JP2005013858A - 高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理コストが安価でかつ高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って処理可能な高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法を提供する。
【解決手段】高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽2と、前記処理槽2に次亜塩素酸系物質含有液を添加する次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16と、電気導電体で形成された気体供給ノズル3を備えた気体供給手段6とを設け、前記気体供給ノズル3を前記高電圧パルス電源5と接続するとともに、該ノズル3先端を露出させた状態で該ノズルの外周を絶縁被覆することにより該ノズル3を前記電極のうち一方の電極と為し、前記気体供給ノズル3からなる電極と他方の電極4間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して排水中に気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成とする。
【選択図】 図1
【解決手段】高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽2と、前記処理槽2に次亜塩素酸系物質含有液を添加する次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16と、電気導電体で形成された気体供給ノズル3を備えた気体供給手段6とを設け、前記気体供給ノズル3を前記高電圧パルス電源5と接続するとともに、該ノズル3先端を露出させた状態で該ノズルの外周を絶縁被覆することにより該ノズル3を前記電極のうち一方の電極と為し、前記気体供給ノズル3からなる電極と他方の電極4間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して排水中に気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成とする。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、畜産糞尿、し尿、下水、埋立て浸出水、食品加工廃液、及び工場廃液等の有機性物質含有排水を対象とした排水処理装置及び該方法に関し、特に電気化学的に有機性物質を分解除去する高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、有機性物質を含む排水の処理は、主として活性汚泥法、間欠曝気消化法、脱窒法等によって行われている。しかしながら、これらの方法はいずれも生物分解法であるため、処理されるべき排水が難分解性の有機性物質を多量に含有している場合、該排水を大量の水を加えることにより希釈しなければならず、排水の処理量を増大させることとなるため、電力消費量の増大及び排水処理コスト高を生じていた。また、生物分解のための長い反応時間(数日〜数週間)が必要という問題点を有していた。
【0003】
このような問題点を改善する目的で、近年、電気化学的な処理装置の開発が活発に行われている。電気化学的な排水処理としては、米国特許第5464513号公報(特許文献1)等に開示されるように、有機性物質含有排水を水中高圧パルス放電処理することにより該有機性物質を分解処理する方法が挙げられる。
かかる方法は、高圧パルス放電により殺菌を行うとともに、放電により発生する酸化物により有機性物質を分解する方法であり、薬品を使用することなく汚泥も発生しないという利点を有している。
さらに、高圧パルス放電と、沈殿分離装置及び濾過分離装置等の分離装置とを組み合わせて汚濁物も同時に除去可能とした排水処理装置も提案されている。(例えば特許文献2)
【0004】
また、別の電気化学的な処理として、図13に示すように、有機性物質を含有する排水を保持した処理槽02内に陽極04と陰極03を対向させて配置し、ガスタンク06より両電極間に気泡13を発生させながら、高電圧パルス電源5より該電極間に高電圧パルスを印加し、水中高圧パルス放電処理することにより有機性物質を分解する装置も用いられている。このとき、特開2001−293478公報(特許文献3)に開示される処理装置は、前記ガスタンク06をオゾン発生器としてオゾンからなる気泡を処理槽02内に導入する構成としている。
【0005】
これは、前記電極間に印加した高電圧パルスにより気泡存在域に電界が形成され、気泡内での放電(気泡放電)が生じたり、気泡から液に、又は電極から液へ延びた液中放電が生じ、酸化力の大きいOHラジカル(ヒドロキシラジカル)等の酸化ラジカルが発生し、該酸化ラジカルにより排水中の有機性物質の分解が促進される作用を利用した方法である。さらに、前記気泡がオゾンであることから、気泡放電若しくは液中放電によりオゾンを原料としてOHラジカルが発生し易くなり、有機性物質の分解が促進されることとなる。(例えば、特許文献4等)かかる処理法により、電力消費量並びに排水処理コストの低減や、反応時間の短縮化が図られるようになってきた。
【0006】
【特許文献1】
米国特許第5464513号公報
【特許文献2】
特開平10−323674号公報
【特許文献3】
特開2001−293478公報
【特許文献4】
特表2002−538960公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1乃至3等に開示される処理法では低濃度の有機性物質を含む排水の処理には適しているが、水中放電を生じさせるために高電圧が必要となり、高濃度の有機性物質を含有する排水の場合は導電率が高いため、高電圧を印加するためには大電流の供給が必要で処理効率が悪化するという問題があり、実用化に際してはさらに分解性能を向上させる必要が生じていた。
【0008】
また、特許文献4に開示される処理では、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を比較的高除去率で処理可能であるが、オゾンは人体に有害であるため取り扱いが困難であるとともに、オゾンが高価であるためランニングコストが嵩むという問題を有している。
従って本発明はかかる従来技術の問題に鑑み、処理コストが安価でかつ高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って処理可能な高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明はかかる課題を解決するために、
排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理装置において、
前記処理槽若しくはその前段に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段を設けるとともに、前記処理槽に気体供給手段を設け、
高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする。
【0010】
また、高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽を備え、該処理槽内で排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する排水処理装置において、
前記処理槽に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段と、電気導電体で形成された気体供給ノズルを備えた気体供給手段とを設け、
前記気体供給ノズルを前記高電圧パルス電源と接続するとともに、該ノズル先端を露出させた状態で該ノズルの外周を絶縁被覆することにより該ノズルを前記電極のうち一方の電極と為し、
