KR102504275B1 - 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치는 일 방향으로 이동하는 작동유체 내에 플라즈마를 발생시키고, 작동유체를 이온화하여 기능수를 생산하도록 구성되는 플라즈마 발생부를 포함하고, 플라즈마 발생부는, 제1 유로 및 제1 유로와 연통되고 제1 유로에 비하여 상대적으로 작은 내경의 크기를 가지도록 구성되는 제2 유로를 포함하는 제1 반응부 및 제1 유로에 배치되고, 내부로 유입되는 작동유체의 압력을 제어하어 제2 유로로 배출되는 작동유체에 복수의 미세기포를 발생시키며, 작동유체와의 전기적 작용을 통해 복수의 미세기포의 표면전위를 상승시켜 복수의 미세기포가 붕괴될 때 플라즈마를 발생시키도록 구성되는 제2 반응부를 포함한다.
Description
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치의 플라즈마 발생부를 나타낸 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치의 제2 반응부를 나타낸 분해사시도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치의 제1 반응유닛의 변형된 실시예를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치의 플라즈마 발생부의 변형된 실시예를 나타낸 단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치를 개략적으로 나타낸 구성도이다.
110. 플라즈마 발생부
111. 제1 반응부
111A. 제1 유로
111B. 제2 유로
112. 제2 반응부
112A. 제1 반응유닛
112A1. 제1-1 반응유로
112A2. 제1-2 반응유로
112B. 제2 반응유닛
112B1. 제2 반응유로
112C. 제3 반응유닛
112C1. 제3 반응유로
112D. 제4 반응유닛
112D1. 제4-1 반응유로
112D2. 제4-2 반응유로
112E. 제5 반응유닛
112E1. 제5-1 반응유로
112E2. 제5-2 반응유로
112F. 기밀부
112G. 제6 반응유닛
112G1. 제6 반응유로
120. 정화부
130. 산소 기체 공급부
140. 작동유체 공급부
150. 기능수 저장부
160. 저장부
170. 이온 분리부
180. 수소 가스 생산부
P. 연결관
Claims (15)
- 일 방향으로 이동하며 그 내부를 통과하는 압력이 50bar 이상 내지 120bar 이하의 범위로 설정되는 작동유체 내에 플라즈마를 발생시키고, 상기 작동유체를 이온화하여 기능수를 생산하도록 구성되는 플라즈마 발생부를 포함하고,
상기 플라즈마 발생부는,
제1 유로 및 상기 제1 유로와 연통되고 상기 제1 유로에 비하여 상대적으로 작은 내경의 크기를 가지는 제2 유로를 포함하고 유전율을 갖는 유전성 소재로 마련되는 제1 반응부; 및
상기 제1 유로에 배치되고, 내부로 유입되는 작동유체의 압력을 제어하여 상기 제2 유로로 배출되는 상기 작동유체에 복수의 미세기포를 발생시키며, 상기 작동유체와의 전기적 작용을 통해 상기 복수의 미세기포의 표면전위를 상승시켜 상기 복수의 미세기포가 붕괴될 때 상기 플라즈마를 발생시키도록 구성되는 제2 반응부;를 포함하고,
상기 제2 반응부는,
상기 제1 유로로 유입된 상기 작동유체의 압력을 제어하여 상기 제2 유로 측으로 배출되는 상기 작동유체에 상기 복수의 미세기포를 발생시키도록 구성되는 제1 반응유닛; 및
상기 제1 반응유닛으로 유입되는 상기 작동유체와 마찰되면서 마찰전기를 발생시키고, 상기 작동유체에 와류를 발생시키며, 상기 복수의 미세기포의 표면 전위를 제어하여 상기 복수의 미세기포가 붕괴될 때 상기 플라즈마를 발생시키도록 구성되는 제2 반응유닛;
상기 작동유체의 이동방향을 따라 상기 제1 반응유닛의 일 측에 배치되고, 상기 제1 반응유닛을 통과한 상기 작동유체의 압력을 제어하여 상기 제1 반응유닛으로부터 배출되는 상기 작동유체에 상기 복수의 미세기포를 발생시키도록 구성되는 제3 반응유닛; 및
상기 작동유체의 이동방향을 따라 상기 제3 반응유닛의 일 측에 배치되고, 상기 제3 반응유닛을 통과한 상기 작동유체의 압력을 제어하여 상기 제2 유로로 배출되는 상기 작동유체에 상기 복수의 미세기포를 발생시키도록 구성되는 제4 반응유닛;을 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 제1 반응유닛은,
상기 작동유체의 이동방향을 따라 내경의 크기가 점차 감소되도록 구성되는 제1-1 반응유로 및
상기 제1-1 반응유로의 단부로부터 상기 작동유체의 이동방향을 따라 연장되어 동일한 내경의 크기를 유지하고, 상기 제2 유로에 비하여 상대적으로 작은 내경의 크기를 가지는 제1-2 반응유로를 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제2 반응유닛은,
