性体27は、シリエーテル、アルキルシリル基を有する物質等からなる。また、疎水性体27には、飽和フルオロアルキル基(特にトリフルオロメチル基 CF3−)、アルキルシリル基、フルオロシリル基、長鎖アルキル基等が使用できる。
第5実施形態のプラズマ発生装置1においては、隔壁部5を疎水性体27で形成しているので、気体通路5aで液体6を弾き、それ自体で液体収容部3から気体収容部4に液体6が流入するのを防止することができる。これにより、気体収容部4に設けられた第1電極10に液体6が付着することを抑制することができ、安定したプラズマ放電を発生させることができる。
また、第5実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14で気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧とするように気体供給部9を制御してもよいが、疎水性体27を備えているので、その制御をしなくても液体6の流入を防止できる。この場合、気体圧力に頼ることなく気体収容部4への液体6の流入を防止できることから、何らかの理由で気体の供給が遮断された場合でも、疎水性体27にて気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。なお、気体圧力を調整しない場合は、疎水性体27が流体流入防止手段となる。
[第6実施形態]
第6実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aの内面を疎水性コーティング層としている。第6実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第6実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の気体通路5aの内面を疎水性コーティング層としている。第6実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図10は、第6実施形態のプラズマ発生装置1を示す。このプラズマ発生装置1の疎水性コーティング層28は、疎水性材料で気体通路5aの内面を形成している。疎水性コーティング層28は、実施形態5の疎水性体と同じ疎水性材料を気体通路5aの内面に塗布してコーティング膜としたものである。
第6実施形態のプラズマ発生装置1においては、気体通路5aの内面を疎水性コーティング層28で形成しているので、気体通路5aで液体6を弾き、それ自体で液体収容部3から気体収容部4に液体6が流入するのを防止することができる。これにより、気体収容部4に設けられた第1電極10に液体6が付着するのを抑制することができ、安定したプラズマ放電を発生させることができる。
また、第6実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14で気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧に制御してもよいが、疎水性コーティング層28を備えているので、その制御をしなくても液体6の流入を防止できる。この場合、気体圧力に頼ることなく気体収容部4への液体6の流入を防止できることから、何らかの理由で気体の供給が遮断された場合でも、疎水性コーティング層28にて気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。なお、気体圧力を調整しない場合は、疎水性コーティング層28が流体流入防止手段となる。
[第7実施形態]
第7実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の構成に加えて、気体通路5aに逆止弁29を設けている。第6実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
第7実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1の構成に加えて、気体通路5aに逆止弁29を設けている。第6実施形態のプラズマ発生装置1は、前記構成以外は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と同じである。そのため、ここでは、第1実施形態と同一構成部品には同一の符号を付し、その説明は省略するものとする。
図11は、第7実施形態のプラズマ発生装置1を示す。このプラズマ発生装置1の逆止弁29は、気体収容部4から液体収容部3へ気体を透過させるが、液体収容部3から気体収容部4へは液体6の流入を防止する。
第7実施形態のプラズマ発生装置1においては、気体通路5aに逆止弁29を設けているので、それ自体で液体収容部3から気体収容部4に液体6が流入するのを防止することができる。これにより、気体収容部4に設けられた第1電極10に液体6が付着することを抑制することができ、安定したプラズマ放電を発生させることができる。
また、第7実施形態のプラズマ発生装置1では、制御部14で気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧とするように気体供給部9を制御してもよいが、逆止弁29を備えているので、その制御をしなくても液体6の流入を防止できる。この場合、気体圧力に頼ることなく気体収容部4への液体6の流入を防止できることから、何らかの理由で気体の供給が遮断された場合でも、逆止弁29にて気体収容部4への液体6の流入を防止することができる。なお、気体圧力を調整しない場合は、逆止弁29が流体流入防止手段となる。
[第8実施形態]
第8実施形態では、本発明のプラズマ発生装置1を用いた小型電機機器の一例について、図12から図14を参照して説明する。小型電機機器は、電気かみそり(小形除毛装置)のヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置を例示する。
第8実施形態では、本発明のプラズマ発生装置1を用いた小型電機機器の一例について、図12から図14を参照して説明する。小型電機機器は、電気かみそり(小形除毛装置)のヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置を例示する。
洗浄浄化装置40は、除毛装置の一種である電気かみそり50のヘッド部(被洗浄処理対象部)51を洗浄するものである。
