JP2006187743A

JP2006187743A - ラジカル処理装置

Info

Publication number: JP2006187743A
Application number: JP2005002932A
Authority: JP
Inventors: Takafumi Iijima; 崇文飯島; Shinji Kobayashi; 伸次小林; Susumu Ehata; 享江幡; Kikei Kubo; 貴恵久保; Takaaki Murata; 隆昭村田; Yuji Okita; 裕二沖田
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2005-01-07
Filing date: 2005-01-07
Publication date: 2006-07-20

Abstract

【課題】低電力での放電を利用したラジカル処理を実現する実用化に適したラジカル処理装置を提供することにある。
【解決手段】水槽２内の処理対象水２０に対して、放電用電極１から発生する放電によりラジカル処理を行なうラジカル処理装置において、放電用電極１は、円錐形状のように鋭角形状に加工された少なくとも１個以上の突起部材１０を有し、当該突起部材１０の先端部から放電を行なう。
【選択図】図１

Description

本発明は、一般的には放電を利用したラジカル処理装置であり、特に、処理対象物に含まれる難分解性有機物を処理するラジカル処理装置に関する。

近年、塩素を利用した水処理方法以外に、オゾン（Ｏ_３）の酸化反応を利用した水処理方法が適用されつつある。両方法とも、化学的に強い酸化力を利用して水中に溶存する有機物質を分解することができる。水処理とは、具体的には、水中に含まれる有機物質の化学結合で炭素原子とその他の原子の結合を、オゾンや塩素の酸化力によって切断することにより、当該有機物質の組成を変える処理を行なうことである。この場合、オゾンや塩素の酸化力は高いほど、有機物を分解しやすい。

ところで、一般的に塩素の酸化力が１．４電子ボルトであるのに対し、オゾンの酸化力は２．０７電子ボルトと高い。また、塩素は高分子で形成される有機物と反応するとクロロフェノール類やトリハロメタン、ハロ酢酸、ハロケトン、ハロアセトニトリルなど消毒副生成物が生成される。これらの一部は、発がん性物である可能性が示唆されており、それ自身も人体に有害物質である。

これに対して、オゾンは酸素原子のみで構成されているため、環境への影響が少なく、異臭味物質の分解に有効であることから、上水を含めた水処理への適用が広まってきた。これが、近年のオゾンによる水処理法が普及してきた理由である。

しかしながら、オゾンはダイオキシンや農薬、環境ホルモンなどの難分解性有機物質との反応性に乏しい。このため、オゾンだけでは、これらを分解処理することは難しい。また、オゾンは有機物質との反応により、アルデヒドあるいは近年では発がん性が懸念されている臭素酸イオンを生成するなどの問題がある。

そこで、化学反応を利用して難分解性有機物を分解処理するために、オゾンよりも酸化力の高い化学物質を使用する方法がある。酸化力は高いほどよく、具体的にはヒドロキシルラジカル（ＯＨラジカル）や、酸素原子ラジカル（Ｏラジカル）は、酸化力がそれぞれ２．８５電子ボルト、２．４２電子ボルトであり、オゾンより高い。さらに、有機物質に対する反応速度定数も、オゾンより高い。このため、ダイオキシンや農薬などの難分解性有機物質も分解可能であり、ほとんどの有機物分解に適している。ここで、ＯＨラジカルやＯラジカルなどを総称して、以下単にラジカルと表記する。

このラジカルは、水分の多い気体中で放電を発生させることにより得られる。先行技術としては、例えばコロナ放電を利用した有害物質を浄化する浄化方法が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。また、低温プラズマにより反応性ガスを発生させて、オゾンより反応性の高いラジカル種を有効に利用する処理方法も提案されている（例えば、特許文献２及び特許文献３を参照）。さらに、プラズマ放電により、廃水中にラジカルを発生させて浄化する浄化方法も提案されている（例えば、特許文献４を参照）。
特開２００１−７０９４６号公報特開２００３−８００５９号公報特開２００３−８００５８号公報特開２０００−２８８５４７号公報