前記気体供給ノズルからなる電極と他方の電極間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して排水中に気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする。
【0011】
かかる発明では、ClO−またはHClO等の次亜塩素酸系物質を含有する溶液を高電圧パルス放電処理することにより、有機性物質の分解反応を促進するヒドロキシラジカル(・OH)及び酸素ラジカル(・O)等の酸化ラジカルが有効に生成されるため、有機性物質の除去率が向上する。このとき生成した酸化ラジカルは、非常に強力な酸化力を有するために排水中の有機性物質と反応して該有機性物質を酸化分解し、最終的にはCO2として排出される。
これらの発明によれば、安価な薬剤を利用し、また電力消費量も抑えることができるためランニングコストを低廉化することができる。
また、非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルを効率良く発生させることができるため、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って除去すること可能となり、処理水性状を向上させることができる。
【0012】
また、これらの発明において、前記処理槽内にpH調整手段を設け、該処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする。このとき、排水のpH値がpH5〜10の範囲内となるように調整することが好適である。前記酸化ラジカルは、次亜塩素酸から直接的に反応して生成するため、排水中に次亜塩素酸イオン若しくはその他の形態として存在する次亜塩素酸系物質のうち、次亜塩素酸の存在確率を大とすることにより酸化ラジカルが生成し易くなる。
【0013】
さらに、前記処理槽内に過酸化水素を添加する手段を設け、前記次亜塩素酸系物質とともに酸化ラジカルの生成を促進するように構成すると良い。かかる発明は、排水中で次亜塩素酸系物質と同様に気泡放電により酸化ラジカルを生成する過酸化水素を添加することで、酸化ラジカルの生成効率をより一層向上させるものである。
また、前記液体供給手段が、前記処理槽の前段に設けられ、直流電源若しくはパルス電源に接続された一対以上の電極を有する前処理槽であり、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加することにより生成した次亜塩素酸系物質を前記処理槽に供給することを特徴とする。これにより、次亜塩素酸系物質や過酸化水素等の薬剤を外部より供給する必要がなくなり、次亜塩素酸系物質のオンサイトでの供給が可能となる。
【0014】
また、排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
前記処理槽内に次亜塩素酸系物質を添加するとともに気体を供給し、高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする。
【0015】
さらに、排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
一対以上の電極を有する前処理槽にて、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加して電界反応により次亜塩素酸系物質を生成した後、
前記処理槽にて、前記生成した次亜塩素酸系物質を含有する排水に高電圧パルスによる気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする。
【0016】
これらの処理方法の発明において、前記処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする。このとき、排水のpH値がpH5〜10の範囲内となるように調整することが好適である。
また、前記処理槽内の排水に過酸化水素を添加し、前記次亜塩素酸系物質とともに前記酸化ラジカルの生成を促進させると良い。
これらの発明によれば、前記処理装置に関する発明とほぼ同様の作用及び効果を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に過ぎない。
図1は本発明に係る第1実施例の排水処理装置の構成図、図4は本発明に係る第2実施例、図7は本発明に係る第3実施例、図9は本発明に係る第4実施例、図11は本発明に係る第5実施例を夫々示す排水処理装置の構成図である。尚、従来技術に関する図面を含め全図に亘り同一部分には同一の符号を付している。
【0018】
まず、図1を参照して本発明に係る第1実施例の排水処理装置を説明する。
図1では、有機性排水1を保持する処理槽2内にガス供給機構を兼用する陰極ノズル3及び陽極4が配置されている。前記陽極4は液体供給口に配設しても良い。両電極には高電圧パルス電源5が接続され、処理条件に適合したパルス電力が供給される。前記陰極ノズル3には、気泡放電を行わせるために、ガスタンク6からガス供給配管7を通じて所望の種類及び量のガスが供給される。該ガスタンク6はコンプレッサで代替することも可能である。このガス供給により、排水1中の前記陰極ノズル3の先端に気泡13が発生する。
【0019】
前記処理槽2は、液供給管8及び液供給ノズル9を介して前処理槽10と、また液排出管11を介して後処理槽12と夫々接続される。さらに、該処理槽2には、次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16から添加液供給管17aを介して前記陰極ノズル3に次亜塩素酸系薬剤含有液が供給される構成となっている。該次亜塩素酸系薬剤含有タンク16には、ClOイオン、HOCl等の次亜塩素酸系薬剤を所定濃度で含有する液体が保持されている。前記ガス供給配管7、添加液供給管17aは夫々バルブ等の液量制御手段により適宜添加量を調整可能な構成とする。さらに、かかる処理槽2内の排水1は前記陰極ノズル3からの気泡13により撹拌状態となっているが、撹拌翼、排水循環手段(不図示)等の機械的撹拌手段を設ける構成としても良い。かかる構成により処理槽2内には気体と液体が別個に供給され、処理槽2内で混合される。
【0020】
本実施例では図1に示すように、前記陰極ノズル3に一方の電極(陰極3)を、これと対向させて他方の電極(陽極4)を配置し、該電極が処理槽外部に設けられた高電圧パルス電源5に夫々接続されている。また、金属導電体からなる陰極ノズル3の電極の外周表面を絶縁体15により絶縁被覆すると共に陰極ノズル3の端部のみを被覆露出させている。
そして、前記高電圧パルス電源5により両電極間にパルスを含む高周波電圧を印加することにより、排水1中に生じた気泡13で放電14を発生させて、ラジカルを生成し、排水中の有機性物質を分解処理するとともに、該高電圧パルスを印加処理する排水に次亜塩素酸系薬剤含有液を添加することにより、有機分解性を向上させることが出来る。
【0021】
このように、ClO−またはHClOを含む溶液を高電圧パルス処理することにより、下記反応(1)、(2)、(3)が生じ、有機性物質の分解反応を促進するヒドロキシラジカル(・OH)及び酸素ラジカル(・O)等の酸化ラジカルが有効に生成される。
H+ +ClO− → HClO …(1)
HClO → Cl− +・OH …(2)
HClO → HCl +・O …(3)
このとき生成した酸化ラジカルは、非常に強力な酸化力を有するために排水中の有機性物質と反応して該有機性物質を酸化分解し、最終的にはCO2として排出される。
【0022】
