JP2008052798A - データ読み出し回路及びデータ読み出し方法 - Google Patents

データ読み出し回路及びデータ読み出し方法 Download PDF

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Abstract

【課題】半導体記憶装置中のデータ読み出し回路から出力される出力データの信頼性を向上させること。
【解決手段】本発明に係るデータ読み出し回路20は、センスアンプ回路30と、セレクタ40とを備える。センスアンプ回路30は、メモリセルアレイ10に格納されている格納データDSを複数のリファレンスレベルREF1,REF2を用いてセンスし、その格納データDSに関して複数のリファレンスレベルREF1,REF2のそれぞれに対応する複数のリードデータDR1,DR2を出力する。セレクタ40は、制御信号に基づいて複数のリードデータDR1,DR2のうちいずれか1つに対応するデータを選択し、選択されたデータを出力データDoutとして出力する。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体記憶装置におけるデータ読み出し技術に関する。
DRAM(Dynamic Random Access Memory)、EEPROM(Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)、フラッシュメモリ等の半導体記憶装置が知られている。そのような半導体記憶装置におけるデータ読み出し時、一般的に、メモリセルから読み出される読み出しレベルと所定のリファレンスレベルとの比較によって、メモリセルに格納されているデータの判定が行われる。
特許文献1には、第1リファレンス電位と第2リファレンスレベルを用いてデータの判定を行う技術が記載されている。この従来技術によれば、第1リファレンス電位と第2リファレンス電位の設定を工夫することによって、センスアンプ回路におけるデータ判定精度の向上が図られている。センスアンプ回路は、メモリセルから読み出したデータ電位と第1リファレンス電位とを比較してセンス動作を行う第1センスアンプと、データ電位と第2リファレンス電位とを比較してセンス動作を行う第2センスアンプとを含む。第1センスアンプと第2センスアンプの協働により、データ電位が0か1かの判定が行われる。そして、その判定結果に相当する1種類のリードデータが、センスアンプ回路から出力される。
特開2005−209304号公報
半導体記憶装置において、あるデータがメモリセルに書き込まれた後、そのメモリセルで保持されている保持データが時間的に変動する可能性がある。例えばEEPROMの場合、浮遊ゲートに対する電子の出入りによって、メモリセルトランジスタの閾値電圧が変動してしまう。これは、保持データの変動(いわゆる「保持抜け」)を招く。保持データの変動は、その半導体記憶装置が搭載されているマイコンの動作不良の原因となる。
保持抜けへの対策として、ECC(Error Correction Code)回路が設けられる場合もある。ECC回路は、メモリセルから読み出されたデータ中のいくつかの不良ビットを検出し、また、いくつかの不良ビットを訂正することができる。しかし、読み出されたデータ中に訂正可能なビット数を超える数の不良ビットが存在する場合は、ECC回路でもデータを訂正することはできない。その場合は、やはりマイコンの動作不良が発生し、マイコンは停止する。上述の特許文献1に記載された半導体記憶装置にECC回路が適用されたとしても、同じである。センスアンプ回路から出力される1種類のリードデータに、訂正可能なビット数を超える数の不良ビットが存在する場合、そのリードデータの訂正はもはや不可能である。
保持抜けによるマイコンの動作不良を低減することができる技術が望まれている。
以下に、[発明を実施するための最良の形態]で使用される番号・符号を用いて、[課題を解決するための手段]を説明する。これらの番号・符号は、[特許請求の範囲]の記載と[発明を実施するための最良の形態]との対応関係を明らかにするために括弧付きで付加されたものである。ただし、それらの番号・符号を、[特許請求の範囲]に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
本発明の第1の観点において、データ読み出し回路(20)が提供される。そのデータ読み出し回路(20)は、センスアンプ回路(30)と、セレクタ(40)とを備える。センスアンプ回路(30)は、メモリセルアレイ(10)に格納されている格納データ(DS)を複数のリファレンスレベル(REF1,REF2)を用いてセンスし、その格納データ(DS)に関して複数のリファレンスレベル(REF1,REF2)のそれぞれに対応する複数のリードデータ(DR1,DR2)を出力する。セレクタ(40)は、制御信号(MOD,SE1,SE2)に基づいて複数のリードデータ(DR1,DR2)のうちいずれか1つに対応するデータ(DR1,DR2,DE1,DE2)を選択し、選択されたデータを出力データ(Dout)として出力する。
このように、本発明によれば、同じ格納データ(DS)に関して複数種類のリードデータ(DR1,DR2)が生成される。たとえ、あるリファレンスレベル(REF2)を用いることにより得られたリードデータ(DR2)に不良ビットが存在したとしても、他のリファレンスレベル(REF1)を用いて得られたリードデータ(DR1)にはその不良ビットが現れないかもしれない。センスアンプ回路(30)からは複数種類のリードデータ(DR1,DR2)が出力されるため、セレクタ(40)は、それら複数種類のリードデータ(DR1,DR2)の中から最も好適な1つを選択することができる。従って、半導体記憶装置(1)から出力される出力データ(Dout)の信頼性が向上する。出力データ(Dout)の信頼性が向上するため、半導体記憶装置(1)が搭載されるデバイスの動作不良が低減される。
