CN107592855A - 低温水中等离子体发生装置 - Google Patents

低温水中等离子体发生装置 Download PDF

Info

Publication number
CN107592855A
CN107592855A CN201680026118.9A CN201680026118A CN107592855A CN 107592855 A CN107592855 A CN 107592855A CN 201680026118 A CN201680026118 A CN 201680026118A CN 107592855 A CN107592855 A CN 107592855A
Authority
CN
China
Prior art keywords
electrode
low temperature
generating means
temperature plasma
plasma generating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201680026118.9A
Other languages
English (en)
Inventor
金正镒
全容九
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=55651541&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN107592855(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of CN107592855A publication Critical patent/CN107592855A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/4608—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/467—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis by electrochemical disinfection; by electrooxydation or by electroreduction
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • C02F2001/46133—Electrodes characterised by the material
    • C02F2001/46138—Electrodes comprising a substrate and a coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
    • C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
    • C02F1/46109—Electrodes
    • C02F2001/46152—Electrodes characterised by the shape or form
    • C02F2001/46157—Perforated or foraminous electrodes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/008—Originating from marine vessels, ships and boats, e.g. bilge water or ballast water
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/42—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from bathing facilities, e.g. swimming pools
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/46—Apparatus for electrochemical processes
    • C02F2201/461—Electrolysis apparatus
    • C02F2201/46105—Details relating to the electrolytic devices
    • C02F2201/4612—Controlling or monitoring
    • C02F2201/46125—Electrical variables
    • C02F2201/46135—Voltage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2303/00—Specific treatment goals
    • C02F2303/04—Disinfection
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2431—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes using cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2443—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube
    • H05H1/2465—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes the plasma fluid flowing through a dielectric tube the plasma being activated by inductive coupling, e.g. using coiled electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
    • H05H1/475—Filamentary electrodes

Abstract

本发明涉及低温水中等离子体发生装置。本发明的等离子体发生装置包括管状的第一电极，被配置在所述第一电极的内部，且在被引入到所述第一电极的水中形成气泡的第二电极，和被形成在所述第一电极和第二电极之间的绝缘体，以及用于通过该装置的水中电场的形成来产生低温水中等离子的供电装置。根据本发明，具有以下效果：实现了产生低温等离子体对污水进行灭菌强化的管状低温等离子体发生装置。

