JP2014534045A - 有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置 - Google Patents

有機汚染物質及び化学的微生物性汚染物質を水から除去するための装置 Download PDF

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Abstract

本装置は、微生物性汚染物質、有機汚染物質及び化学汚染物質を水から除去するよう意図される。本提唱の技術的結果は、製造するのが単純で、高価な機械装置及び電気装置を含んでおらず、かつ水及び水溶液中の細菌性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質に及ぼす効率的な作用(毒物を利用することを含む。)を可能にする装置の製造である。該技術的結果は、水から微生物性汚染物質、有機汚染物質及び化学汚染物質を除去するための装置が、作業チャンバー、液体ポンピングシステム、装置へ気体を供給するためのシステム、及び電極間空間への気体注入を伴う多電極放電装置を備えている点で達成され、この中で、作業チャンバーは、液体をポンピングするための誘電性円筒状パイプの形態にあり、かつ放電装置の電極は、等間隔で環中にパイプの内側面上に装着され、この中で、電極の表面は、誘電性材料で被覆され、電極の「作業」表面の間には、空洞への及び電極間空間への気体の通過のための開口部があり、かつ高電圧及び気体を放電装置へ供給するためのシステムは、作業チャンバーの外側に配置される。【選択図】 なし

Description

本発明は、生態環境に関し、特に液体(水、水溶液、及びこれらに類するもの)を化学的プラズマ技術によって処理して、(毒物の処分に対する)該液体の微生物成分及び化学成分に及ぼす効果を生じるための機器に関する。
水中で生じる放電を使用して、微生物性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質から水を精製することは、電気物理的な生態環境技術(電子ビーム、オゾン化、放電など)の有望な分野である。これらの技術は、有害かつ危険な塩素含有物質及びフッ素含有物質が使用されることを必要としないという点で、その他の技術とは異なる。水中で生じる非常に有効な放電は、該これらの技術のうちで最も単純であり、かつ最も安価である。
水及び水溶液に及ぼすパルス高電圧放電の効果が以下の因子によって与えられることは常識である:
1.局所的効果:放電は、リーダ及びストリーマのプラズマチャネルの領域において焦点合わせされており、水和した電子、イオン、及び活性ラジカル(10mm以下の範囲内で有効)の効果に起因する;及び
2.非局所的効果:活性OHラジカル(30〜40mm以下の範囲内で有効)の発生などの直接的かつ光分解性のある効果などを有する波動過程―機械的(音波及び衝撃波)及び電磁的(紫外放射)。
これらの因子はすべて、液体に及ぼす相乗効果を発揮する。
有意な点にしているのは、化学汚染物質を含有する水が一般的に、比較的低いパルスエネルギー(0.1〜10J)でパルス高電圧放電の発生を妨げる高い導電率を有することである。これらの問題を迂回する1つの方法は、電極間の間隙に気泡を導入することである(非特許文献1)。
従来技術の機器は、多電極放電装置及び該電極間の間隙を通じてポンピングされた難燃性気体(空気、窒素、アルゴン、又はその他)を使用して、液体(水及び水溶液)中で周期的なパルス放電を生じ、ある効果を該液体の微生物成分、有機成分、及び化学成分に及ぼす(特許文献1)。
液体中に浸漬した前記装置は、互いから等間隔離して配置されたn個の円筒状の環状電極(ステンレス鋼製、銅製、チタン製、又はその他)によって外表面の囲まれた円筒状の誘電性パイプである。電極の両端は作業表面であり、電極の外側円筒状表面は絶縁性材料で被覆されている。電極間の間隙における誘電性パイプの壁には、気泡がパイプ内部から液体中へと入るために、直径1mm以下の数個の孔が提供される。高電圧がこの2つの僻遠の電極に、1つの電極には直接、もう1つの電極にはパイプ内を走る帰路導体を通じて印加される。
気泡中で生じた放電は、強力な紫外放射及び活性粒子(O、H、OH、Oなど)の源である。
気泡の崩壊の際に生じる強力な音波及び衝撃(紫外)波は、ある効果を液体の微生物成分、有機成分、及び化学成分に発揮するさらなる因子である。
従来技術の機器は、以下の弱点を有する:
1.放電装置の線形幾何学形状は、焦点合わせされている放電によって生じる紫外放射及び音波の可能性を除外し;
2.水中に放電装置及びシステムを配置して高電圧及び気体を放電装置に供給することは困難かつ不便であり、放電装置は、放電システムがその中で作動しているときに液流をさらに妨害し;、
3.液流中に配置された放電装置によって作られる静水圧は、放電装置の長さに沿って提供される孔を通じて気体を不規則に流れさせるので、放電チャネルの安定性及び同一性に影響を及ぼす可能性があり;かつ
4.機器は全体として比較的複雑な設計を有する。
米国特許第6,558,638号明細書、公開後登録、2002年2月7日
K.A.Nagulny及びN.A.Roy著、「An Electric Discharge in Water(水中での放電)」Nauka社、モスクワ;1971