上記制御信号(SE1,SE2)は、例えば、ECC回路(60)によって検出される複数のリードデータ(DR1,DR2)のそれぞれの不良ビット数を示す。セレクタ(40)は、複数のリードデータ(DR1,DR2)のうち不良ビット数が最も少ない1つに対応するデータ(DE1,DE2)を、最適な出力データ(Dout)として選択することができる。例えば、あるリファレンスレベル(REF1)を用いることにより得られたリードデータ(DR1)に1つの不良ビットが存在し、他のリファレンスレベル(REF2)を用いることにより得られたリードデータ(DR2)に2つの不良ビットが存在するとする。この場合、1つの不良ビットを有するリードデータ(DR1)は、ECC回路(60)によって訂正可能である。従って、セレクタ(40)は、訂正処理後のデータ(DE1)を出力データ(Dout)として出力することができる。これにより、半導体記憶装置(1)が搭載されるデバイスの動作不良が回避され、そのデバイスを停止させる必要もなくなる。
本発明の第2の観点において、訂正回路が提供される。その訂正回路は、ECC回路(60)と、セレクタ(40)とを備える。ECC回路(60)は、同じメモリセル群(11)から読み出される複数のリードデータ(DR1,DR2)を受け取る。そして、ECC回路(60)は、そのメモリセル群(11)に格納されたデータ(DS)に対応付けられたエラー訂正コード(ECC)を用いることによって、複数のリードデータ(DR1,DR2)のそれぞれの不良ビット数を検出する。セレクタ(40)は、複数のリードデータ(DR1,DR2)のうち不良ビット数が最も少ない1つに対応するデータ(DE1,DE2)を選択する。
本発明の第3の観点において、半導体記憶装置におけるデータ読み出し方法が提供される。そのデータ読み出し方法は、(A)メモリセルアレイ(10)に格納されている格納データ(DS)を複数のリファレンスレベル(REF1,REF2)を用いてセンスし、格納データ(DS)に関して複数のリファレンスレベル(REF1,REF2)のそれぞれに対応する複数のリードデータ(DR1,DR2)を生成するステップと、(B)複数のリードデータ(DR1,DR2)のうちいずれか1つに対応するデータ(DR1,DR2,DE1,DE2)を選択し、選択されたデータを出力データ(Dout)として出力するステップと、を有する。
本発明によれば、半導体記憶装置中のデータ読み出し回路から出力される出力データの信頼性が向上する。出力データの信頼性が向上するため、その半導体記憶装置が搭載されるデバイスの動作不良が低減される。
添付図面を参照して、本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置を説明する。本実施の形態に係る半導体記憶装置は、例えばマイコンに搭載される。
1.第1の実施の形態
1−1.構成及び動作
図1は、第1の実施の形態に係る半導体記憶装置1の構成を概略的に示している。半導体記憶装置1は、メモリセルアレイ10とデータ読み出し回路20を備えている。メモリセルアレイ10は、アレイ状に配置された複数のメモリセル11を有している。メモリセアレイ10のメモリセル11に格納されているデータは、以下「格納データDS」と参照される。
データ読み出し回路20は、メモリセルアレイ10から格納データDSを読み出し、読み出されたデータを出力データDoutとして出力する。本実施の形態において、データ読み出し回路20は、メモリセルアレイ10に接続されたセンスアンプ回路30と、センスアンプ回路30に接続されたセレクタ40を有している。
センスアンプ回路30は、メモリセルアレイ10から格納データDSを読み出し、読み出されたデータをセレクタ40に出力する。より具体的には、本実施の形態に係るセンスアンプ回路30は、メモリセルアレイ10中の同一のメモリセル群に格納されている同一の格納データDSに関して、2種類のリードデータDR1、DR2を出力することができる。
例えば図1に示されるように、センスアンプ回路30は、第1センスアンプ回路31と第2センスアンプ回路32とを含んでいる。第1センスアンプ回路31は複数のセンスアンプSAを有しており、それら複数のセンスアンプSAは、複数のビット線BITのそれぞれを介して複数のメモリセル11に接続されている。同様に、第2センスアンプ回路32も複数のセンスアンプSAを有しており、それら複数のセンスアンプSAは、複数のビット線BITのそれぞれを介して複数のメモリセル11に接続されている。つまり、センスアンプ回路31、32は、メモリセルアレイ10に対して並列に接続されている。従って、1つのメモリセル11は、センスアンプ回路31、32の両方に接続されることになる。これら2つのセンスアンプ回路31、32を用いることにより、同一のメモリセル群から2種類のリードデータDR1,DR2を得ることが可能となる。
より詳細には、第1センスアンプ回路31は、第1リファレンスレベルREF1を用いて格納データDSをセンス(検知)するように構成されている。そして、第1センスアンプ回路31は、センスされたデータを第1リードデータDR1としてセレクタ40に出力する。一方、第2センスアンプ回路32は、第1リファレンスレベルREF1と異なる第2リファレンスレベルREF2を用いて同じ格納データDSをセンスするように構成されている。そして、第2センスアンプ回路32は、センスされたデータを第2リードデータDR2としてセレクタ40に出力する。
例として、8ビットの格納データDSが読み出される場合を考える。この時、格納データDSは、メモリセルアレイ10中の8個のメモリセル11(以下、「対象メモリセル群」と参照される)に格納されている。第1センスアンプ回路31中の対象メモリセル群に接続された8個のセンスアンプSAは、第1リファレンスレベルREF1を参照して格納データDSをセンスし、そのセンスされたデータを第1リードデータDR1として出力する。同時に、第2センスアンプ回路32中の対象メモリセル群に接続された8個のセンスアンプSAは、第2リファレンスレベルREF2を参照して格納データDSをセンスし、そのセンスされたデータを第2リードデータDR2として出力する。