상기 제1 반응유닛으로 유입되는 상기 작동유체에 와류를 발생시키도록 구성되는 적어도 하나의 제2 반응유로를 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 삭제
- 제3항에 있어서,
상기 제3 반응유닛은,
상기 제1-2 반응유로와 연통되어 상기 작동유체의 이동방향을 따라 동일한 내경의 크기를 유지하고, 상기 제1-2 반응유로에 비하여 상대적으로 큰 내경의 크기를 가지는 제3 반응유로를 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제6항에 있어서,
상기 제4 반응유닛은,
상기 제3 반응유로와 연통되어 상기 작동유체의 이동방향을 따라 동일한 내경의 크기를 유지하고, 상기 제3 반응유로에 비하여 상대적으로 작은 내경의 크기를 가지는 제4-1 반응유로 및
상기 제4-1 반응유로와 상기 제2 유로를 연통시키고, 상기 제4-1 반응유로의 단부로부터 상기 작동유체의 이동방향을 따라 내경의 크기가 점차 증가되도록 구성되는 제4-2 반응유로를 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제1항에 있어서,
상기 제2 반응부는,
상기 작동유체의 이동방향을 따라 상기 제1 반응유닛의 타 측에 배치되고, 일단부에 상기 제2 반응유닛이 결합되어 고정되며, 상기 작동유체와 마찰되면서 마찰전기를 발생시키도록 구성되는 제5 반응유닛;을 더 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제8항에 있어서,
상기 제5 반응유닛은,
상기 제2 반응유닛이 수용되는 제5-1 반응유로 및
상기 제1 유로를 통해 내부로 유입되는 상기 작동유체를 상기 제5-1 반응유로로 안내하고, 상기 제5-1 반응유로에 비하여 상대적으로 더 긴 길이를 가지도록 구성되는 제5-2 반응유로를 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제9항에 있어서,
상기 작동유체는 물로 적용되고,
상기 제2 반응유닛 및 상기 제5 반응유닛은 테플론 혹은 음으로 대전하는 마찰전기 대전체 소재로 마련되는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제3항에 있어서,
상기 제2 반응부는,
상기 제1 반응유닛의 외주면 및 상기 제4 반응유닛의 외주면에 각각 결합되고, 상기 제1 유로를 형성하는 상기 제1 반응부의 내주면에 밀착되어 상기 제1 반응유닛 및 상기 제4 반응유닛의 유동을 제한하도록 구성되는 기밀부;를 더 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제1항에 있어서,
상기 플라즈마 발생부로 공급되는 상기 작동유체를 정화하도록 구성되는 정화부;를 더 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제12항에 있어서,
상기 정화부는,
마이크로 필터를 구비하여 상기 작동유체를 정화시키도록 구성되는 제1 정화유닛; 및
이온교환수지를 구비하여 상기 제1 정화유닛을 통해 정화된 작동유체를 정화시키도록 구성되는 제2 정화유닛;을 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제1항에 있어서,
상기 플라즈마 발생부로 유입되는 상기 작동유체에 산소 기체를 공급하도록 구성되는 산소 기체 공급부;를 더 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치. - 제12항에 있어서,
상기 정화부를 통해 정화된 작동유체가 저장되도록 구성되는 정화유체 저장부;를 더 포함하는, 수중 플라즈마를 이용한 기능수 생산 장치.
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Hugo Destaillats, et al.. Degradation of alkylphenol ethoxylate surfactants in water with ultrasonic irradiation. Environmental Science & Technology. 2000, Vol.34, pp.311~317. |
I.Hua and J.E. Thompson. Inactivation of Escherichia coli by sonication at descrete ultrasonic frequencies. Water Research. 2000, Vol.34, No.15, pp.3888~3893. |
R.P. Taleyarkhan, et al.. Evidence for nuclear emissions during acoustic cavitation. Science. 2002, Vol.295, pp.1868~1873. |
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