図1の構成における具体的な実施例として、陰極ノズル3にTiパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)を用い、該パイプの外周を絶縁体15であるテフロン(登録商標)で被覆し、Tiパイプ内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、また陽極4としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、処理槽2である容積約0.5Lの処理槽ビーカ内に同軸状に設置した。
かかる処理方法は、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsの高電圧パルスを繰り返し周波数1kHzにて印加した。
【0023】
処理対象液(排水1)として蒸留水にNa2SO4を溶解させた模擬液(液導電率約1〜2S/m)を使用し、NaClO溶液を50〜3000mg/Lの範囲で添加した。図2にNaClOを添加して高電圧パルス処理を30分実施した場合の塩素酸イオン濃度計測結果を示す。該処理によりClO濃度が低減していることから、ClOが分解消滅していることが明白である。
また、処理対象液としてし尿にポリ塩化アルミニウム(以下、PACと記載)を加えてSS分(浮遊物質)を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L添加した場合に、高電圧パルス処理を30分実施した際の全有機炭素濃度(TOC)濃度特性を図3に示す。NaClO添加に伴い、TOC分解の効率が向上していることが明白である。
ClOイオン量は多い方が酸化ラジカル生成には好ましいと考えられるが、液導電率も増加し、高電圧パルス印加時の放電電圧が低下(または電流が増加)するため、これに応じて適宜ClOイオン量を設定する。好適には本実施例により好適な結果が得られたClOイオン濃度10〜1500mg/Lの範囲であることが望ましい。
【0024】
次に、図4に基づき本発明の第2実施例について説明する。図4において、前記第1実施例と同様に、処理槽2には前処理槽10及び後処理槽12が夫々液供給管8、液供給ノズル9及び液排出管11を介して接続され、また次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16が添加液供給管17aを介して接続されている。さらに、前記第1実施例と同様の構成を有する陰極ノズル3と陽極4とがケーブルを介して高電圧パルス電源5に接続され、処理条件に適合したパルス電力が供給される。前記陰極ノズル3は、ガスタンク6よりガス供給配管7を介して空気等の気体が供給され処理槽2内に気泡を発生させる構成となっている。また、該陰極ノズルは絶縁体15により絶縁被覆され、先端を露出させている。
【0025】
さらに、本第2実施例では液pH調整タンク26を設け、排水1のpH値を測定するpHセンサ24からの測定値に基づき、該液pH調整タンク26からのpH調整薬剤添加量を、排水のpH値が酸化ラジカルの発生し易い値となるように液pH制御装置25により制御している。
かかる実施例では、両電極間にパルスを含む高周波電圧を印加することにより、排水中に生じた気泡で放電を発生させて、酸化ラジカルを生成し、排水中の有機性物質を分解処理すると共に、該高電圧パルスを印加処理する溶液にClOまたはHOClを添加する処理方法において、排水の液性をpH=5〜10程度に調整する機構を具備することにより、有機分解性をさらに向上させることが出来る。
【0026】
これは、以下のことから説明される。
図5(Clイオン濃度3550ppmの場合)に示すように、有効塩素の存在形態は液pHに依存する特性を有している。即ち、HClO、ClO−、Cl2間の存在確率は、pH依存性を有しているため、かかる実施例のように液性をpH=5〜10程度に調整することにより、効率的にHClOの存在確率を向上させることが出来る。
従って、pHを適正な値とすることにより前記式(1)の反応を効率良く誘起することが出来、その結果、式(2)、(3)に示す反応にて有機性物質の分解に有効な・Oや・OHなどの酸化ラジカルが容易に生成され、排水を効率的に分解処理することが可能となる。
尚、前記pH調整薬剤は、例えば酸剤として硫酸、塩酸及びアルカリ剤として苛性ソーダ、炭酸ナトリウム、消石灰等が挙げられる。
【0027】
図4の構成における具体的な実施例として以下のような装置を用いた実験を行った。処理対象液(排水1)としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L添加し、かつH2SO4を適量追加してpH=6.5に調整し、高電圧パルス処理を30分間実施した。
このときの全有機炭素濃度(TOC)濃度特性を図6に示す。NaClO添加に加えてpH調整することにより、TOC分解の効率が向上していることが明白である。ClOイオン量は、前記第1実施例と同様に、処理に際して好適な範囲に設定する。
【0028】
図7は本発明の第3実施例を示し、前記第1実施例と同様に処理槽2に接続された前処理槽10’、後処理槽12を有するとともに、高電圧パルス電源5に接続された陰極ノズル3及び陽極4と、該陰極ノズル3に気体を供給するガスタンク6を有する構成としている。
また本第3実施例では、前記前処理槽10’に設けられた直流電源(またはパルス電源)22にケーブル21を介して夫々接続された一対以上の陰極19及び陽極20を排水中に浸漬させており、該電極間に直流電圧またはパルス電圧を印加して、電界反応を利用することにより酸化ラジカルを生成するイオン(または分子)種を供給している。
この場合、前記第1、第2実施例のように薬液保管及び供給機構を設置する必要がなく、電気エネルギーを用いて直接該イオン(または分子)種を供給することが出来るので、設備コンパクト化、設備保守の簡素化が図られる。
【0029】
かかる実施例の具体例として、前記前処理槽10’に容積約3Lのアクリル容器を用い、排水1としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液にCaCl2を添加した溶液(導電率1〜2S/m)を前処理槽10’内に保持し、該前処理槽10’内に150mm×100mm×厚さ5mmのTi陰極19、及び金属酸化物被覆Ti陽極20を配置し、直流電源22を用いて電流密度約250A/m2にて電気分解処理した。そして、ここで得られた処理排水1を後段の処理槽2に循環供給(液流量3L/分)した。
【0030】
前記陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ内に同軸状に設置した。処理方法として、陰極ノズル3にガスタンク6より大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、所定時間、陰極ノズル3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
【0031】
ここで前記排水を用い、処理前液を参照とし、比較例として▲1▼処理槽での電解処理(以下、電解槽処理と呼称)のみの場合、▲2▼高電圧パルス処理のみの場合、の各処理と、本第3実施例における処理装置を用いた▲3▼電界槽処理+高電圧パルス処理併用の場合の夫々の処理におけるTOC濃度計測結果を図8に示す。その結果、電界槽処理+高電圧パルス処理併用にて最も有機分解性能が向上することが確認できた。
尚、本願に記述した効果を得るに際して何れの実施例においてもこれらの寸法、材料仕様、電解条件に限定されるものではない。
【0032】
さらに、図9に示す本発明の第4実施例では、前記第1実施例と同様に処理槽2に接続された前処理槽10、後処理槽12を有するとともに、高電圧パルス電源5に接続された陰極ノズル3及び陽極4と、該陰極ノズル3に気体を供給するガスタンク6と、処理槽2内に次亜塩素酸系薬剤を供給する次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16とを有する構成としている。