このように、本実施の形態に係るセンスアンプ回路30は、異なるリファレンスレベルREF1、REF2を用いることによって、同一の格納データDSに関して第1リードデータDR1と第2リードデータDR2を生成する。そして、センスアンプ回路30は、それら2種類のリードデータDR1、DR2を、パラレルにセレクタ40に出力する。
尚、上述の「リファレンスレベル」とは、リファレンス電流あるいはリファレンス電位を意味する。リファレンス電流が用いられる場合、センスアンプSAは、対応するビット線BITを流れる電流とリファレンス電流との比較により、対応するメモリセル11に格納されたデータ(ビット)をセンスすることができる。リファレンス電位が用いられる場合、センスアンプSAは、対応するビット線BITの電位とリファレンス電位との比較により、対応するメモリセル11に格納されたデータ(ビット)をセンスすることができる。リファレンスレベルの詳細に関しては、後の第5節において説明が行われる。
セレクタ40は、センスアンプ回路30から2種類のリードデータDR1、DR2を受け取る。更に、セレクタ40は、半導体記憶装置1の外部から入力されるモード信号MODを受け取る。モード信号MODは、半導体記憶装置1の動作モードを示す信号である。セレクタ40は、モード信号MODに応じて、第1リードデータDR1あるいは第2リードデータDR2のいずれかを選択し、選択された一方を出力データDoutとしてバスに出力する。
例えば、モード信号MODがHighレベルの場合、セレクタ40は、第1リードデータDR1を選択し、一方、モード信号MODがLowレベルの場合、セレクタ40は、第2リードデータDR2を選択する。モード信号MODは、セレクタ40の動作を規定する「制御信号」であると言える。モード信号MODの設定例を説明するために、以下、本実施の形態が電気的に消去・プログラムが可能なROM(EEPROM: Electrically Erasable and Programmable Read Only Memory)に適用される場合を詳しく説明する。
1−2.スピードマージン、DCマージン
例として、本実施の形態がEEPROMに適用される場合を考える。この場合、メモリセル11は、制御ゲートと浮遊ゲートを有するMOSトランジスタ(以下、「メモリセルトランジスタ」と参照される)で構成される。浮遊ゲート中の電荷量によって、メモリセルトランジスタ11の閾値電圧Vtは変動する。その閾値電圧Vtの大小によって、データ“0”と“1”の区分が可能である。
図2は、EEPROMにおける閾値電圧Vtの分布を概念的に示している。縦軸及び横軸は、それぞれ閾値電圧Vt及びセル数を表している。図2において、高い閾値電圧Vtを有するメモリセルトランジスタ11(以下、「プログラムセル」と参照される)は、データ“0”に対応付けられている。プログラムセルの分布は、分布D0で表されている。一方、低い閾値電圧Vtを有するメモリセルトランジスタ11(以下、「消去セル」と参照される)は、データ“1”に対応付けられる。消去セルの分布は、分布D1で表されている。
データプログラム時、対象メモリセルの閾値電圧Vtが所定のプログラムレベルより高くなるように、浮遊ゲートに電子が注入される。言い換えれば、対象メモリセルが分布D0に含まれるように、電子の注入が行われる。一方、データ消去時、対象メモリセルの閾値電圧Vtが所定の消去レベルより低くなるように、浮遊ゲートから電子が引き抜かれる。言い換えれば、対象メモリセルが分布D1に含まれるように、電子の引き抜きが行われる。
データリード時、読み出し対象のメモリセルトランジスタ11の制御ゲートには、リード電圧VRが印加される。そのリード電圧VRは、分布D1よりも高くなるように、且つ、分布D0よりも低くなるように設定される。従って、データリード時、消去セルからはセル電流が流れる一方、プログラムセルからはセル電流がほぼ流れない。そのセル電流を所定のリファレンス電流と比較することによって、対象メモリセルが消去セルかプログラムセルかを判定することができる。すなわち、所定のリファレンス電流を用いた電流センス方式によって、対象メモリセルに格納されているデータが“0”か“1”を判定することが可能となる。
図3は、データリード時に用いられるリファレンス電流に課される条件を説明するための図であり、縦軸は電流を示している。図3において、消去セルを流れ得るセル電流Ionは、所定の消去レベルIEよりも大きい。つまり、データ消去時、対象メモリセルを流れ得るセル電流Ionが消去レベルIEよりも大きくなるように、電子の引き抜きが行われている。また、プログラムセルを流れ得るセル電流Ionは、所定のプログラムレベルIPよりも小さい。つまり、データプログラム時、対象メモリセルを流れ得るセル電流IonがプログラムレベルIPよりも小さくなるように、電子の注入が行われている。
まず、一般的な場合として、データリード時に1種類のリファレンス電流IREFがリファレンスレベルとして用いられる場合を考える。リファレンス電流IREFは、消去レベルIEとプログラムレベルIPとの間のレベルに設定されている。ここで、消去レベルIEとリファレンス電流IREFとの間、及び、プログラムレベルIPとリファレンス電流IREFとの間には、それぞれ所定のマージンが必要である。
消去レベルIEとリファレンス電流IREFとの間に所定のマージンMSが必要な理由を、図4を参照して説明する。上述の通り、消去セルにはセル電流Ionが流れやすい。そのセル電流Ionがリファレンス電流IREFよりも大きいことを検出することによって、センスアンプSAはデータ“1”を検知することができる。ここで注意すべきことは、そのセル電流Ionは瞬間的に上昇するわけではなく、リード動作が始まる時刻t0から徐々に増加することである。その増加率は、遷移状態後の安定状態におけるセル電流Ion(最大値)が大きいほど、つまり、閾値電圧Vtが低いほど大きくなる。