ラジカルは、反応性が非常に高く、気体中ではＯＨラジカル同士が反応し過酸化水素（Ｈ_２Ｏ_２）を生成し消滅する。気体中におけるＯＨラジカルの密度を［ＯＨ］個／ｃｃとすると、ＯＨラジカルの減少速度は、式「ｄ［ＯＨ］／ｄｔ＝−ｋ×［ＯＨ］×［ＯＨ］」により求められる。

即ち、気体中のＯＨラジカル密度が高いほど、ＯＨラジカルの減少速度は速くなる。逆に、ＯＨラジカルの密度が低いと、ＯＨラジカルは長寿命化する。このＯＨラジカルが水中に溶存する難分解性有機物を分解するには、発生後、直ぐに水中に溶け込む必要がある。しかし一方、水中へ溶解したＯＨラジカルは、さらに消滅確率が高くなる。

このため、放電による水処理は効率が低くなるという問題点があった。この場合、放電の電力を低くすることにより、ＯＨラジカルの密度が低くなり、ＯＨラジカルの寿命が長寿命化されることが確認されている。しかしながら、低電力での放電を利用したラジカル処理方法を実用化する場合に、それに適した放電用電極の製造コストが高いなどの理由で、実用化が困難である。

そこで、本発明の目的は、低電力での放電を利用したラジカル処理を実現する実用化に適したラジカル処理装置を提供することにある。

本発明の観点は、放電を行なう突起部材の先端部を、例えば円錐形状のように鋭角形状に加工した放電用電極を有し、相対的に低電力での放電を利用したラジカル処理装置である。

本発明の観点に従ったラジカル処理装置は、例えば水槽内の処理対象水である処理対象物をラジカル処理するためのラジカル処理装置において、ラジカル処理用ガスを導入する手段と、放電用高電圧を発生する電源と、前記ラジカル処理用ガス中で前記放電用高電圧に応じた放電を行なう少なくとも１個以上の突起部材を有し、当該突起部材の先端部が鋭角形状である放電用電極とを備えた構成である。

本発明のラジカル処理装置であれば、相対的に低電圧で放電用電極から放電を発生させることで放電の電力を抑制して、ラジカルの長寿命化を実現し、例えば処理対象水に含まれる難分解性有機物の処理効率を高めることが可能となる。

以下図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。

（第１の実施形態）
図１は、本実施形態に関するラジカル処理装置の構成を説明するための図である。

ラジカル処理装置は、図１に示すように、放電用電極１が絶縁フランジ３を介して水槽２に取り付けられた構造である。水槽２は、ラジカル処理対象の水（以下処理対象水）２０を収納する。処理対象水２０とは、例えばダイオキシンなどの難分解性有機物質を含有している水である。

水槽２には、処理対象水２０を流入するための流入口２１、及び処理対象水２０を排出するための排出口２２が設けられている。これら２１，２２は、通常では、連続的に水２０を処理する場合に使用するものであり、非連続的な処理では必ずしも必要ではない。さらに、水槽２には、例えば空気または酸素を含むガス３０を導入するためのガス導入口２３が設けられている。

放電用電極１は、本体１１に、放電を発生するための複数の突起部材１０が設けられた構造である。放電用電極１には、ガス導入口２３から導入されたガス３０の一部を排出するためのガス排出口１２が設けられている。

ラジカル処理装置は、放電用電極１の本体１１と水槽２の中に配置された接地電極１３との間に、高電圧を印加するための高電圧電源１４を有する。放電用電極１は、当該高電圧の印加に応じて、各突起部材１０の先端部から放電が発生する。接地電極１３は、例えば円盤状の金属板である。

ガス３０は、図２に示すようなガス供給装置２４から供給される。ガス供給装置２４は、空気を送出するための空気コンプレッサや空気ボンベを含む。あるいは、ガス供給装置２４は、酸素を送出するための酸素ボンベや、酸素を製造するための酸素製造装置（ＰＳＡ）を含む。

ガス３０は、ガス供給装置２４から用水タンク２５を経由してガス導入口２３に導入されることが好ましい。用水タンク２５は、空気または酸素に水分を含ませるための用水が収納されたタンクである。水分子を含むガス３０は、後述する放電により、ＯＨラジカルを発生しやすいガスであることが確認されている。