また本第4実施例では、H2O2含有液タンク23が設けられ、該H2O2含有液タンク23から添加液供給管17bを通じて処理槽2内にH2O2含有液が供給される構成としている。このように、ClO、HOClに加えて、H2O2も同時に添加供給することにより、有機分解性能を向上することが出来る。
【0033】
これは、前記式(1)〜(3)反応に加えて、下記式(4)の反応が同時に生じるため、有機分解に有効な・OHの生成効率が増加するためである。
H2O2 → 2・OH …(4)
また、添加するH2O2濃度が高い方がOH生成に有効と考えられるが、過多となると下記反応式(5)により・OHを消費する反応も共存することとなり、適正なH2O2濃度範囲が存在する。
・OH +H2O2 →HO2 +O2 …(5)
従って、経験的にはClOイオン濃度100〜1500mg/L、H2O2濃度0.1〜100mg/Lの範囲であることが望ましい。
【0034】
図9の処理装置における具体的な実施例として、陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側に、ガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極4としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ2内に同軸状に設置した。
かかる実施例の処理方法として、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。処理対象液(排水1)としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L、H2O2を50mg/L添加した場合に、前記高電圧パルス処理を30分実施した。
このときのTOC濃度特性を図10に示す。NaClO及びH2O2添加に伴い、TOC分解の効率が向上していることが明白である。
【0035】
図11は本発明の第5実施例であり、かかる実施例では酸化ラジカルを生成するイオン(または分子)種を前記実施例1のように薬液添加ではなく、前処理槽10”内の排水1中に設けられた二対の電極に、直流電源(またはパルス電源)22により直流電圧またはパルス電圧を印加し、電界反応を利用してイオン(または分子)種を生成し、処理槽2に供給する構成としている。
この場合、薬液保管及び供給機構を設置する必要がなく、電気エネルギーを用いて直接該イオン(または分子)種を供給することが出来るので、設備コンパクト化、設備保守の簡素化が図られる。
【0036】
本第5実施例の具体例として以下の装置を用いた。まず前処理槽10”として容積約3Lのアクリル容器を用い、排水1としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液にCaCl2を添加した溶液(導電率1〜2S/m)を容器に保持し、該容器内に150mm×100mm×厚さ5mmのTi陰極19’、金属酸化物被覆Ti陽極20’を配置し、直流電源22を用いて電流密度約250A/m2にて電気分解処理した。ここで得られた処理排水1を後段の処理槽2に循環供給(液流量3L/分)した。本実施形態では同時に、容器中に150mm×100mm×厚さ5mmのPt陰極19”、Pt陽極20”を配置し、電極電位を制御して直流電源22を用いて電流密度約60A/m2にて電気分解処理を合わせて実施し、ここで得られた処理排水1を処理槽2に供給した。
【0037】
前記処理槽2内には陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mmの)外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極4としてTiパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ2内に同軸状に設置した。
処理方法としては、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極と陽極間に高電圧電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
図12に、前記排水を用いて処理前液を参照とし、比較例として▲1▼電解槽処理のみの場合、▲2▼高電圧パルス処理のみの場合、の各処理と、本第5実施例における処理装置を用いた▲3▼電界槽処理+高電圧パルス処理併用の場合でのTOC濃度計測結果を示す。その結果、電界槽処理+高電圧パルス処理併用にて有機分解性能が向上することが確認できた。
【0038】
尚、本第1乃至第5実施例では一例としてノズル電極を用いた高電圧パルス気泡放電によるラジカル生成方式の場合について記述したが、高電圧パルスを用いて電極表面反応を利用したラジカル生成方式などの場合についても適用可能であることはいうまでもない。
また、これらの実施形態に記述した効果を得るに際して、ClO−、HOClと、H2O2を同一の電解槽にて生成・供給する例を示したが、別個の電解槽にて生成・供給しても構わない。また、これらの寸法、材料仕様、電解条件に限定されるものではない。
【0039】
【発明の効果】
以上記載のごとく本発明によれば、有機性物質を含有する排水の処理において、安価な薬剤を利用し、また電力消費量も抑えることができるためランニングコストを低廉化することができる。
また、非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルを効率良く発生させることができるため、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って除去すること可能となり、処理水性状を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施例の排水処理装置の構成図である。
【図2】第1実施例における塩素酸イオン濃度処理特性を示すグラフである。
【図3】第1実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図4】本発明に係る第2実施例の排水処理装置の構成図である。
【図5】第2実施例における液pHに対する有効塩素存在比を示すグラフである。
【図6】第2実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図7】本発明に係る第3実施例の排水処理装置の構成図である。
【図8】第3実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図9】本発明に係る第4実施例の排水処理装置の構成図である。
【図10】第4実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図11】本発明に係る第5実施例の排水処理装置の構成図である。
【図12】第5実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図13】従来の排水処理装置の構成図である。
【符号の説明】
2 処理槽
3 陰極ノズル
4 陽極
5 高電圧パルス電源
6 ガスタンク
8 液供給管
10、10’、10” 前処理槽
12 後処理装置
15 絶縁体
16 次亜塩素酸系薬剤含有液タンク
17a、17b 添加液供給管
18 電解処理槽
22 直流電源(パルス電源)
23 H2O2含有液タンク
26 pH調整液タンク
【発明の属する技術分野】
本発明は、畜産糞尿、し尿、下水、埋立て浸出水、食品加工廃液、及び工場廃液等の有機性物質含有排水を対象とした排水処理装置及び該方法に関し、特に電気化学的に有機性物質を分解除去する高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、有機性物質を含む排水の処理は、主として活性汚泥法、間欠曝気消化法、脱窒法等によって行われている。しかしながら、これらの方法はいずれも生物分解法であるため、処理されるべき排水が難分解性の有機性物質を多量に含有している場合、該排水を大量の水を加えることにより希釈しなければならず、排水の処理量を増大させることとなるため、電力消費量の増大及び排水処理コスト高を生じていた。また、生物分解のための長い反応時間(数日〜数週間)が必要という問題点を有していた。