例えば図4には、消去セルを流れるセル電流の時間変化の様々なパターン(Ion−a、Ion−b、Ion−c)が示されている。消去が比較的強く行われた場合、消去セルの閾値電圧Vtは比較的低くなる。その結果、図4中のIon−cで示されるように、セル電流の増加率は比較的大きくなる。逆に、消去が比較的弱く行われた場合、消去セルの閾値電圧Vtは比較的高くなる。その結果、図4中のIon−aで示されるように、セル電流の増加率は比較的小さくなる。
時刻t1において、セル電流Ion−a、Ion−b、Ion−cの全てがリファレンス電流IREFよりも大きくなっている。従って、データ判定のタイミングが時刻t1の場合、全てのパターンに関してデータ“1”が正しくセンスされる。しかしながら、データ判定のタイミングが時刻t2である場合、セル電流Ion−aは、未だリファレンス電流IREFよりも大きくなっていない。従って、セル電流Ion−aが流れる消去セルに格納されているデータは、誤って“0”と判定されてしまう。
要求されるデータリード速度によって、データ判定のタイミングは異なる。要求されるタイミングまでにセル電流Ion(瞬間値)がリファレンス電流IREFを越えるように、安定状態におけるセル電流Ionの大きさ(最大値)、すなわち消去セルの閾値電圧Vtが設定されるべきである。例えばデータ判定のタイミングが時刻t2である場合、安定状態におけるセル電流が少なくともIon−bより大きくなるように閾値電圧Vtが設定されるべきである。そのセル電流の限界値Ion−bとリファレンス電流IREFとの差が、消去レベルIEとリファレンス電流IREFとの間に設定されるべきマージンであり、以下「スピードマージンMS」と参照される。
図3に示されるように、消去レベルIEとリファレンス電流IREFとの間には、要求されるデータリード速度に応じたスピードマージンMSが設定される。要求されるデータリード速度が高くなるにつれ、スピードマージンMSも広がる。このようなスピードマージンMSを設けることによって、リード時間の不足に起因するデータ誤判定が防止される。
次に、プログラムレベルIPとリファレンス電流IREFとの間に所定のマージンMDが必要な理由を、図5を参照して説明する。上述の通り、プログラムセルにはセル電流Ionが流れにくい。そのセル電流Ionがリファレンス電流IREFよりも小さいことを検出することによって、センスアンプSAはデータ“0”を検知することができる。ここで注意すべきことは、セル電流Ionの大きさが温度に依存することである。それは、メモリセルトランジスタ11の閾値電圧Vtが温度に依存するからである。閾値電圧Vtは、温度が高くなるほど減少する傾向にあることが知られている。従って、図5に示されるように、温度が高くなるにつれてセル電流Ionは大きくなる。
このように、セル電流Ionは温度によって変動する。プログラムセルのデータを正確にセンスするためには、要求される動作温度範囲にわたって、セル電流Ionがリファレンス電流IREFよりも小さいことが必要である。言い換えれば、動作温度範囲内で温度がどのように変動しても、セル電流Ionがリファレンス電流IREFより小さい状態が維持されるようにプログラムが行われるべきである。そのために設けられるマージンが、「DCマージンMD」である。
図3に示されるように、プログラムレベルIPとリファレンス電流IREFとの間には、要求される動作温度範囲に応じたDCマージンMDが設定される。動作温度範囲中の最低温状態でのセル電流Ionが少なくともプログラムレベルIPより小さくなるように、プログラムセルの閾値電圧Vtが設定される。これにより、DCマージンMDの条件が満たされる。要求される動作温度範囲が拡がるにつれ、DCマージンMDも広がる。このようなDCマージンMDを設けることによって、温度変動に起因するデータ誤判定が防止される。尚、消去セルに関するDCマージンMDは、スピードマージンMSにより保証される。
以上が、一般的な場合におけるスピードマージンMS及びDCマージンMDの説明である。本実施の形態によれば、リファレンスレベルとして、1種類のリファレンス電流IREFではなく、複数種類のリファレンス電流が用いられる。その場合、複数種類のリファレンス電流の各々に対して、スピードマージンMS及びDCマージンMDが定義され得る。
例えば図3に示されるように、第1リファレンス電流IREF1及び第2リファレンス電流IREF2の2種類のリファレンスレベルが用いられる。第1リファレンス電流IREF1は、第2リファレンス電流IREF2よりも小さく設定されている。つまり、第1リファレンス電流IREF1は、消去レベルIEからより離れたレベルに設定され、第2リファレンス電流IREF2は、プログラムレベルIPからより離れたレベルに設定されている。これらリファレンス電流IREF1、IREF2の各々に対して、スピードマージンMS及びDCマージンMDが定義され得る。
1−3.高速リードモード、低速リードモード
センスアンプ回路30は、第1リファレンス電流IREF1と第2リファレンス電流IREF2を用いることによって、同一の格納データDSに関して第1リードデータDR1と第2リードデータDR2を生成する。セレクタ40は、モード信号MODに応じて、第1リードデータDR1あるいは第2リードデータDR2のいずれかを選択し、選択された一方を出力データDoutとして出力する。
本例において、モード信号MODは、「高速リードモード」と「低速リードモード」の2種類のモードを表すことができる。モード信号MODが「高速リードモード」を示す場合、セレクタ40は、第1リファレンス電流IREF1を用いて読み出された第1リードデータDR1を選択する。一方、モード信号MODが「低速リードモード」を示す場合、セレクタ40は、第2リファレンス電流IREF2を用いて読み出された第2リードデータDR2を選択する。
(高速リードモード)
高速リードモード時、リード開始時間からデータ判定時間までの期間が比較的短い。図4で示されたように、データ判定タイミングでのセル電流Ionがリファレンス電流IREFより小さい場合、リード対象セルのデータは“0”と判定される。プログラムセル(データ“0”)に関しては、データが“0”と判定されても何ら問題ない。高速リードモード時に注意するべきは、消去セル(データ“1”)である。