さらに、ラジカル処理装置は、図３に示すように、ガス排出口１２から排出されるガス３０を、ガス導入口２３に送出するためのポンプ２６を有する。これにより、ガス３０を効率的に使用することが可能となる。

（放電用電極の構造）
図４及び図５は、本実施形態の放電用電極１の構造を示す図である。

放電用電極１は、一枚の金属板４０を切削加工することで形成された複数の突起部材１０を有する。各突起部材１０は、放電が発生する先端部が鋭角になるような角錐形状（ピラミッド形状）から構成されている。また、各突起部材１０は、円錐形状または針形状で構成されていてもよい。

図５は、放電用電極１の具体的構造を示す図である。図５（Ａ）は側面図であり、図５（Ｂ）は平面図である。即ち、放電用電極１は、図５（Ａ）に示すように、切削加工で複数の突起部材１０が形成された一枚の金属板４０を、金属製の本体１１に結合させた構造である。具体的には、放電用電極１は、図５（Ｂ）に示すように、円盤状の本体１１の平面に対して、円盤状の突起部材１０が形成された一枚の金属板４０を螺子５０により固定した構造である。

なお、突起部材１０は、耐腐食性金属製であることが好ましい。即ち、処理対象水２０の水面近傍で放電を発生させると、処理対象水２０からの蒸発蒸気により突起部材１０が腐食されやすい。このため、突起部材１０が耐腐食性金属製であれば、当該腐食を抑制し、部品寿命を延ばすことが可能となる。これによりランニングコストを低減させることが可能となる。具体的には、耐腐食性金属とは、例えばステンレス材である。

（作用及び効果）
以下、図１を参照して、本実施形態のラジカル処理装置の作用及び効果を説明する。

まず、水槽２には、流入口２１から処理対象水２０が流入される。次に、例えば空気であるガス３０が、ガス導入口２３から導入される。ガス３０は、放電用電極１の各突起部材１０の周囲に充満するように供給される。

このようなガス３０が充満している雰囲気において、放電用電極１の本体１１と水槽２の中に配置された接地電極１３との間に、高電圧電源１４から高電圧を印加すると、各突起部材１０の先端部から放電が発生する。

この放電は、各突起部材１０の先端部と処理対象水２０の水面との間で、ガス３０の雰囲気中で発生する。ここで、放電は、高電圧電源１４からの印加電圧のレベルに従って、形態が変化する。即ち、印加電圧が相対的に低レベルの場合には、放電は、各突起部材１０の先端部の近傍に発生するコロナ放電（corona discharge）となる。一方、印加電圧が相対的に高レベルの場合には、放電は、各突起部材１０の先端部から処理対象水２０の水面上に渡って発生するストリーマ放電（streamer discharge）となる。

前述したように、印加電圧が相対的に低レベルで、放電に要する電力が低いコロナ放電であれば、後述するＯＨラジカルの密度が低くなり、ＯＨラジカルの寿命が長寿命化されることが確認されている。従って、ラジカル処理装置では、高電圧電源１４から低レベルの印加電圧を印加することにより、放電用電極１の各突起部材１０からコロナ放電を発生させる。このコロナ放電により、ＯＨラジカルやオゾン（Ｏ_３）を生成して、処理対象水２０に含まれる有機物を分解する。以下、当該放電による有機物分解の反応過程を説明する。

即ち、放電用電極１の各突起部材１０から発生するコロナ放電は、処理対象水２０の飽和蒸気圧により発生する水分子（Ｈ_２Ｏ）と、ガス３０中の酸素（Ｏ_２）と反応する。具体的には、コロナ放電中では、電子ｅと気体分子との衝突により、ＯＨラジカル（・ＯＨ）や基底状態の酸素原子Ｏ（^３Ｐ）や励起状態の酸素原子Ｏ（^１Ｄ）が発生する。

以下、下記式（１）〜（１１）により、反応過程を示す。

ｅ＋Ｈ_２Ｏ→・ＯＨ＋Ｈ＋ｅ…（１）
ｅ＋Ｏ_２→Ｏ（^１Ｄ）＋Ｏ（^３Ｐ）…（２）
ここで、Ｏ（^１Ｄ）は水分子と反応し、下記式（３）に示すように、ＯＨラジカルが発生する。