【0003】
このような問題点を改善する目的で、近年、電気化学的な処理装置の開発が活発に行われている。電気化学的な排水処理としては、米国特許第5464513号公報(特許文献1)等に開示されるように、有機性物質含有排水を水中高圧パルス放電処理することにより該有機性物質を分解処理する方法が挙げられる。
かかる方法は、高圧パルス放電により殺菌を行うとともに、放電により発生する酸化物により有機性物質を分解する方法であり、薬品を使用することなく汚泥も発生しないという利点を有している。
さらに、高圧パルス放電と、沈殿分離装置及び濾過分離装置等の分離装置とを組み合わせて汚濁物も同時に除去可能とした排水処理装置も提案されている。(例えば特許文献2)
【0004】
また、別の電気化学的な処理として、図13に示すように、有機性物質を含有する排水を保持した処理槽02内に陽極04と陰極03を対向させて配置し、ガスタンク06より両電極間に気泡13を発生させながら、高電圧パルス電源5より該電極間に高電圧パルスを印加し、水中高圧パルス放電処理することにより有機性物質を分解する装置も用いられている。このとき、特開2001−293478公報(特許文献3)に開示される処理装置は、前記ガスタンク06をオゾン発生器としてオゾンからなる気泡を処理槽02内に導入する構成としている。
【0005】
これは、前記電極間に印加した高電圧パルスにより気泡存在域に電界が形成され、気泡内での放電(気泡放電)が生じたり、気泡から液に、又は電極から液へ延びた液中放電が生じ、酸化力の大きいOHラジカル(ヒドロキシラジカル)等の酸化ラジカルが発生し、該酸化ラジカルにより排水中の有機性物質の分解が促進される作用を利用した方法である。さらに、前記気泡がオゾンであることから、気泡放電若しくは液中放電によりオゾンを原料としてOHラジカルが発生し易くなり、有機性物質の分解が促進されることとなる。(例えば、特許文献4等)かかる処理法により、電力消費量並びに排水処理コストの低減や、反応時間の短縮化が図られるようになってきた。
【0006】
【特許文献1】
米国特許第5464513号公報
【特許文献2】
特開平10−323674号公報
【特許文献3】
特開2001−293478公報
【特許文献4】
特表2002−538960公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特許文献1乃至3等に開示される処理法では低濃度の有機性物質を含む排水の処理には適しているが、水中放電を生じさせるために高電圧が必要となり、高濃度の有機性物質を含有する排水の場合は導電率が高いため、高電圧を印加するためには大電流の供給が必要で処理効率が悪化するという問題があり、実用化に際してはさらに分解性能を向上させる必要が生じていた。
【0008】
また、特許文献4に開示される処理では、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を比較的高除去率で処理可能であるが、オゾンは人体に有害であるため取り扱いが困難であるとともに、オゾンが高価であるためランニングコストが嵩むという問題を有している。
従って本発明はかかる従来技術の問題に鑑み、処理コストが安価でかつ高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って処理可能な高電圧パルスを利用した排水処理装置及び該方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明はかかる課題を解決するために、
排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理装置において、
前記処理槽若しくはその前段に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段を設けるとともに、前記処理槽に気体供給手段を設け、
高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする。
【0010】
また、高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽を備え、該処理槽内で排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する排水処理装置において、
前記処理槽に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段と、電気導電体で形成された気体供給ノズルを備えた気体供給手段とを設け、
前記気体供給ノズルを前記高電圧パルス電源と接続するとともに、該ノズル先端を露出させた状態で該ノズルの外周を絶縁被覆することにより該ノズルを前記電極のうち一方の電極と為し、
前記気体供給ノズルからなる電極と他方の電極間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して排水中に気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする。
【0011】
かかる発明では、ClO−またはHClO等の次亜塩素酸系物質を含有する溶液を高電圧パルス放電処理することにより、有機性物質の分解反応を促進するヒドロキシラジカル(・OH)及び酸素ラジカル(・O)等の酸化ラジカルが有効に生成されるため、有機性物質の除去率が向上する。このとき生成した酸化ラジカルは、非常に強力な酸化力を有するために排水中の有機性物質と反応して該有機性物質を酸化分解し、最終的にはCO2として排出される。
これらの発明によれば、安価な薬剤を利用し、また電力消費量も抑えることができるためランニングコストを低廉化することができる。
また、非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルを効率良く発生させることができるため、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って除去すること可能となり、処理水性状を向上させることができる。
【0012】
また、これらの発明において、前記処理槽内にpH調整手段を設け、該処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする。このとき、排水のpH値がpH5〜10の範囲内となるように調整することが好適である。前記酸化ラジカルは、次亜塩素酸から直接的に反応して生成するため、排水中に次亜塩素酸イオン若しくはその他の形態として存在する次亜塩素酸系物質のうち、次亜塩素酸の存在確率を大とすることにより酸化ラジカルが生成し易くなる。
【0013】
さらに、前記処理槽内に過酸化水素を添加する手段を設け、前記次亜塩素酸系物質とともに酸化ラジカルの生成を促進するように構成すると良い。かかる発明は、排水中で次亜塩素酸系物質と同様に気泡放電により酸化ラジカルを生成する過酸化水素を添加することで、酸化ラジカルの生成効率をより一層向上させるものである。
また、前記液体供給手段が、前記処理槽の前段に設けられ、直流電源若しくはパルス電源に接続された一対以上の電極を有する前処理槽であり、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加することにより生成した次亜塩素酸系物質を前記処理槽に供給することを特徴とする。これにより、次亜塩素酸系物質や過酸化水素等の薬剤を外部より供給する必要がなくなり、次亜塩素酸系物質のオンサイトでの供給が可能となる。
【0014】
また、排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
前記処理槽内に次亜塩素酸系物質を添加するとともに気体を供給し、高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする。