図6は、本実施の形態における高速リードモードを説明するための概念図である。データ消去時、消去セル(データ“1”)は、安定状態でのセル電流Ionが消去レベルIEを超えるように設定されている。しかしながら、時間経過に伴い、消去セルの浮遊ゲートに電子が注入される場合がある。その場合、消去セルの閾値電圧Vtは増加し、安定状態でのセル電流Ionが消去レベルIEを下回ってしまう可能性がある。そのようなセルは、以下「保持抜けセル」と参照される。
保持抜けセルに関して、安定状態でのセル電流Ion(図6中黒丸で示されている)の減少に伴い、判定タイミングでのセル電流Ion(図6中白丸で示されている)も減少してしまう。図6に示された例では、判定タイミングでのセル電流Ionは、従来のリファレンス電流IREFより小さい。従って、保持抜けセルのデータは、“1”ではなく“0”と判定されてしまう。これは誤判定であり、誤ったデータが出力される。一方、本実施の形態によれば、リファレンス電流IREFより小さい第1リファレンス電流IREF1が用いられる。図6に示された例では、判定タイミングでのセル電流Ionは、その第1リファレンス電流IREF1より大きい。従って、保持抜けセルのデータであっても、正しく“1”と判定される。つまり、本実施の形態によれば、保持抜けセルの誤判定の確率が低減される。
以上のことを別の観点から説明すると、次の通りである。図6において、第1リファレンス電流IREF1にスピードマージンMSを加算して得られるレベルは、「スピードマージンレベルIS」で示されている。第1リファレンス電流IREF1は従来のリファレンス電流IREFよりも小さいため、スピードマージンレベルISは消去レベルIEよりも低くなる。安定状態でのセル電流IonがスピードマージンレベルISよりも大きければ、スピードマージンMSの条件は満たされるため、データは正しく“1”と判定される。保持抜けセルに関しても、安定状態でのセル電流IonがスピードマージンレベルISより大きければ、たとえそれが消去レベルIEを下回っていても、データは正しく“1”と判定される。
このように、本実施の形態によれば、保持抜けセルの誤判定の確率が低減される。それは、従来よりも消去レベルIEから離れたレベルに設定された第1リファレンス電流IREF1が用いられたからである。第1リファレンス電流IREF1は、消去セルの読み出しに適したリファレンスレベルであると言える。
(低速リードモード)
低速リードモード時、リード開始時間からデータ判定時間までの期間が十分長い。その十分長い期間の間に、消去セルに流れるセル電流Ionは、リファレンス電流IREFよりも大きくなるはずである。よって、消去セルのデータが正しく“1”と判定される確率は極めて高い。低速リードモード時に注意するべきは、プログラムセル(データ“0”)である。
図7は、本実施の形態における低速リードモードを説明するための概念図である。データプログラム時、プログラムセル(データ“0”)は、最低温状態でのセル電流IonがプログラムレベルIPを下回るように設定されている。しかしながら、時間経過に伴い、プログラムセルの浮遊ゲートから電子が抜ける場合がある。その場合、プログラムセルの閾値電圧Vtは減少し、最低温状態でのセル電流IonがプログラムレベルIPを超えてしまう可能性がある。そのようなセルも保持抜けセルである。
保持抜けセルに関して、最低温状態でのセル電流Ion(図7中黒丸で示されている)の増加に伴い、最高温状態でのセル電流Ion(図7中白丸で示されている)も増加してしまう。図7に示された例では、最高温状態でのセル電流Ionは、従来のリファレンス電流IREFより大きい。これは、温度状態によっては保持抜けセルのデータが、“0”ではなく“1”と判定されてしまうことを意味する。一方、本実施の形態によれば、リファレンス電流IREFより大きい第2リファレンス電流IREF2が用いられる。図7に示された例では、最高温状態でのセル電流Ionは、その第2リファレンス電流IREF2より小さい。従って、保持抜けセルのデータであっても、あらゆる動作温度範囲にわたって正しく“1”と判定されることが保障される。つまり、本実施の形態によれば、保持抜けセルの誤判定の確率が低減される。
以上のことを別の観点から説明すると、次の通りである。図7において、第2リファレンス電流IREF2からDCマージンMDを減算して得られるレベルは、「DCマージンレベルID」で示されている。第2リファレンス電流IREF2は従来のリファレンス電流IREFよりも大きいため、DCマージンレベルIDはプログラムレベルIPよりも高くなる。最低温状態でのセル電流IonがDCマージンレベルIDよりも小さければ、DCマージンMDの条件は満たされるため、データは正しく“0”と判定される。保持抜けセルに関しても、最低温状態でのセル電流IonがDCマージンレベルIDより小さければ、たとえそれがプログラムレベルIPを超えていても、データは正しく“0”と判定される。
このように、本実施の形態によれば、保持抜けセルの誤判定の確率が低減される。それは、従来よりもプログラムレベルIPから離れたレベルに設定された第2リファレンス電流IREF2が用いられたからである。このように、第2リファレンス電流IREF2は、プログラムセルの読み出しに適したリファレンスレベルであると言える。
1種類のリファレンス電流IREFが用いられる場合、そのリファレンス電流IREFは、消去セルとプログラムセルに兼用されていたと言える。本実施の形態によれば、消去セルの読み出しに適した第1リファレンス電流IREF1と、プログラムセルの読み出しに適した第2リファレンス電流IREF2が、別々に用意されている。上述の通り、保持抜けの観点から注意すべきセルは、高速リードモードの場合消去セルであり、低速リードモードの場合プログラムセルである。従って、高速リードモード時には、第1リファレンス電流IREF1を用いて読み出された第1リードデータDR1が選択され、その第1リードデータDR1が出力データDoutとして出力される。一方、低速リードモード時には、第2リファレンス電流IREF2を用いて読み出された第2リードデータDR2が選択され、その第2リードデータDR2が出力データDoutとして出力される。結果として、出力データDoutの信頼性が向上する。