Description

低温水中等离子体发生装置
技术领域
本发明涉及低温等离子体发生装置，更具体涉及利用低温等离子对污水进行灭菌的装置。
背景技术
等离子体是离子化的气体，其是固体、液体和气体之外的第四种物质状态。等离子体由基态或激发态的电子、离子和中性物质组成。从宏观的观点来看，等离子体是电中性的。但是，由于等离子体包含自由带电空穴，所以等离子体能够导电。
当气态物质经受强能量时，电子从原子或分子中分离，成为存在电子和正离子的等离子体状态。等离子体是化学氧化还原反应的介质。根据等离子体的激发方法和工作能量，能够制造出低温环境或高温环境，其可以分为低温等离子体或高热等离子体。由于这种宽的温度变化范围，等离子体技术可以应用于表面涂层、气体处理、废物去除、化学氧化还原反应和新材料合成、机器操作等各个领域中。
另一方面，针对水处理，现有方法中使用昂贵的过滤系统、或臭氧、紫外线等，或者作为容易的方法而使用氯等化学试剂。
例如，在用于船舶的压载水的情况下，随着压载水的注入和排放，海水中的有害水生生物体会移动。为了防止外来海洋生物体随着船舶压载水流入到其他国家从而破坏海洋生态环境的问题，目前商业化的压载水处理技术主要有电解、臭氧处理、紫外线消毒和电解等方法。这些方法需要昂贵的设备和高能源消耗。
在对游泳池中的水进行灭菌的情况下，通常用循环过滤和氯进行灭菌。通常，每天进行3至4次的氯的投入和循环过滤。作为用于氯灭菌的氯，大型游泳池中使用氯气，小型游泳池中使用次氯酸钠。氯的投入具有消毒效果完整，容易消毒大量水的优点。然而，由于氯在水中的溶解度低，需要每隔4小时重新投入氯，投入氯是困难的。
关于水中投入氯的水处理技术，由于投入过量的氯，因此存在环境污染和对人体产生不利影响等很多副作用。另外，臭氧处理方法中存在与安装成本和管理成本相比效率不是很高的问题。紫外线照射方法中存在频繁的照射灯的更换，以及因水中的多糖附着在灯的石英管壁导致的有效期间和有效照射距离的减少，密封于石英管中的波长诱发物质在管被破坏时容易泄露具有严重危害性的物质的缺点。
另外，尽管公开了利用低温等离子体的水处理装置和方法，但是由于需要具备水的气相和液相的共存而不仅是水的单独液相的气泡发生装置，因此导致设备的大型化和额外需要单独的安装空间。而且，由于空间限制，使用现有的低温等离子体的水处理受到限制。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：韩国登记特许公报第10-1191146号
发明内容
发明要解決的问题
本发明的一个目的在于提供一种低温等离子体发生装置。
另外，本发明的另一个目的在于提供一种易于安装的低温等离子体发生装置。
另外，本发明的又另一个目的在于提供一种利用低温等离子体对污水进行灭菌的装置。
用于解决问题的手段
为了达到上述目的，本发明提供了一种低温等离子体发生装置，其特征在于，包括：管状的第一电极；第二电极，所述第二电极被配置在所述第一电极的内部，并在被导入到所述第一电极的水中产生气泡；以及绝缘体，所述绝缘体被形成在所述第一电极和第二电极之间。绝缘材料是无机氧化物或高分子聚合物。
优选地，低温等离子体发生装置还包括容纳所述第一电极和第二电极的管。另外，低温等离子体发生装置还包括在所述第一电极与第二电极之间施加电压的供电装置，所施加的电压在所述第一电极与第二电极之间产生等离子体的电压以上，且在导致所述绝缘体介质击穿的电压以下。
优选地，所述第一电极和第二电极彼此保持预定间距。所述第一电极的管壁是网状的或多孔状的。所述第一电极包括钛(Ti)，涂覆有过渡金属。
优选地，所述第二电极通过分配被引入到所述第一电极的水产生气泡。所述第二电极中，多个单元电极以固定的间隔和预定的角度相互结合，所述单元电极是螺旋状。
发明效果
根据如上所述的本发明，通过产生低温水中等离子体进行水处理，从而实现小型的低温等离子体发生装置，因此可以替代用于船舶压载水和游泳池等的污水灭菌中的氯灭菌方法，具有环保、使污水灭菌效果最大化、因小型化而易于安装的效果。
附图说明
图1是根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置的结构图；
图2a和图2b示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置的第一电极；
图3和图4示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置的第二电极；
图5示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置中的第二电极的单元电极。
具体实施方式
在以下的结合附图进行的说明中，更加明确本发明的上述目的、特征和优点，基于此，本领域的技术人员可以容易实施本发明的技术思想。另外，在下面的说明中，当判断为与本发明相关的公知常识的描述可能会影响本发明的宗旨的情况下，省略其详细说明。
水中等离子体的形成需要在相应的电极之间产生强磁场。在两个电极之间产生活性电子(e-)，该电子与介质中的水分子碰撞，在水分子中产生新的电子，连续产生其它新电子，通过这种爆发性的活性电子的产生，用少量的氯(Cl2)完全转化为作为氧化剂的次氯酸(HOCl)，由此使灭菌效果最大化。由此，通过污水灭菌效果最大化，可以通过管道一次过水来改善灭菌效果。
以下，参照附图，对根据本发明的优选的实施例进行详细的说明。