【0015】
さらに、排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
一対以上の電極を有する前処理槽にて、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加して電界反応により次亜塩素酸系物質を生成した後、
前記処理槽にて、前記生成した次亜塩素酸系物質を含有する排水に高電圧パルスによる気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする。
【0016】
これらの処理方法の発明において、前記処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする。このとき、排水のpH値がpH5〜10の範囲内となるように調整することが好適である。
また、前記処理槽内の排水に過酸化水素を添加し、前記次亜塩素酸系物質とともに前記酸化ラジカルの生成を促進させると良い。
これらの発明によれば、前記処理装置に関する発明とほぼ同様の作用及び効果を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例を例示的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例に過ぎない。
図1は本発明に係る第1実施例の排水処理装置の構成図、図4は本発明に係る第2実施例、図7は本発明に係る第3実施例、図9は本発明に係る第4実施例、図11は本発明に係る第5実施例を夫々示す排水処理装置の構成図である。尚、従来技術に関する図面を含め全図に亘り同一部分には同一の符号を付している。
【0018】
まず、図1を参照して本発明に係る第1実施例の排水処理装置を説明する。
図1では、有機性排水1を保持する処理槽2内にガス供給機構を兼用する陰極ノズル3及び陽極4が配置されている。前記陽極4は液体供給口に配設しても良い。両電極には高電圧パルス電源5が接続され、処理条件に適合したパルス電力が供給される。前記陰極ノズル3には、気泡放電を行わせるために、ガスタンク6からガス供給配管7を通じて所望の種類及び量のガスが供給される。該ガスタンク6はコンプレッサで代替することも可能である。このガス供給により、排水1中の前記陰極ノズル3の先端に気泡13が発生する。
【0019】
前記処理槽2は、液供給管8及び液供給ノズル9を介して前処理槽10と、また液排出管11を介して後処理槽12と夫々接続される。さらに、該処理槽2には、次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16から添加液供給管17aを介して前記陰極ノズル3に次亜塩素酸系薬剤含有液が供給される構成となっている。該次亜塩素酸系薬剤含有タンク16には、ClOイオン、HOCl等の次亜塩素酸系薬剤を所定濃度で含有する液体が保持されている。前記ガス供給配管7、添加液供給管17aは夫々バルブ等の液量制御手段により適宜添加量を調整可能な構成とする。さらに、かかる処理槽2内の排水1は前記陰極ノズル3からの気泡13により撹拌状態となっているが、撹拌翼、排水循環手段(不図示)等の機械的撹拌手段を設ける構成としても良い。かかる構成により処理槽2内には気体と液体が別個に供給され、処理槽2内で混合される。
【0020】
本実施例では図1に示すように、前記陰極ノズル3に一方の電極(陰極3)を、これと対向させて他方の電極(陽極4)を配置し、該電極が処理槽外部に設けられた高電圧パルス電源5に夫々接続されている。また、金属導電体からなる陰極ノズル3の電極の外周表面を絶縁体15により絶縁被覆すると共に陰極ノズル3の端部のみを被覆露出させている。
そして、前記高電圧パルス電源5により両電極間にパルスを含む高周波電圧を印加することにより、排水1中に生じた気泡13で放電14を発生させて、ラジカルを生成し、排水中の有機性物質を分解処理するとともに、該高電圧パルスを印加処理する排水に次亜塩素酸系薬剤含有液を添加することにより、有機分解性を向上させることが出来る。
【0021】
このように、ClO−またはHClOを含む溶液を高電圧パルス処理することにより、下記反応(1)、(2)、(3)が生じ、有機性物質の分解反応を促進するヒドロキシラジカル(・OH)及び酸素ラジカル(・O)等の酸化ラジカルが有効に生成される。
H+ +ClO− → HClO …(1)
HClO → Cl− +・OH …(2)
HClO → HCl +・O …(3)
このとき生成した酸化ラジカルは、非常に強力な酸化力を有するために排水中の有機性物質と反応して該有機性物質を酸化分解し、最終的にはCO2として排出される。
【0022】
図1の構成における具体的な実施例として、陰極ノズル3にTiパイプ(外径φ10mm×内径φ8mm)を用い、該パイプの外周を絶縁体15であるテフロン(登録商標)で被覆し、Tiパイプ内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、また陽極4としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、処理槽2である容積約0.5Lの処理槽ビーカ内に同軸状に設置した。
かかる処理方法は、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsの高電圧パルスを繰り返し周波数1kHzにて印加した。
【0023】
処理対象液(排水1)として蒸留水にNa2SO4を溶解させた模擬液(液導電率約1〜2S/m)を使用し、NaClO溶液を50〜3000mg/Lの範囲で添加した。図2にNaClOを添加して高電圧パルス処理を30分実施した場合の塩素酸イオン濃度計測結果を示す。該処理によりClO濃度が低減していることから、ClOが分解消滅していることが明白である。
また、処理対象液としてし尿にポリ塩化アルミニウム(以下、PACと記載)を加えてSS分(浮遊物質)を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L添加した場合に、高電圧パルス処理を30分実施した際の全有機炭素濃度(TOC)濃度特性を図3に示す。NaClO添加に伴い、TOC分解の効率が向上していることが明白である。
ClOイオン量は多い方が酸化ラジカル生成には好ましいと考えられるが、液導電率も増加し、高電圧パルス印加時の放電電圧が低下(または電流が増加)するため、これに応じて適宜ClOイオン量を設定する。好適には本実施例により好適な結果が得られたClOイオン濃度10〜1500mg/Lの範囲であることが望ましい。
【0024】
次に、図4に基づき本発明の第2実施例について説明する。図4において、前記第1実施例と同様に、処理槽2には前処理槽10及び後処理槽12が夫々液供給管8、液供給ノズル9及び液排出管11を介して接続され、また次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16が添加液供給管17aを介して接続されている。さらに、前記第1実施例と同様の構成を有する陰極ノズル3と陽極4とがケーブルを介して高電圧パルス電源5に接続され、処理条件に適合したパルス電力が供給される。前記陰極ノズル3は、ガスタンク6よりガス供給配管7を介して空気等の気体が供給され処理槽2内に気泡を発生させる構成となっている。また、該陰極ノズルは絶縁体15により絶縁被覆され、先端を露出させている。
【0025】
さらに、本第2実施例では液pH調整タンク26を設け、排水1のpH値を測定するpHセンサ24からの測定値に基づき、該液pH調整タンク26からのpH調整薬剤添加量を、排水のpH値が酸化ラジカルの発生し易い値となるように液pH制御装置25により制御している。