モード信号MODの設定は、半導体記憶装置1が搭載される製品毎に異なる。高速リードが要求される製品の場合、モード信号MODは、高速リードモードを示すように設定される。一方、低速リードで十分な製品の場合、モード信号MODは、低速リードモードを示すように設定される。モード信号MODの設定は、マイコンのプログラムによって行われる。
1−4.効果
以上に説明されたように、本実施の形態によれば、2種類のリファレンスレベルREF1、REF2を用いることによって、同じ格納データDSから2種類のリードデータDR1、DR2が生成される。そして、それら2種類のリードデータDR1、DR2のうち動作モードに適した一方が、出力データDoutとして選択される。従って、出力データDoutの信頼性が向上する。出力データDoutの信頼性が向上するため、半導体記憶装置1が搭載されるマイコンの動作不良が低減される。
また、本実施の形態によれば、モード信号MODの設定を変更することによって、高速リードモードと低速リードモードのいずれにも対応することが可能である。高速リードモード用の半導体メモリチップと低速リード用の半導体メモリチップを別々に製造する必要はなく、同じ回路構成で両リードモードに対応することが可能である。その意味で、本実施の形態に係る半導体記憶装置1は汎用的であると言える。
2.第2の実施の形態
図8は、第2の実施の形態に係る半導体記憶装置1の構成を概略的に示している。図8において、第1の実施の形態における構成と同じ構成には同一の符号が付され、その説明は適宜省略される。
既出の第1の実施の形態において、センスアンプ回路30は、第1センスアンプ回路31と第2センスアンプ回路32を別々に有し、2種類のリードデータDR1、DR2を、パラレルに出力していた。第2の実施の形態において、センスアンプ回路30は、2種類のリードデータDR1、DR2を、シーケンシャルに出力する。具体的には、同じセンスアンプ回路30が、第1リファレンスレベルREF1と第2リファレンスレベルREF2を順番に受け取る。そして、そのセンスアンプ回路30は、第1リファレンスレベルREF1と第2リファレンスレベルREF2をそれぞれ用いて、第1リードデータDR1及び第2リードデータDR2を順番に生成する。
センスアンプ回路30とセレクタ40の間には、レジスタ回路50が設けられている。センスアンプ回路30は、2種類のリードデータDR1、DR2をシーケンシャルにレジスタ回路50に出力する。レジスタ回路50には、第1リードデータDR1と第2リードデータDR2が順番に格納される。例えば、レジスタ回路50は2段のシフトレジスタにより構成され、各段は、リードデータのビット数分のレジスタから構成される。
レジスタ回路50に格納された第1リードデータDR1及び第2リードデータDR2は、所定のタイミングで、セレクタ40に同時に出力される。セレクタ40は、モード信号MODに応じて、第1リードデータDR1あるいは第2リードデータDR2のいずれかを選択し、選択された一方を出力データDoutとしてバスに出力する。
第2の実施の形態によれば、第1の実施の形態と同じ効果が得られる。
3.第3の実施の形態
3−1.構成及び動作
図9は、第3の実施の形態に係る半導体記憶装置1の構成を概略的に示している。図9において、第1の実施の形態における構成と同じ構成には同一の符号が付され、その説明は適宜省略される。
本実施の形態によれば、センスアンプ回路30とセレクタ40との間に、ECC(Error Correction Code)回路60が設けられている。このECC回路60は、第1リードデータDR1と第2リードデータDR2に対してエラー訂正処理を実行する。エラー訂正の性能は、要求される信頼性等により決定される。例えば、ECC回路60は、2ビットの不良を検出し、1ビットの不良を訂正することができるように構成されている。そのエラー訂正処理のために、エラー訂正コードECCが用いられる。
図9に示されるように、メモリセルアレイ10は、データ領域12とECC領域13に区分けされる。データ領域12中のメモリセル11には、格納データDSが格納される。一方、ECC領域13中のメモリセル11には、格納データDSに対応付けられたエラー訂正コードECCが格納される。
ある格納データDSの書き込み時、図示されないエラー訂正コード作成回路は、その格納データDSに基づいてエラー訂正コードECCを作成する。例えば、格納データDSが8ビットの場合、エラー訂正コードECCは5ビットである。但し、エラー訂正コードECCのビット数は、格納データDSのビット数や要求される信頼性等によって変わる。作成されたエラー訂正コードECCは、格納データDSと共に、図示されない書き込み回路によってメモリセルアレイ10に書き込まれる。
ある格納データDSの読み出し時、第1センスアンプ回路31は、第1リファレンスレベルREF1を用いることによって、その格納データDSに対応するエラー訂正コードECCを読み出す。第1リファレンスレベルREF1を用いて読み出されたエラー訂正コードECCは、以下、エラー訂正コードECC1と参照される。また、第2センスアンプ回路32は、第2リファレンスレベルREF2を用いることによって、その格納データDSに対応するエラー訂正コードECCを読み出す。第2リファレンスレベルREF2を用いて読み出されたエラー訂正コードECCは、以下、エラー訂正コードECC2と参照される。読み出されたエラー訂正コードECC1、ECC2は、ECC回路60に入力される。
ECC回路60は、同じ格納データDSの読み出しの結果得られる2種類のリードデータDR1、DR2を、センスアンプ回路30から受け取る。また、ECC回路60は、その格納データDSに対応付けられたエラー訂正コードECC1、ECC2を受け取る。そして、ECC回路60は、エラー訂正コードECC1、ECC2を用いることによって、2種類のリードデータDR1、DR2のそれぞれに対してエラー訂正処理を行う。エラー訂正処理により、ECC回路60は、例えば2ビットの不良を検出し、1ビットの不良を訂正することができるとする。
