JP5870279B2 - プラズマ発生装置とラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および電器機器 - Google Patents
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Description
本実施形態にかかるプラズマ発生装置1は、略円筒状のケース部材2を備えている。なお、ケース部材の形状は円筒状のものに限らず、例えば、角筒状としてもよい。
本実施形態では、プラズマ発生装置1を用いた洗浄浄化装置の一例について説明する。
本実施形態では、プラズマ発生装置1を用いた小型電器機器の一例について、図6〜8を参照して説明する。以下では、除毛装置としての電気かみそりのヘッド部を洗浄する洗浄浄化装置を例示する。
本変形例にかかる小型電器機器としての洗浄浄化装置40Aも、上記第3実施形態と同様、除毛装置の一種である電気かみそり50のヘッド部51を洗浄するものであり、上述した使用態様Bとして使用する洗浄浄化装置である。
3 セラミックス部材(隔壁部)
3a 気体通路
4 液体収容部
5 気体収容部
10 配管(気体導入路)
11 気体供給部
12 第1電極
13 第2電極
15 プラズマ電源部
20…洗浄浄化装置
21 配管(液体導入路)
23 経路(液体排出路)
40,40A 洗浄浄化装置(小型電器機器)
42 受け皿(液体収容部)
Claims (17)
- 水を含む液体を収容する液体収容部と、
気体を収容する気体収容部と、
前記気体収容部中の気体を前記液体収容部へ導く気体通路が形成され、前記液体収容部と前記気体収容部とを、上側に液体収容部が、下側に気体収容部が配置されるように隔てる隔壁部と、
前記気体収容部に配設されるとともに、前記隔壁部の下面に、中心が前記気体通路となるように配設されたドーナツ状の第1電極と、
前記第1電極と距離を隔てられ、前記液体収容部に配設されるとともに、前記隔壁部の上面に、中心が前記気体通路となるように配設され、少なくとも前記第1電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設されたドーナツ状の第2電極と、
前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する気体供給部と、
前記第1電極と前記第2電極との間に所定の電圧を印加して前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させることにより、前記気体収容部に導入された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、
を備えることを特徴とするプラズマ発生装置。 - 前記プラズマ電源部は、前記第1電極と前記第2電極との間に印加する電圧を制御する電圧制御部を備えることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ発生装置。
- 前記気体供給部は、気体の種類を制御する気種制御部を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマ発生装置。
- 前記気体供給部は、大気中の気体を供給する機能を有することを特徴とする請求項1〜3のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 前記気体供給部は、気体の流量を制御する流量制御部を備えることを特徴とする請求項1〜4のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置。
- 水を含む液体を収容する液体収容部と気体を収容する気体収容部とを、気体の流通を許容する気体通路が形成された隔壁部によって上側に液体収容部が、下側に気体収容部が配置されるように隔て、前記気体収容部の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させる態様で酸素を含む気体を前記気体収容部に供給する工程と、
前記気体通路の前記液体収容部側の開口端において酸素を含む気泡を成長させる工程と、
前記隔壁部の下面に、中心が前記気体通路となるように配設されたドーナツ状の第1電極と、前記隔壁部の上面に、中心が前記気体通路となるように配設され、少なくとも前記第1電極と対になる側の部分が前記液体収容部中の液体と接触するように配設されたドーナツ状の第2電極との間に所定の電圧を印加して、前記第1電極と前記第2電極との間に放電を発生させて、前記気体通路の前記液体収容部側の開口端近傍における気液境界面近傍の気体の領域においてプラズマを生成することにより、液体に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する工程と、
を備えることを特徴とするラジカル生成方法。 - 前記液体収容部内の液体の流れにより、前記ヒドロキシラジカルを含んだ気泡を前記隔壁部からせん断して液体中に放出する工程と、
を備えることを特徴とする請求項6に記載のラジカル生成方法。 - 前記気体を供給する工程では、気種制御部により制御された気体が前記気体収容部に供給されることを特徴とする請求項6または請求項7に記載のラジカル生成方法。
- 前記気体を供給する工程では、大気中の空気が前記気体収容部に供給されることを特徴とする請求項6〜8のうちいずれか1項に記載のラジカル生成方法。
- 前記気体を供給する工程では、前記気体収容部に供給される気体は、流量制御部によって流量が制御されていることを特徴とする請求項6〜9のうちいずれか1項に記載のラジカル生成方法。
- 前記ヒドロキシラジカルを生成する工程では、電圧制御部により制御された電圧を1対の対向電極間に印加することで前記プラズマを生成していることを特徴とする請求項6〜10のうちいずれか1項に記載のラジカル生成方法。
- 請求項1〜5のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置を備える洗浄化装置であって、
前記気体収容部に取付けられ、前記気体収容部に気体を供給する気体導入路と、
前記液体収容部に取付けられ、前記液体収容部に液体を導入する液体導入路および前記液体収容部の液体を排出する液体排出路と、
前記気体導入路から気体を供給することにより、前記気体収容部内の気体を前記気体通路を介して前記液体収容部へ圧送させて、ヒドロキシラジカルを含んだ気泡を液体中に放出する機能と、
を備えることを特徴とする洗浄浄化装置。 - 前記液体収容部が、導入された液体を前記気泡に含まれるヒドロキシラジカルにより浄化する液体浄化部であることを特徴とする請求項12に記載の洗浄浄化装置。
- 前記液体収容部が、ヒドロキシラジカルを含んだ気泡を液体内に放出することで洗浄液を生成する洗浄液生成部であることを特徴とする請求項12に記載の洗浄浄化装置。
- 前記プラズマ発生装置の位置を調整する位置調整部を備えることを特徴とする請求項12〜14のうちいずれか1項に記載の洗浄浄化装置。
- 請求項1〜5のうちいずれか1項に記載のプラズマ発生装置を備えることを特徴とする電器機器。
- 請求項12〜15のうちいずれか1項に記載の洗浄浄化装置を備えることを特徴とする電器機器。
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