かかる実施例では、両電極間にパルスを含む高周波電圧を印加することにより、排水中に生じた気泡で放電を発生させて、酸化ラジカルを生成し、排水中の有機性物質を分解処理すると共に、該高電圧パルスを印加処理する溶液にClOまたはHOClを添加する処理方法において、排水の液性をpH=5〜10程度に調整する機構を具備することにより、有機分解性をさらに向上させることが出来る。
【0026】
これは、以下のことから説明される。
図5(Clイオン濃度3550ppmの場合)に示すように、有効塩素の存在形態は液pHに依存する特性を有している。即ち、HClO、ClO−、Cl2間の存在確率は、pH依存性を有しているため、かかる実施例のように液性をpH=5〜10程度に調整することにより、効率的にHClOの存在確率を向上させることが出来る。
従って、pHを適正な値とすることにより前記式(1)の反応を効率良く誘起することが出来、その結果、式(2)、(3)に示す反応にて有機性物質の分解に有効な・Oや・OHなどの酸化ラジカルが容易に生成され、排水を効率的に分解処理することが可能となる。
尚、前記pH調整薬剤は、例えば酸剤として硫酸、塩酸及びアルカリ剤として苛性ソーダ、炭酸ナトリウム、消石灰等が挙げられる。
【0027】
図4の構成における具体的な実施例として以下のような装置を用いた実験を行った。処理対象液(排水1)としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L添加し、かつH2SO4を適量追加してpH=6.5に調整し、高電圧パルス処理を30分間実施した。
このときの全有機炭素濃度(TOC)濃度特性を図6に示す。NaClO添加に加えてpH調整することにより、TOC分解の効率が向上していることが明白である。ClOイオン量は、前記第1実施例と同様に、処理に際して好適な範囲に設定する。
【0028】
図7は本発明の第3実施例を示し、前記第1実施例と同様に処理槽2に接続された前処理槽10’、後処理槽12を有するとともに、高電圧パルス電源5に接続された陰極ノズル3及び陽極4と、該陰極ノズル3に気体を供給するガスタンク6を有する構成としている。
また本第3実施例では、前記前処理槽10’に設けられた直流電源(またはパルス電源)22にケーブル21を介して夫々接続された一対以上の陰極19及び陽極20を排水中に浸漬させており、該電極間に直流電圧またはパルス電圧を印加して、電界反応を利用することにより酸化ラジカルを生成するイオン(または分子)種を供給している。
この場合、前記第1、第2実施例のように薬液保管及び供給機構を設置する必要がなく、電気エネルギーを用いて直接該イオン(または分子)種を供給することが出来るので、設備コンパクト化、設備保守の簡素化が図られる。
【0029】
かかる実施例の具体例として、前記前処理槽10’に容積約3Lのアクリル容器を用い、排水1としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液にCaCl2を添加した溶液(導電率1〜2S/m)を前処理槽10’内に保持し、該前処理槽10’内に150mm×100mm×厚さ5mmのTi陰極19、及び金属酸化物被覆Ti陽極20を配置し、直流電源22を用いて電流密度約250A/m2にて電気分解処理した。そして、ここで得られた処理排水1を後段の処理槽2に循環供給(液流量3L/分)した。
【0030】
前記陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ内に同軸状に設置した。処理方法として、陰極ノズル3にガスタンク6より大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、所定時間、陰極ノズル3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
【0031】
ここで前記排水を用い、処理前液を参照とし、比較例として▲1▼処理槽での電解処理(以下、電解槽処理と呼称)のみの場合、▲2▼高電圧パルス処理のみの場合、の各処理と、本第3実施例における処理装置を用いた▲3▼電界槽処理+高電圧パルス処理併用の場合の夫々の処理におけるTOC濃度計測結果を図8に示す。その結果、電界槽処理+高電圧パルス処理併用にて最も有機分解性能が向上することが確認できた。
尚、本願に記述した効果を得るに際して何れの実施例においてもこれらの寸法、材料仕様、電解条件に限定されるものではない。
【0032】
さらに、図9に示す本発明の第4実施例では、前記第1実施例と同様に処理槽2に接続された前処理槽10、後処理槽12を有するとともに、高電圧パルス電源5に接続された陰極ノズル3及び陽極4と、該陰極ノズル3に気体を供給するガスタンク6と、処理槽2内に次亜塩素酸系薬剤を供給する次亜塩素酸系薬剤含有液タンク16とを有する構成としている。
また本第4実施例では、H2O2含有液タンク23が設けられ、該H2O2含有液タンク23から添加液供給管17bを通じて処理槽2内にH2O2含有液が供給される構成としている。このように、ClO、HOClに加えて、H2O2も同時に添加供給することにより、有機分解性能を向上することが出来る。
【0033】
これは、前記式(1)〜(3)反応に加えて、下記式(4)の反応が同時に生じるため、有機分解に有効な・OHの生成効率が増加するためである。
H2O2 → 2・OH …(4)
また、添加するH2O2濃度が高い方がOH生成に有効と考えられるが、過多となると下記反応式(5)により・OHを消費する反応も共存することとなり、適正なH2O2濃度範囲が存在する。
・OH +H2O2 →HO2 +O2 …(5)
従って、経験的にはClOイオン濃度100〜1500mg/L、H2O2濃度0.1〜100mg/Lの範囲であることが望ましい。
【0034】
図9の処理装置における具体的な実施例として、陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mm)の外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側に、ガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極4としてTi(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ2内に同軸状に設置した。
かかる実施例の処理方法として、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極3と陽極4間に高電圧パルス電源5から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。処理対象液(排水1)としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液を使用し、これにNaClO溶液を1000mg/L、H2O2を50mg/L添加した場合に、前記高電圧パルス処理を30分実施した。
このときのTOC濃度特性を図10に示す。NaClO及びH2O2添加に伴い、TOC分解の効率が向上していることが明白である。
【0035】
図11は本発明の第5実施例であり、かかる実施例では酸化ラジカルを生成するイオン(または分子)種を前記実施例1のように薬液添加ではなく、前処理槽10”内の排水1中に設けられた二対の電極に、直流電源(またはパルス電源)22により直流電圧またはパルス電圧を印加し、電界反応を利用してイオン(または分子)種を生成し、処理槽2に供給する構成としている。
この場合、薬液保管及び供給機構を設置する必要がなく、電気エネルギーを用いて直接該イオン(または分子)種を供給することが出来るので、設備コンパクト化、設備保守の簡素化が図られる。
【0036】