エラー訂正処理の結果、第1リードデータDR1は、第1処理後データDE1となる。また、第2リードデータDR2は、第2処理後データDE2となる。第1リードデータDR1に不良ビットが存在しない場合、第1処理後データDE1は、第1リードデータDR1と同じである。第1リードデータDR1に1つの不良ビットが存在する場合、第1処理後データDE1は、第1リードデータDR1中の不良ビットが訂正されたデータに相当する。第1リードデータDR1に2以上の不良ビットが存在する場合、第1処理後データDE1は、不定となる。第2処理後データDE2に関しても同様である。ECC回路60は、それら2種類の処理後データDE1、DE2をセレクタ40に出力する。
より詳細には、本実施の形態に係るECC回路60は、第1ECC回路61と第2ECC回路62を含んでいる。第1ECC回路61は、第1リードデータDR1とエラー訂正コードECC1を受け取り、その第1リードデータDR1に対してエラー訂正処理を行う。その結果、第1ECC回路61は、第1リードデータDR1から第1処理後データDE1を生成する。更に、第1ECC回路61は、第1リードデータDR1中で検出された不良ビットの数を示す第1不良ビット数信号SE1を生成する。第1ECC回路61は、それら第1処理後データDE1及び第1不良ビット数信号SE1を、セレクタ40に出力する。
第2ECC回路62は、第2リードデータDR2とエラー訂正コードECC2を受け取り、その第2リードデータDR2に対してエラー訂正処理を行う。その結果、第2ECC回路62は、第2リードデータDR2から第2処理後データDE2を生成する。更に、第2ECC回路62は、第2リードデータDR2中で検出された不良ビットの数を示す第2不良ビット数信号SE2を生成する。第2ECC回路62は、それら第2処理後データDE2及び第2不良ビット数信号SE2を、セレクタ40に出力する。
このように、本実施の形態に係るECC回路60は、2種類のデータ群「DR1、ECC1」と「DR2、ECC2」をパラレルに受け取り、2種類のリードデータDR1、DR2に対するエラー訂正処理をパラレルに実行する。そして、ECC回路60は、第1処理後データDE1及び第2処理後データDE2を生成し、それら処理後データDE1、DE2をパラレルにセレクタ40に出力する。また、ECC回路60は、第1不良ビット数信号SE1及び第2不良ビット数信号SE2を、セレクタ40に出力する。
セレクタ40は、第1処理後データDE1あるいは第2処理後データDE2のいずれかを選択し、選択された一方を出力データDoutとしてバスに出力する。ここで、本実施の形態に係るセレクタ40は、第1不良ビット数信号SE1及び第2不良ビット数信号SE2が示す不良ビット数に基づいて、選択を実行する。つまり、本実施の形態において、セレクタ40の動作を規定する制御信号は、第1不良ビット数信号SE1及び第2不良ビット数信号SE2である。
図10は、本実施の形態に係るセレクタ40の論理の一例を示している。不良ビット数信号SE1、SE2の各々は、2ビットの信号であるとする。不良ビット数信号SEが“00”、“01”、“10”である場合、不良ビット数は、それぞれ0個、1個、2個である。図10に示されるように、不良ビット数が少ない方の不良ビット数信号(SE1,SE2)に対応する処理後データ(DE1,DE2)が、セレクタ40によって選択される。つまり、不良ビット数が最少であったリードデータ(DR1,DR2)から生成された処理後データ(DE1,DE2)が、セレクタ40によって選択されている。
例えば、第1リードデータDR1に1つの不良ビットが存在し、第2リードデータDR2に2つの不良ビットが存在する場合を考える(SE1=“01”、SE2=“10”)。この場合、第1リードデータDR1のエラー訂正は可能であるが、第2リードデータDR2のエラー訂正は不可能である。従って、第1リードデータDR1から生成される第1処理後データDE1が、出力データDoutとして選択される。選択された第1処理後データDE1は、書き込み時のデータと等しい期待値である。
リードデータDR1、DR2の双方に2つの不良ビットが存在する場合(SE1=“10”、SE2=“10”)、リードデータDR1、DR2のいずれに関してもエラー訂正は不可能である。第1処理後データDE1も第2処理後データDE2も、書き込み時のデータと異なる不正確なデータである。この場合、セレクタ40は、マイコンを停止させるエラー信号ERRをCPUに出力する。例えば、エラー信号ERRは、第1不良ビット数信号SE1の上位ビットと第2不良ビット数信号SE2の上位ビットとの論理積演算の結果である。エラー信号ERRが“1”になった場合、CPUは、マイコンを停止させる。
尚、セレクタ40とECC回路60を合わせて、「訂正回路」と呼ぶこともできる。また、セレクタ40は、ECC回路60の内部に設けられていてもよい。
3−2.高速リードモード、低速リードモード
第1の実施の形態における説明と同様に、本実施の形態がEEPROMに適用される場合を、例として考える。
(高速リードモード)
図11は、高速リードモードにおける処理の一例を説明するための概念図である。既出の図6及び図7と同様に、縦軸は、電流値を示している。また、書き込み時の格納データDS(期待値)は、8ビットのデータ“10101010”であるとする。つまり、格納データDSは、4個の消去セルと4個のプログラムセルに格納されている。更に、書き込み後の時間経過によって、一部の消去セルが保持抜けセルとなり、セル電流Ionが減少しているとする。また、書き込み後の時間経過によって、一部のプログラムセルが保持抜けセルとなり、セル電流Ionが増加しているとする。
高速リードモード時、プログラムセル(データ“0”)に関しては、正常にデータ判定が行われる。上述の通り、高速リードモード時に注意すべきは、消去セル(データ“1”)である。