Ｏ（^１Ｄ）＋Ｈ_２Ｏ→２・ＯＨ… （３）
ＯＨラジカルは、ＯＨラジカル同士の再結合反応により、下記式（４）に示すように、過酸化水素を形成する。

・ＯＨ＋・ＯＨ→Ｈ_２Ｏ_２…（４）
過酸化水素は、水中に溶解すると、下記式（５）に示すように、解離してＨＯ_２ ⁻と水素イオンＨ^＋を形成する。

Ｈ_２Ｏ_２⇔ＨＯ_２ ⁻＋Ｈ^＋…（５）
ここで、発生したＨＯ_２ ⁻は、Ｏ_３と反応して、下記式（６）に示すように、Ｏ_３ ⁻とＨＯ_２ラジカルを形成する。

ＨＯ_２ ⁻＋Ｏ_３→Ｏ_３ ⁻＋ＨＯ_２…（６）
ここで、発生したＨＯ_２・は解離し、下記式（７）に示すように、Ｏ_２ ⁻とＨ^＋を形成する。

ＨＯ_２・⇔Ｏ_２ ⁻＋Ｈ^＋…（７）
ここで、発生したＯ_２ ⁻はオゾンと反応し、下記式（８）に示すように、Ｏ_３ ⁻を形成する。

Ｏ_２ ⁻＋Ｏ_３→Ｏ_３ ⁻＋Ｏ_２…（８）
Ｏ_３ ⁻は、Ｈ^＋と反応し、下記式（９）に示すように、ＨＯ_３を形成する。

Ｏ_３ ⁻＋Ｈ^＋→ＨＯ_３…（９）
ＨＯ_３は解離し、下記式（１０）に示すように、ＯＨラジカルを形成する。

ＨＯ_３→・ＯＨ＋Ｏ_２…（１０）
以上のようにして、過酸化水素Ｈ_２Ｏ_２から解離したＨＯ_２ ⁻が、オゾンと反応してＨＯ_２ラジカルを生成する導入となり、ＯＨラジカルは水中で形成されて、処理対象水２０に含まれる有機物Ｒと反応する。このとき、ＯＨラジカルは、下記式（１１）に示すように、有機物Ｒを、水、炭酸ガス及び過酸化水素に分解する。

・ＯＨ＋Ｒ→Ｈ_２Ｏ＋ＣＯ_２＋Ｈ_２Ｏ_２…（１１）
要するに、処理対象水２０に溶存する難分解性有機物質（Ｒ）は、ガス３０と反応するコロナ放電により、分解処理されることになる。

以上のように本実施形態のラジカル処理装置であれば、高電圧電源１４から低レベルの印加電圧を印加することにより、放電用電極１の各突起部材１０からコロナ放電を発生させる。このコロナ放電により、ＯＨラジカルやオゾン（Ｏ_３）を生成して、処理対象水２０に含まれる有機物を分解する。この場合、印加電圧が相対的に低レベルで、放電に要する電力が低いコロナ放電であれば、後述するＯＨラジカルの密度が低くなり、ＯＨラジカルの寿命が長寿命化されるため、高い処理効率を実現することができる。

また、本実施形態の放電用電極１は、一枚の金属板４０を切削加工することで、放電が発生する先端部が鋭角になるような角錐形状（ピラミッド形状）の各突起部材１０が構成されている。従って、相対的に低い製造コストで、コロナ放電を発生する放電用電極１を製造できるため、実用化の容易なラジカル処理装置を提供することが可能である。

（第２の実施形態）
図６は、第２の実施形態に関する放電用電極１の構造を示す図である。なお、ラジカル処理装置の構成は、図１から図３に示すものと同様であるため説明を省略する。

本実施形態の放電用電極１は、一枚の金属板６０をプレス加工することで形成された複数の突起部材１０を有する。各突起部材１０は、放電が発生する先端部が鋭角になるような円錐形状からなる。また、各突起部材１０は、本体１１側に接合される面が、プレス加工により打ち抜かれた凹部６１になっている。