图1是根据本发明的一个实施例的低温水中等离子体发生装置的结构图。参照图1，低温等离子体发生装置100包括管状的第一电极110、第二电极120和绝缘体130。低温等离子体发生装置100还可以包括管140和供电装置150。
第一电极110和第二电极120保持固定的距离。这是为了保持固定的等离子体放电反应距离，从而能够连续地产生等离子体。
第二电极120被配置在第一电极110的内部，在被引入到第一电极110的水中形成气泡，使反应面积最大化。通过由第二电极120分配被引入到第一电极110的水，产生气泡。
绝缘体130形成于第一电极110与第二电极120之间。绝缘体130可以与第一电极120绝缘并且结合到第二电极110。通过保持第一电极110和第二电极120之间的固定的带电距离，绝缘体130可以以固定的间隔与第二电极120绝缘。这可以精确地保持两个电极的带电距离，从而可以使放电引起的等离子体的产生最大化。绝缘体130可以包括具有良好的绝缘性能的无机氧化物或高分子聚合物。无机氧化物可以是氧化铝(Al2O3)，高分子聚合物可以是环氧树脂。根据低温等离子体发生装置的特性，低温等离子体发生装置100在水中产生用在两个电极之间的绝缘体130进行处理的、水中不会直接导电的安全且环保的等离子体，并且能够得到集中的电场。由于水的介电常数非常大，具有接近金属的性质，因此需要在电极之间进行绝缘而形成强电场。只有通过在这些电极之间产生活性电子(e-)，使电子与作为介质的水分子产生碰撞，从水分子产生新的电子，来爆发性地产生其它新电子，才能够实现灭菌效果。
管140中容纳第一电极110和第二电极120。管140从外部保护第一电极110和第二电极120，并且可以使得第一电极110和第二电极120易于一体制造。因此，可以不受环境的限制而使用低温等离子体发生装置100，并且低温等离子体发生装置尤其可以与流动水的管连接来对水进行灭菌，无需单独的空间。
供电装置150在第一电极110和第二电极120之间施加电压。当从电力施加装置150通过导线(151a，151b)向第一电极110和第二电极120施加电压时，导线(151a，151b)的一端可以与供电装置150连接，导线(151a，151b)的另一端可以与分别第一电极110的一端和第二电极120的一端连接。所施加的电压可以在第一电极110和第二电极120之间足以产生等离子体的电压以上，在导致绝缘体130介电击穿的电压以下。在所施加的电压大于导致绝缘破坏的电压的情况下，在污水内发生导电，从而本发明所述的等离子体不会产生，难以实现水中灭菌的效果。在第一电极110和第二电极120之间施加理想的电压，以在水中产生安全的低温水中等离子体，根据第一电极110和第二电极120的尺寸和污水的容量改变电极处的电压和电流。
低温等离子体发生装置100可以直接与水流动的管道连接，可以不需要单独的空间，用低成本对污水进行灭菌。
图2a和2b示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置的第一电极。参照图2a和2b，第一电极110可以是圆柱形的。第一电极110可以是具有孔状110a或网状110b内壁的管，以便与第二电极120保持固定距离，可以使带电面积和放电面积或反应面积最大化。第一电极110可以包含钛(Ti)或由钛制成。可选地，第一电极110可以涂覆有过渡金属。另外可选地，第一电极110可以由钛制成且涂覆有过渡金属。过渡金属可以是铱(Ir)，铱(Ir)在产生等离子体时具有催化的效果，可以延长第一电极110和第二电极120的寿命。
图3和图4示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置的第二电极。参照图3和图4，第二电极120包括多个单元电极121，多个单元电极可以以固定间隔以预定角度相互结合。所述预定角度可以是90度。多个单元电极121优选各自具有固定的长度。这是为了连续地分配被引入到第一电极110中的水，通过机械方法产生气泡，使反应面积最大化。由于等离子体在气态时易于产生，因此优选在水中形成气泡，利用存在于气泡中的水分子的气体形成等离子体。
图5示出根据本发明的一个实施例的低温等离子体发生装置中的第二电极的单元电极。参照图4，单元电极121具有螺旋状表面。螺旋状形状进一步加速水的分配，可以通过反复交叉分离水来使得化学反应面积最大化，通过因水泡的产生引起的带电电极放电容易产生低温等离子体活性电子，可以使灭菌效果最大化。螺旋状的单元电极有利于在第一电极110和第二电极120之间保持预定间距，并增加等离子体形成表面积。
在利用根据本发明的另一个实施例的低温等离子体发生装置对污水进行灭菌时，当管的直径为50mm，电极的长度为1000mm时，低温等离子体发生装置的水处理能力为5m3/hr，电消耗量约为400W，当管的直径为200mm，电极的长度为3000至5000mm时，低温等离子发生装置的水处理能力为300至400m3/hr，电消耗量的范围约为2.0至4.5kW。当管的直径为300mm，电极的长度为4000至5000mm时，低温等离子体发生装置的水处理能力为600至1000m3/hr，电消耗量的范围为4.0至6.5kW。
以上，详细说明了本发明的特定部分，本领域技术人员应当理解的是，这些具体方案仅仅是优选的实施方案，并不限制本发明的范围。因此，本发明的实际范围由所附权利要求及其等同物来限定。
符号说明
100：低温等离子体发生装置
110：第一电极
120：第二电极
130：绝缘体
140：管
150：供电装置