洗浄浄化装置40は、図12ないし図14に示すように、ヘッド部51を下向きにした電気かみそり50を挿入するための開口41aを有した筐体41と、開口41aを通じて筐体41内に挿入されたヘッド部51を受容する受け皿42とを備えている。
また、洗浄浄化装置40は、液体6を貯留するタンク43と、受け皿42に連通されたオーバーフロー部44と、タンク43内の液体6を液体導入口に循環供給するポンプ45と、を備えている。さらに、液体を濾過するフィルタ46aを有したカートリッジ46と、タンク43内の気密状態を制御するための開閉弁47と、液体6を循環するための循環経路と、を備えている。
循環経路は、タンク43に貯留された液体6を受け皿42に導入する配管(液体導入路)30と、受け皿42から排出される液体をカートリッジ46に導く経路31(排出路)を有している。また、循環経路は、オーバーフロー部44から排出される液体6をカートリッジ46に導く経路32と、カートリッジ46から排出された液体6をポンプ45に導く経路33とを有している。更に、循環経路は、ポンプ45から送出される液体6をタンク43に導く経路34と、で構成されている。また、タンク43には、気密経路35を介して開閉弁47が接続されている。以下、各構成部品について説明する。
筐体41は、後部に電気かみそり50の把持部52と当接するスタンド部41bを有し、開口41aから挿入される電気かみそり50を受け皿42に保持する。スタンド部41bの前面には、図12に示すように、洗浄浄化装置40に電気かみそり50が装着されたことを検知する接点部材41cが設けられている。接点部材41cは、把持部52の背面に設けられた端子52aとの接触により電気かみそり50の装着を検知する。このような検知機能に併せて、電気かみそり50に、各種制御信号や駆動電力を出力する機能を持たせている。
筐体41の前部上方には、洗浄後にヘッド部51を乾燥させるためのファン48を収容している。筐体41の前面には、ファン用通気窓41dや、洗浄動作を実行するための動作ボタン41e、動作状態を表示するランプ41f等が設けられている。筐体41の後面側は、タンク43を着装する着装部となっており、タンク43の各口43a、43b、43cと連結される連結口41g、41h、41iを有している。連結口41gは、配管30と繋がっており、連結口41hは経路34と繋がっており、連結口41iは気密経路35と繋がっている。
受け皿42は、ヘッド部51の形状に沿うような凹形状とされており、底壁部には貫通孔42bが形成されている。そして、プラズマ発生装置1は、この貫通孔42bを介して液体収容部3が受け皿42の内部空間と連通するようにして、該受け皿42の底壁部背面側に設けられている。
この例では、液体収容部3が受け皿42の内部空間と連通するようにプラズマ発生装置1を設け、受け皿42の内部空間もプラズマ発生装置1の液体収容部3として機能する。なお、受け皿42に例えば排水溝等を形成することで、液体収容部3の液体6をよりスムーズに経路31(排出路)から排出できるようにするのが好ましい。
また、受け皿42の底部壁背面側には、ヒータ49が設けられている(図14参照)。このヒータ49は、ファン48と連動してヘッド部51の乾燥を行う。
受け皿42の前方には、オーバーフロー部44が設けられている。受け皿42とオーバーフロー部44は、一体形成されている。オーバーフロー部44の入口は、受け皿42と繋がっており、その出口は経路32と繋がっている。経路32は、オーバーフロー部44の出口から受け皿42の後部に設けられた中継口42aを介してカートリッジ46に至る。
タンク43は、吐出口43aおよび流入口43bと、気密状態を開放するための通気口43cとを前面に有しており、通気口43cの開閉により吐出口43aからの液体吐出が制御されている。タンク43は、筐体41の後面側に着脱自在に取り付けられている。そして、タンク43は、筐体41への装着状態では、吐出口43aが連結口41gに連結され、タンク43に貯留された液体を配管(液体導入路)30から受け皿42に導入できるようになっている。また、流入口43bが、連結口41hに連結されて経路34によりポンプ45の送出口45aと繋がり、通気口43cが、連結口41iに連結されて気密経路35により開閉弁47と繋がることとなる。
カートリッジ46は、フィルタ46aを内部に収容した略箱状体であり、上部に流入口46bを有し、前部に流出口46cを有している。このカートリッジ46は、筐体41の下部後方に着脱自在に設けられており、筐体41への装着状体では、流入口46bが、経路31(排出路)により排出口41kと繋がっている。また、流入口46bは、経路32によりオーバーフロー部44の出口と繋がっている。そして、流出口46cは、経路33によりポンプ45の吸入口45bと繋がっている。
次に、洗浄浄化装置40の動作について説明する。先ず、タンク43から配管(液体導入路)30を介して受け皿42およびプラズマ発生装置1の液体収容部3内に液体6を導入する。
そして、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体が、気体供給部9から配管8を介して気体収容部4内に送り込まれる。第1実施形態のプラズマ発生装置1を使用した場合には、制御部14が気体供給部9を制御して、気体通路5aの圧力を液体収容部3の圧力よりも高圧にする。これらにより、気体収容部4が陽圧状態とされ、その気体収容部4から気体通路5aを経て液体収容部3へ向う気体の流れが形成される。
次に、第1電極10と第2電極11との間に所定の電圧を印加することで、第1電極10と第2電極11との間において放電が生じる。この放電によって、液体収容部3の液体6中の気体の領域においてプラズマが生成され、液体6に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等が生成される。
そして、生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れと共に液体収容部3及び受け皿42内に貯留された液体中に送り出されることとなる。このとき、成長する気泡は、微細化手段によって微細化された気泡16として開口端15から液体中へ解き放たれ、液体中に解き放たれた微細な気泡16は液体の隅々にまで拡散する。すなわち、生成された洗浄液は、ヘッド部51に供給されることとなる。そして、液体6に溶解したオゾン或いはラジカルや、気泡16に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって、ヘッド部51に付着した有機物等が分解される。