本実施形態の構造の放電用電極１においても、前述の第１の実施形態と同様に、相対的に低い製造コストで、コロナ放電を発生する放電用電極１を製造できるため、実用化の容易なラジカル処理装置を提供することが可能である。

（第３の実施形態）
図７は、第３の実施形態に関する放電用電極１の構造を示す図である。なお、ラジカル処理装置の構成は、図１から図３に示すものと同様であるため説明を省略する。

本実施形態の放電用電極１は、金属製の突起部１００と、当該突起部１００の周囲を覆う誘電体１１０からなる二層構造の複数の突起部材１０を有する。各突起部材１０は、放電が発生する先端部が鋭角になるような円錐形状または角錐形状からなる。

本実施形態の構造の放電用電極１であれば、誘電体１１０バラスト効果により、各突起部材１０からは、処理対象水２０の水面に対して安定して均一なコロナ放電を発生させることが可能となる。なお、前述の第１の実施形態と同様に、相対的に低い製造コストで、コロナ放電を発生する放電用電極１を製造できるため、実用化の容易なラジカル処理装置を提供することが可能である。

（第４の実施形態）
図８及び図９（平面図）は、第４の実施形態に関するラジカル処理装置の構成を説明するための図である。なお、図１に示すラジカル処理装置と同一の構成要素については、同一符号を付して説明を省略する。

本実施形態のラジカル処理装置は、図８及び図９に示すように、処理対象水２０の中に配置される接地電極として、少なくとも一つ以上の穴８１が開いている構造の接地電極８０を有する。この接地電極８０は、例えば１枚のステンレス板からなり、複数の貫通穴８１が形成されている。

本実施形態の接地電極８０であれば、処理対象水２０が、接地電極８０の各穴８１を通過して上下方向に回流するため、攪拌されやすくなる。従って、コロナ放電により、処理対象水２０に対して有機物の分解処理が実行される場合に、当該分解処理の効率を向上させて、処理時間の短縮化を図ることができる。

なお、本実施形態のラジカル処理装置の場合も、前述の第１の実施形態と同様に、相対的に低い製造コストで、コロナ放電を発生する放電用電極１を製造できるため、実用化の容易なラジカル処理装置を提供することが可能である。

（第５の実施形態）
図１０（平面図）は、第５の実施形態に関するラジカル処理装置の接地電極９０の構造を説明するための図である。なお、ラジカル処理装置の構成は、前述の図１または図８に示すものと同様であるため説明を省略する。

本実施形態の接地電極９０は、例えばステンレス製の円形状の枠９１と、当該枠内に設けられた金属製メッシュ９２からなる。

本実施形態の接地電極９０であれば、処理対象水２０が金属製メッシュ９２の隙間を通過して上下方向に回流するため、攪拌されやすくなる。従って、コロナ放電により、処理対象水２０に対して有機物の分解処理が実行される場合に、当該分解処理の効率を向上させて、処理時間の短縮化を図ることができる。

（第６の実施形態）
図１１（平面図）は、第６の実施形態に関するラジカル処理装置の接地電極９０の構造を説明するための図である。なお、ラジカル処理装置の構成は、前述の図１または図８に示すものと同様であるため説明を省略する。

本実施形態の接地電極９０は、例えばステンレス製の円形状の枠９１と、当該枠内に縦方向及び横方向に配列された複数の金属製ワイヤ９３からなる。なお、金属製ワイヤ９３は、金属製棒でもよい。

本実施形態の接地電極９０であれば、処理対象水２０が金属製ワイヤ９３の隙間を通過して上下方向に回流するため、攪拌されやすくなる。従って、コロナ放電により、処理対象水２０に対して有機物の分解処理が実行される場合に、当該分解処理の効率を向上させて、処理時間の短縮化を図ることができる。

（変形例）
図１２は、第１の本実施形態の変形例に関するもので、放電用電極１に設けられている突起部材１０の構造を示す図である。

図１２（Ａ）に示す突起部材１０は、中空円筒形状であり、中空内部にガス３０が流れる構造を有する。また、図１２（Ｂ）に示す突起部材１０は、中空円筒形状で、表面が誘電体１２０により覆われた構造を有する。