Claims (11)

1.一种低温等离子体发生装置，其特征在于，包括：
第一电极，所述第一电极具有管的形状；
第二电极，所述第二电极被配置在所述第一电极的内部，并在被引入到所述第一电极的水中产生气泡；以及
绝缘体，所述绝缘体被配置在所述第一电极和所述第二电极之间。
2.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
还包括容纳所述第一电极和所述第二电极的管。
3.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
还包括在所述第一电极与所述第二电极之间施加电压的供电装置，
所施加的电压在所述第一电极与所述第二电极之间产生等离子体的电压以上，且在导致所述绝缘体介电击穿的电压以下。
4.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第一电极和所述第二电极彼此隔开保持固定的距离。
5.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第一电极是网状或孔状的管。
6.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第一电极由钛制成。
7.根据权利要求6所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第一电极上涂覆有过渡金属。
8.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第二电极通过分配被引入到所述第一电极的水，使水产生气泡。
9.根据权利要求8所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述第二电极具有多个单元电极以固定间隔和预定角度相互结合的结构。
10.根据权利要求9所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述单元电极是螺旋状的。
11.根据权利要求1所述的低温等离子体发生装置，其特征在于，
所述绝缘体由无机氧化物或高分子聚合物形成。
CN201680026118.9A 2015-05-04 2016-05-03 低温水中等离子体发生装置 Pending CN107592855A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2015-0062713 2015-05-04
KR1020150062713A KR101605070B1 (ko) 2015-05-04 2015-05-04 저온 수중 플라즈마 발생 장치
PCT/KR2016/004657 WO2016178501A1 (ko) 2015-05-04 2016-05-03 저온 수중 플라즈마 발생 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107592855A true CN107592855A (zh) 2018-01-16

Family

ID=55651541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680026118.9A Pending CN107592855A (zh) 2015-05-04 2016-05-03 低温水中等离子体发生装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9840427B2 (zh)
KR (1) KR101605070B1 (zh)
CN (1) CN107592855A (zh)
WO (1) WO2016178501A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108235554A (zh) * 2018-01-18 2018-06-29 大连民族大学 一种水下介质阻挡放电装置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101680522B1 (ko) 2016-06-22 2016-11-29 한주호 수처리용 자율기포생성 플라즈마 유닛
KR101942668B1 (ko) * 2017-11-24 2019-04-11 홍종화 선박 평형수 처리 관형 플라즈마 처리 장치
US20210253452A1 (en) * 2018-08-08 2021-08-19 Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation Electrochemical flow reactor
US11246955B2 (en) * 2018-10-29 2022-02-15 Phoenixaire, Llc Method and system for generating non-thermal plasma
WO2020145434A1 (ko) * 2019-01-09 2020-07-16 홍종화 선박 평형수 처리 관형 플라즈마 처리 장치
KR102522284B1 (ko) 2020-02-28 2023-04-17 (주)황산 플라즈마 방전 반응식 나노버블 수질 정화 장치
US20210346565A1 (en) * 2020-05-08 2021-11-11 airPHX Method and system for generating non-thermal plasma
KR102411449B1 (ko) * 2020-05-11 2022-06-21 두산에너빌리티 주식회사 수중 플라즈마 방전장치 및 이를 포함하는 해수 담수화 시스템
KR20220120351A (ko) 2021-02-23 2022-08-30 주식회사 플라즈텍 저온 플라즈마 살균장치
KR20230159020A (ko) 2022-05-13 2023-11-21 (주)지디티 플라즈마 발생 장치 및 이와 오존 발생 장치를 포함하는 고도 산화 공법 수처리 시스템