本発明の目的は、紫外放射及び音波を焦点合わせすることによって、水精製能力を操作する範囲を拡大することである。
本発明の技術的な結果は、作製するのが単純で、いかなる高額な機械装置も電子装置も備えておらず、かつ水中及び水溶液中の細菌性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質に及ぼす顕著な効果(毒物の廃棄を含む。)を発揮する機器である。
本発明の技術的な結果は、水を微生物性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質から精製するための機器であって、作業チャンバー、水ポンピングシステム、該機器へ気体を供給するためのシステム、及び多電極放電装置を備えた該機器において得られるものであり、多電極放電装置において、気体は電極間の間隙へと注入され、作業チャンバーは、液体が通ってポンピングされる円筒状誘電性パイプとして設計されており、放電装置の電極は、互いに等間隔で円をなしてパイプの内側面に提供されており、電極の表面は、電気的に絶縁性の材料で被覆されており、孔は、チャンバー及びパイプ空間へ気体を入れるために電極の「作業」表面間に提供され、かつ高電圧及び気体を放電装置へ適用するためのシステムは、作業チャンバーを越えて提供される。
図1は、液体をポンピングするための誘電性パイプの断面図を示し; 図2は、液体をポンピングするための誘電性パイプの断面図を示し; 図3は、前記機器の等価電気回路図を示し; 図4は、前記機器の等価電気回路図を示し; 図5は、環状放電装置の1つの断面の2つの突起の図であり;かつ 図6は、水処理機器の概略図である。
図1における請求した機器の概略図は、処理中の水が通ってポンピングされる誘電性パイプ1と該パイプの内側面に提供される放電システムの断面図を示す。N個の、より具体的には、N=8の電極2は、互いに等間隔で誘電性パイプ1の内側面上に円状に配置される。パイプの中央線に面する電極の表面は、電気的に絶縁性の材料5で被覆され、直径d≦1mmの孔3は、気体を中空4へと、かつさらには電極間の間隙へと入れるために、電極の「作業」表面6の間の誘電性パイプにおいて提供される。
高電圧は、2つの正対する電極に適用され、結果として、1つの電火が電極間の間隙に当たり、プラズマチャネルは活性粒子(水和した電子、H、OH、Oなど)、強力な紫外放射、及び水力学的妨害(音波及び衝撃波)の源として形成される。
前記機器の等価電気回路図が図3に示されている。
水は、伝導性の誘電性物質である。図3に示す等価の抵抗(R1〜R5)は、個々の電極とアースの間の水抵抗である。この高電圧適用の回路図において、放電電流は、該回路の2つの対称的な断面において並列に流れ(電火間隙2−1及び4−6)、数(1’〜6’)は、電極間の電火間隙における気泡を示す。
円状に対称的な関係で形成する放電チャネルは、水上での放電電火のより高い効率を達成するために、紫外放射及び水力学的妨害を焦点合わせするよう機能する。
放電の有効な形成は、電極間の間隙における2つの媒体(水及び気体)の間の界面によって容易になされる。高い水透過度ε=81は、液体−気体界面において気体中の電場を強化し、火花連絡閾値を有意に低下させる。強化された電場及び等価の抵抗は、水がパイプを通ってポンピングされるにつれて、パイプの内側面に沿って這う環状放電の発達を刺激する。
図2は、電極間の電火間隙における気泡を(1’−6’で)示す高電圧適用の別の回路図を示す。この回路において、電流はすべての電火間隙を通って直列に流れる。個々の等価回路図は図4に示されている。
図5は、環状放電装置の1つの断面の2つの突起を示す。下の図は、パイプ1の内側面の直断面であり、電極2、気体注入孔3、気体蓄積中空4、誘電性材料層5、及び電極の「作業」面6を示す。
パイプの内側面に装着された放電システム12はそれゆえ、液体の流れを妨げず、かつ、気体配管と放電装置への高電圧を印加する配線とはすべて、パイプの外側面に提供される。
放電は、以下の特徴を有する高電圧パルスの周期的なパルス発生装置によって動力を与えられる:電圧U≦20kV、パルス反復速度f≦100Hz、及び保持容量エネルギーW≦2J(C=10−8F)。結果として、該発生装置は、電流I≦300A、電流パルス持続時間τ=3〜5μ秒、及び平均電力N≦200Vを発生させる。
図6は、処理中の水又は水溶液が通ってポンピングされるパイプに沿って間隔のあいた5つの環状放電装置を有する水処理機器の概略図を示す。該機器は、誘電性パイプ1、スペーサー7、タップ8、栓9、密封ゴムカバー10、空気供給ニプル11、放電発生システム12、ポート13、シール14、及びカラー15を備えている。
各環状源は、5チャネル高電圧パルス発生装置の個別の出力チャネルに接続され、各チャネルは、前記機器が平均電力N=10Vを発生させるために、上記のとおりの特徴を有する。
前記機器は、以下の通り操作される:気体はニプル11を通じて注入され、液体はタップ8を通じてポンピングされ、その際、高電圧が放電装置に適用される。
気体注入速度及び液体ポンピング速度は調整可能である。処理される液体を通過する気体は、発泡装置へ供給される。
請求される機器は、(種々の興業の水源を含む水の天然体における)水の微生物性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質から水を精製するために使用されてもよい。