本第5実施例の具体例として以下の装置を用いた。まず前処理槽10”として容積約3Lのアクリル容器を用い、排水1としてし尿にPACを加えてSS分を沈殿除去した上澄み液にCaCl2を添加した溶液(導電率1〜2S/m)を容器に保持し、該容器内に150mm×100mm×厚さ5mmのTi陰極19’、金属酸化物被覆Ti陽極20’を配置し、直流電源22を用いて電流密度約250A/m2にて電気分解処理した。ここで得られた処理排水1を後段の処理槽2に循環供給(液流量3L/分)した。本実施形態では同時に、容器中に150mm×100mm×厚さ5mmのPt陰極19”、Pt陽極20”を配置し、電極電位を制御して直流電源22を用いて電流密度約60A/m2にて電気分解処理を合わせて実施し、ここで得られた処理排水1を処理槽2に供給した。
【0037】
前記処理槽2内には陰極ノズル3としてTi(外径φ10mm×内径φ8mmの)外周をテフロンからなる絶縁体15で被覆した管の内側にガラスパイプ(外径φ4mm×内径φ2mm)を配置し、陽極4としてTiパイプ(外径φ60mm×内径φ54mm)を用いて、容積約0.5Lの処理槽ビーカ2内に同軸状に設置した。
処理方法としては、陰極ノズル3に大気エアを供給し、Ti陰極内側とガラス外周との隙間流路にエアを1〜2L/分供給しながら、一定時間、陰極と陽極間に高電圧電源から電圧2kV、パルス幅約1μsのパルス高電圧を繰り返し周波数1kHzにて印加した。
図12に、前記排水を用いて処理前液を参照とし、比較例として▲1▼電解槽処理のみの場合、▲2▼高電圧パルス処理のみの場合、の各処理と、本第5実施例における処理装置を用いた▲3▼電界槽処理+高電圧パルス処理併用の場合でのTOC濃度計測結果を示す。その結果、電界槽処理+高電圧パルス処理併用にて有機分解性能が向上することが確認できた。
【0038】
尚、本第1乃至第5実施例では一例としてノズル電極を用いた高電圧パルス気泡放電によるラジカル生成方式の場合について記述したが、高電圧パルスを用いて電極表面反応を利用したラジカル生成方式などの場合についても適用可能であることはいうまでもない。
また、これらの実施形態に記述した効果を得るに際して、ClO−、HOClと、H2O2を同一の電解槽にて生成・供給する例を示したが、別個の電解槽にて生成・供給しても構わない。また、これらの寸法、材料仕様、電解条件に限定されるものではない。
【0039】
【発明の効果】
以上記載のごとく本発明によれば、有機性物質を含有する排水の処理において、安価な薬剤を利用し、また電力消費量も抑えることができるためランニングコストを低廉化することができる。
また、非常に強力な酸化力を有する酸化ラジカルを効率良く発生させることができるため、高濃度の有機性物質を含有する排水であっても有機性物質を高除去率で以って除去すること可能となり、処理水性状を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施例の排水処理装置の構成図である。
【図2】第1実施例における塩素酸イオン濃度処理特性を示すグラフである。
【図3】第1実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図4】本発明に係る第2実施例の排水処理装置の構成図である。
【図5】第2実施例における液pHに対する有効塩素存在比を示すグラフである。
【図6】第2実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図7】本発明に係る第3実施例の排水処理装置の構成図である。
【図8】第3実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図9】本発明に係る第4実施例の排水処理装置の構成図である。
【図10】第4実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図11】本発明に係る第5実施例の排水処理装置の構成図である。
【図12】第5実施例におけるTOC濃度処理特性を示すグラフである。
【図13】従来の排水処理装置の構成図である。
【符号の説明】
2 処理槽
3 陰極ノズル
4 陽極
5 高電圧パルス電源
6 ガスタンク
8 液供給管
10、10’、10” 前処理槽
12 後処理装置
15 絶縁体
16 次亜塩素酸系薬剤含有液タンク
17a、17b 添加液供給管
18 電解処理槽
22 直流電源(パルス電源)
23 H2O2含有液タンク
26 pH調整液タンク
Claims (9)
- 排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理装置において、
前記処理槽若しくはその前段に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段を設けるとともに、前記処理槽に気体供給手段を設け、
高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする高電圧パルスを利用した排水処理装置。 - 高電圧パルス電源に接続された一対以上の電極を有する処理槽を備え、該処理槽内で排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する排水処理装置において、
前記処理槽に次亜塩素酸系物質含有液を添加する液体供給手段と、電気導電体で形成された気体供給ノズルを備えた気体供給手段とを設け、
前記気体供給ノズルを前記高電圧パルス電源と接続するとともに、該ノズル先端を露出させた状態で該ノズルの外周を絶縁被覆することにより該ノズルを前記電極のうち一方の電極と為し、
前記気体供給ノズルからなる電極と他方の電極間に高電圧パルスを印加しながら気体を供給して排水中に気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進させる構成としたことを特徴とする高電圧パルスを利用した排水処理装置。 - 前記処理槽内にpH調整手段を設け、該処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする請求項1若しくは2記載の高電圧パルスを利用した排水処理装置。
- 前記処理槽内に過酸化水素を添加する手段を設け、前記次亜塩素酸系物質とともに酸化ラジカルの生成を促進するように構成したことを特徴とする請求項1若しくは2記載の高電圧パルスを利用した排水処理装置。
- 前記液体供給手段が、前記処理槽の前段に設けられ、直流電源若しくはパルス電源に接続された一対以上の電極を有する前処理槽であり、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加することにより生成した次亜塩素酸系物質を前記処理槽に供給することを特徴とする請求項1若しくは2記載の高電圧パルスを利用した排水処理装置。
- 排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
前記処理槽内に次亜塩素酸系物質を添加するとともに気体を供給し、高電圧パルスによる気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする高電圧パルスを利用した排水処理方法。 - 排水に高電圧パルス放電処理を施し、生成した酸化ラジカルにより該排水中の有機性物質を分解処理する処理槽を備えた排水処理方法において、
一対以上の電極を有する前処理槽にて、該電極間に直流電圧若しくはパルス電圧を印加して電界反応により次亜塩素酸系物質を生成した後、
前記処理槽にて、前記生成した次亜塩素酸系物質を含有する排水に高電圧パルスによる気泡放電を発生させ、該気泡放電下に次亜塩素酸を存在させることにより酸化ラジカルの生成を促進することを特徴とする高電圧パルスを利用した排水処理方法。 - 前記処理槽内の排水中の次亜塩素酸存在率が大となるようにpH調整することを特徴とする請求項6若しくは7記載の高電圧パルスを利用した排水処理方法
- 前記処理槽内の排水に過酸化水素を添加し、前記次亜塩素酸系物質とともに前記酸化ラジカルの生成を促進させることを特徴とする請求項6若しくは7記載の高電圧パルスを利用した排水処理方法。
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