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020014460A1 (en) * 1999-03-05 2002-02-07 Mckay Scott Method and apparatus for treating water
KR20040010895A (ko) * 2002-07-25 2004-02-05 사단법인 고등기술연구원 연구조합 플라즈마와 흡착제를 이용한 정화장치
CN1853155A (zh) * 2003-05-07 2006-10-25 皇家飞利浦电子股份有限公司 目标检测
CN101627514A (zh) * 2007-03-05 2010-01-13 王任徒有限公司 低温等离子体发生器
CN102315072A (zh) * 2010-07-02 2012-01-11 株式会社日立高新技术仪器 等离子体处理装置及等离子体处理方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080108767A (ko) 2007-06-11 2008-12-16 삼성에스디아이 주식회사 전극 단자부 코팅재 및 이를 구비한 플라즈마 디스플레이패널
KR20090097340A (ko) * 2008-03-11 2009-09-16 주식회사 다원시스 Ｄｂｄ 플라즈마 방전을 이용한 오폐수 정화방법
KR101191146B1 (ko) 2010-07-30 2012-10-15 한국기계연구원 마이크로 버블을 이용한 플라즈마 방전 반응식 선박 평형수 살균 처리장치
WO2014010851A1 (ko) 2012-07-13 2014-01-16 주식회사 에스피텍 전극상에 도전체 돌출부를 갖는 유전체장벽 방전 방식의 플라즈마 발생 전극 구조체
KR101520779B1 (ko) * 2013-05-31 2015-05-18 전북대학교산학협력단 저온 플라즈마 살균시스템

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020014460A1 (en) * 1999-03-05 2002-02-07 Mckay Scott Method and apparatus for treating water
KR20040010895A (ko) * 2002-07-25 2004-02-05 사단법인 고등기술연구원 연구조합 플라즈마와 흡착제를 이용한 정화장치
CN1853155A (zh) * 2003-05-07 2006-10-25 皇家飞利浦电子股份有限公司 目标检测
CN101627514A (zh) * 2007-03-05 2010-01-13 王任徒有限公司 低温等离子体发生器
CN102315072A (zh) * 2010-07-02 2012-01-11 株式会社日立高新技术仪器 等离子体处理装置及等离子体处理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108235554A (zh) * 2018-01-18 2018-06-29 大连民族大学 一种水下介质阻挡放电装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2016178501A1 (ko) 2016-11-10
US9840427B2 (en) 2017-12-12
KR101605070B1 (ko) 2016-03-24
US20170197849A1 (en) 2017-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107592855A (zh) 低温水中等离子体发生装置
US9011697B2 (en) Fluid treatment using plasma technology
KR100932377B1 (ko) 고밀도 수중 플라즈마 토치를 이용한 수질정화방법
JP4889124B2 (ja) 流体処理装置
JP6008359B2 (ja) 液中プラズマ発生装置、被処理液浄化装置及びイオン含有液体生成装置
KR101579349B1 (ko) 플라즈마-멤브레인을 이용한 폐수 처리장치 및 폐수 처리방법
KR100924649B1 (ko) 고밀도 수중 플라즈마 토치의 발생장치 및 방법
JP2004268003A (ja) 水中放電プラズマ方法及び液体処理装置
KR101497591B1 (ko) 방전을 이용한 수처리장치
CN104583131B (zh) 液体处理装置以及液体处理方法
CN211570217U (zh) 一种圆筒型dbd等离子体有机废液处理装置
KR101256577B1 (ko) 수중 방전 전극 및 이를 포함하는 수중 모세관 플라즈마 방전 장치
KR101214441B1 (ko) 수처리용 수중 방전 장치
WO2015077062A1 (en) Method and apparatus for transforming a liquid stream into plasma and eliminating pathogens therein
KR101280445B1 (ko) 물 정화를 위한 수중 방전 장치
JP2010137212A (ja) プラズマ発生装置
JP2015166066A (ja) オゾン溶解装置
CN103517879B (zh) 用于清除水中的微生物、有机和化学污染物的设备
Zhang et al. Formation of active species by bipolar pulsed discharge in water
KR20140008852A (ko) 저온 유전체 장벽 수중 플라즈마의 처리 방법
JP2012196621A (ja) 水滅菌装置及び水滅菌方法
KR20130119131A (ko) 광촉매 및 고전압 펄스를 이용한 살균장치 및 살균방법
Hartmann et al. Large area pulsed corona discharge in water for disinfection and pollution control
WO1991011395A1 (en) Oxidizing apparatus
KR101599733B1 (ko) 플라즈마를 이용한 액체 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20180116