なお、第8実施形態の洗浄浄化装置40では、第1実施形態のプラズマ発生装置1を備えさせたが、第2実施形態〜第7実施形態の何れのプラズマ発生装置1を使用しても同様の効果を得ることができる。つまり、本発明のプラズマ発生装置1を使用した洗浄浄化装置40によれば、安定した放電状態を維持してラジカルを安定して得ることができ、高い洗浄効果が得られる。
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、上記各実施形態では、気体通路5aが形成された隔壁部5としてセラミックス部材を例示したが、隔壁部5の材料は、セラミックス部材に限られるものではない。例えば、気体と液体を隔壁するガラス板等のような部材を用い、この部材に写真製版とエッチングを施すことによって微細孔(気体通路5a)を形成したものを用いることも可能である。このとき、複数の気体通路5aを設けるようにしてもよい。
また、本発明の洗浄浄化装置40は、第8実施形態で示したものに限らず、例えば、電動歯ブラシの洗浄浄化装置や浄水装置、洗剤等が含まれた水を排水前に浄化する装置等にも適用できる。
また、液体収容部3や気体収容部4、その他細部のスペック(形状、大きさ、レイアウト等)も適宜に変更可能である。
1 プラズマ発生装置
3 液体収容部
4 気体収容部
5 隔壁部
5a 気体通路
6 液体
9 気体供給部
10 第1電極
11 第2電極
13 プラズマ電源部
14 制御部
18 液体検知センサー(液体検知手段)
19 液体検知スイッチ(液体検知手段)
23 蓋
24 センサー部(蓋開閉検知手段)
25 接点(蓋開閉検知手段)
26 防水性気体透過多孔質体(液体流入防止手段)
27 疎水性体(液体流入防止手段)
28 疎水性コーティング層(液体流入防止手段)
29 逆止弁(液体流入防止手段)
40…洗浄浄化装置
3 液体収容部
4 気体収容部
5 隔壁部
5a 気体通路
6 液体
9 気体供給部
10 第1電極
11 第2電極
13 プラズマ電源部
14 制御部
18 液体検知センサー(液体検知手段)
19 液体検知スイッチ(液体検知手段)
23 蓋
24 センサー部(蓋開閉検知手段)
25 接点(蓋開閉検知手段)
26 防水性気体透過多孔質体(液体流入防止手段)
27 疎水性体(液体流入防止手段)
28 疎水性コーティング層(液体流入防止手段)
29 逆止弁(液体流入防止手段)
40…洗浄浄化装置
Claims (10)
- 水を含む液体を収容する液体収容部と、
気体を収容する気体収容部と、
前記気体収容部の気体を前記液体収容部へ導く気体通路を有し、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てる隔壁部と、
前記気体収容部に配設された第1電極と、
前記液体収容部の液体と接触するように配設された第2電極と、
前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、
前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記液体収容部の液体内に圧送された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、
前記気体通路を介して前記液体収容部から前記気体収容部に前記液体が流入するのを防止する液体流入防止手段と、
を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、前記気体通路の圧力が前記液体収容部の圧力より高圧となるように、前記気体供給部から前記気体収容部内へ供給する気体の圧力を制御する制御部を備えた
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項2に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、更に、前記液体収容部に前記液体があるか否かを検知する液体検知手段を備えた
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項2または請求項3に記載のプラズマ発生装置であって、
前記制御部は、前記液体収容部に前記液体がある場合のみ、前記気体供給部を動作するよう制御する
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項2に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、更に、前記液体収容部に開閉自在に取り付けた蓋の開閉状態を検知する蓋開閉検知手段を備え、
前記制御部は、前記蓋開閉検知手段からの蓋開状態検知信号を得て前記気体供給部を動作するよう制御する
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から5の何れか1項に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路が、防水性気体透過多孔質体である
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から5の何れか1項に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路が、疎水性体である
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から5の何れか1項に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、少なくとも前記気体通路の内面に形成された疎水性コーティング層である
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1から5の何れか1項に記載のプラズマ発生装置であって、
前記液体流入防止手段は、前記気体通路に設けられて前記液体収容部から前記気体収容部に前記液体が流入するのを防止する逆止弁である
ことを特徴とするプラズマ発生装置。 - 請求項1〜9のうち何れか1項に記載のプラズマ発生装置を備えることを特徴とする洗浄浄化装置。
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