（応用例）
第１の本実施形態は、有機物を含む処理対象水２０に対して放電を行なう放電用電極１を有するラジカル処理装置について説明したが、放電用電極１は、適用対象として、処理対象水２０のラジカル処理装置だけでなく、他の処理対象に対するラジカル処理装置に適用してもよい。

具体的には、例えばガラスなどの固体物を処理対象として、当該固体物の表面処理を行なうラジカル処理装置である。このラジカル処理装置では、接地電極１３が例えば当該固体物を載置するための器械などに配置されて、当該接地電極１３と放電用電極１との間に、放電用高電圧を印加する構成となる。

なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

本発明の第１の実施形態に関するラジカル処理装置の構成を説明するための図。本実施形態に関するガス供給装置の構成を説明するための図。本実施形態に関するガス供給装置の変形例を説明するための図。本実施形態に関する放電用電極の構造を説明するための図。本実施形態に関する放電用電極の具体的構造を示す図。第２の実施形態に関する放電用電極の構造を説明するための図。第３の実施形態に関する放電用電極の構造を説明するための図。第４の実施形態に関するラジカル処理装置の構成を説明するための図。第４の実施形態に関する接地電極の構造を示す平面図。第５の実施形態に関する接地電極の構造を示す平面図。第６の実施形態に関する接地電極の構造を示す平面図。第１の実施形態の変形例に関する突起部材の構造を示す図。

符号の説明

１…放電用電極、２…水槽、３…絶縁フランジ、１０…突起部材、１１…本体、
１２…ガス排出口、１３，８０，９０…接地電極、１４…高電圧電源、
２０…処理対象水、２１…流入口、２２…排出口、２３…ガス導入口、
２４…ガス供給装置、３０…ガス、４０…金属板。

Claims

処理対象物に対してラジカル処理するためのラジカル処理装置において、
ラジカル処理用ガスを導入する手段と、
放電用高電圧を発生する電源と、
前記ラジカル処理用ガス中で前記放電用高電圧に応じた放電を行なう少なくとも１個以上の突起部材を有する放電用電極と
を具備したことを特徴とするラジカル処理装置。
前記突起部材は、先端部が前記処理対象物に対向する円錐形状または角錐形状から構成されていることを特徴とする請求項１に記載のラジカル処理装置。
前記突起部材は、先端部が前記処理対象物に対向する針状であることを特徴とする請求項１に記載のラジカル処理装置。
前記放電用電極は、
接地電極との間に前記放電用高電圧が印加されて、前記突起部材から放電するように構成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記放電用電極は、
本体と、
前記本体から前記突起部材が成形された構造であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記放電用電極は、
前記突起部材が一枚板の金属板から形成された構造であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記放電用電極は、
前記突起部材が一枚板の金属板を切削加工することにより形成された構造であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記放電用電極は、
前記突起部材が、金属製の突起部と、当該突起部の周囲を誘電体で覆われた構造であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記電源の接地側に接続される接地電極を有し、
前記接地電極は、金属製の板であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記接地電極は，金属製の板で板面内に少なくとも一つ以上の穴が開けられている構造であることを特徴とする請求項９に記載のラジカル処理装置。
前記接地電極は，金属製の枠に、当該枠内に金属製のメッシュ面が設けられている構造であることを特徴とする請求項９に記載のラジカル処理装置。
前記接地電極は，金属製の枠に、当該枠内に少なくとも一本以上の金属製ワイヤまたは金属製棒が設けられている構造であることを特徴とする請求項９に記載のラジカル処理装置。
前記処理対象物は、水槽内に収納された処理対象水であり、
前記放電用電極は、前記水槽に設けられた構造であることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記処理対象物は、水槽内に収納された処理対象水であり、
前記放電用電極は前記水槽に設けられて、
前記接地電極は前記水槽内に配置された構造であることを特徴とする請求項９から請求項１２のいずれか１項に記載のラジカル処理装置。
前記処理対象物は固体物であり、
前記放電用電極から固体物の表面処理を行なうための放電を発生するように構成されたことを特徴とする請求項１から請求項９に記載のラジカル処理装置。