Claims (1)

  1. 微生物性汚染物質、有機汚染物質、及び化学汚染物質から水を精製するための機器であって、作業チャンバー、液体ポンピングシステム、気体を該機器へ供給するためのシステム、及び多電極放電装置を備えており、気体は電極間の間隙へと注入され、作業チャンバーは通る液体をポンピングするための円筒状の誘電性パイプであり、放電装置の電極は、互いに等間隔で円状にパイプの内側面上に提供されており、電極の表面は電気的に絶縁性の材料で被覆され、孔は気体を中空へ及びパイプ空間へと供給するために該電極の「作業」表面間に提供され、並びに高電圧を適用しかつ気体を該放電装置へ供給するためのシステムは、作業チャンバーを越えて提供される、機器。
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4850563A (ja) * 1971-11-01 1973-07-17
JPH09507428A (ja) * 1994-01-11 1997-07-29 サイエンティフィック ユーティリゼイション,インコーポレイテッド ガス注入と電気放電を用いた液体汚染物除去装置
JP2001090038A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Toshiba Corp 配管内水生生物付着防止装置
US20020014400A1 (en) * 1998-03-14 2002-02-07 Zadiraka Yuri Vladimirovich Treatment of liquids
WO2002059045A2 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 WATER WORKS GLOBAL, INC. a Corporation of Delaware, US Device for water activation in an electric non-self-maintained glow discharge
WO2002058839A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Water Works Global, Inc. Method of sewage treatment and decontamination
WO2002058838A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Water Works Global, Inc. Device for sewage treatment and decontamination in a medium of electric non-self-maintained glow discharge
WO2002098799A1 (en) * 2001-06-07 2002-12-12 Splits Technologies Limited Treatment of liquids
JP2003062579A (ja) * 2001-08-27 2003-03-04 Kobe Steel Ltd 液体の処理方法及びその装置
JP2008055262A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Toshiba Corp 放電型水浄化処理装置
JP2009190003A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Yaskawa Electric Corp 水処理装置
JP2010523327A (ja) * 2007-04-11 2010-07-15 ボリソビッチ ザイカ,アレキサンドル ガス放電プラズマによる水及び水溶液の処理方法及びその遂行のための装置
US20110284437A1 (en) * 2010-05-20 2011-11-24 Symbios Technologies LLC Tubular high-density plasma reactor

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4850563A (ja) * 1971-11-01 1973-07-17
JPH09507428A (ja) * 1994-01-11 1997-07-29 サイエンティフィック ユーティリゼイション,インコーポレイテッド ガス注入と電気放電を用いた液体汚染物除去装置
US20020014400A1 (en) * 1998-03-14 2002-02-07 Zadiraka Yuri Vladimirovich Treatment of liquids
JP2001090038A (ja) * 1999-09-22 2001-04-03 Toshiba Corp 配管内水生生物付着防止装置
WO2002058838A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Water Works Global, Inc. Device for sewage treatment and decontamination in a medium of electric non-self-maintained glow discharge
WO2002058839A1 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 Water Works Global, Inc. Method of sewage treatment and decontamination
WO2002059045A2 (en) * 2001-01-25 2002-08-01 WATER WORKS GLOBAL, INC. a Corporation of Delaware, US Device for water activation in an electric non-self-maintained glow discharge
WO2002098799A1 (en) * 2001-06-07 2002-12-12 Splits Technologies Limited Treatment of liquids
JP2003062579A (ja) * 2001-08-27 2003-03-04 Kobe Steel Ltd 液体の処理方法及びその装置
JP2008055262A (ja) * 2006-08-29 2008-03-13 Toshiba Corp 放電型水浄化処理装置
JP2010523327A (ja) * 2007-04-11 2010-07-15 ボリソビッチ ザイカ,アレキサンドル ガス放電プラズマによる水及び水溶液の処理方法及びその遂行のための装置
JP2009190003A (ja) * 2008-02-18 2009-08-27 Yaskawa Electric Corp 水処理装置
US20110284437A1 (en) * 2010-05-20 2011-11-24 Symbios Technologies LLC Tubular high-density plasma reactor

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