第1センスアンプ回路31は、第1リファレンス電流IREF1を用いて格納データDSを読み出す。この時、図11に示されるように、1つの消去セルを流れるセル電流Ion(安定状態)が、スピードマージンレベルISを下回っており、第1リードデータDR1は“10001010”となる。第1ECC回路61は、エラー訂正コードECC1を用いることにより、1つの不良ビットを検出する。従って、第1不良ビット数信号SE1は“01”である。また、第1ECC回路61は、エラー訂正コードECC1を用いて第1リードデータDR1のエラー訂正を行い、第1処理後データDE1を生成する。その第1処理後データDE1は、期待値と同じ“10101010”である。
第2センスアンプ回路32は、第1リファレンス電流IREF1より大きい第2リファレンス電流IREF2を用いて、格納データDSを読み出す。この時、2つの消去セルを流れるセル電流Ion(安定状態)が、スピードマージンレベルISを下回っており、第2リードデータDR2は“10000010”となる。第2ECC回路62は、エラー訂正コードECC2を用いることにより、2つの不良ビットを検出する。従って、第2不良ビット数信号SE2は“10”である。この場合、第2リードデータDR2のエラー訂正は不可能であり、第2処理後データDE2は不定である。
セレクタ40は、図10で示された論理に従い、第1処理後データDE1を出力データDoutとして出力する。その結果、出力データDoutとして期待値と同じ正確なデータが得られる。
(低速リードモード)
図12は、低速リードモードにおける処理の一例を説明するための概念図である。格納データDSの状態は、図11における状態と同じである。低速リードモード時、消去セル(データ“1”)に関しては、正常にデータ判定が行われる。上述の通り、低速リードモード時に注意すべきは、プログラムセル(データ“0”)である。
第1センスアンプ回路31は、第1リファレンス電流IREF1を用いて格納データDSを読み出す。この時、2つのプログラムセルを流れるセル電流Ion(最低温状態)が、DCマージンレベルIDを超えており、温度状態によっては、第1リードデータDR1は“10111110”となる。第1ECC回路61は、エラー訂正コードECC1を用いることにより、2つの不良ビットを検出する。従って、第1不良ビット数信号SE1は“10”である。この場合、第1リードデータDR1のエラー訂正は不可能であり、第1処理後データDE1は不定である。
第2センスアンプ回路32は、第1リファレンス電流IREF1より大きい第2リファレンス電流IREF2を用いて、格納データDSを読み出す。この時、1つのプログラムセルを流れるセル電流Ion(最低温状態)が、DCマージンレベルIDを超えており、温度状態によっては、第2リードデータDR2は“10111010”となる。第2ECC回路62は、エラー訂正コードECC2を用いることにより、1つの不良ビットを検出する。従って、第2不良ビット数信号SE2は“01”である。また、第2ECC回路62は、エラー訂正コードECC2を用いて第2リードデータDR2のエラー訂正を行い、第2処理後データDE2を生成する。その第2処理後データDE2は、期待値と同じ“10101010”である。
セレクタ40は、図10で示された論理に従い、第2処理後データDE2を出力データDoutとして出力する。その結果、出力データDoutとして期待値と同じ正確なデータが得られる。
3−3.効果
以上に説明されたように、本実施の形態によれば、2種類のリファレンスレベルREF1、REF2を用いることによって、同じ格納データDSから2種類のリードデータDR1、DR2が生成される。更に、エラー訂正処理を通して、2種類の処理後データDE1、DE2が生成される。そして、それら2種類の処理後データDE1、DE2のうち良好な一方が、出力データDoutとして自動的に選択される。具体的には、不良ビット数信号SE1、SE2に基づいて、不良ビット数の少ない方のリードデータに対応する処理後データが、出力データDoutとして選択される。その結果、出力データDoutの信頼性が向上する。出力データDoutの信頼性が向上するため、半導体記憶装置1が搭載されるマイコンの動作不良が低減される。
本実施の形態によれば、ECC回路60によるエラー訂正処理がより有効に行われているとも言える。1種類のリファレンスレベルが用いられる場合、リードデータDRも1種類である。そのリードデータDR中に2以上の不良ビットが存在すると、エラー訂正はもはや不可能である。その場合、マイコンは停止する。一方、本実施の形態によれば、複数種類のリファレンスレベル(REF1,REF2)を用いることによって、複数種類のリードデータ(DR1、DR2)が得られる。エラー訂正が行われる対象の数が増加するため、エラー訂正の成功率が高まり、マイコンの動作が停止する確率が減少する。
更に、本実施の形態によれば、高速リードモード・低速リードモードにかかわらず、最適なデータが出力データDoutとして自動的に選択される。それは、セレクタ40の動作が、モード信号MODではなく、不良ビット数信号SE1,SE2に依存しているからである。セレクタ40は、動作モードに関係なく、最も不良ビット数が少ない最適なデータを選択することができる。言い換えれば、本実施の形態に係る回路構成は、どのような動作モードにも対応することができ、あらゆる周波数の動作速度に対応することが可能である。その意味で、本実施の形態に係る半導体記憶装置1は汎用的であると言える。
また、本実施の形態によれば、半導体記憶装置1の外部からモード信号MODを入力しなくてもよい。セレクタ40の動作は、半導体記憶装置1の内部で生成される不良ビット数信号SE1,SE2によって自動的に制御される。
但し、第1の実施の形態と第3の実施の形態を組み合わせることも可能である。つまり、本実施の形態におけるセレクタ40に、モード信号MODが更に入力されてもよい。その場合、セレクタ40は、不良ビット数信号SE1,SE2に加えて、モード信号MODをも参照することができる。例えば、第1リードデータDR1に3以上の不良ビットが存在し、第2リードデータDR2に1つの不良ビットが存在する場合を考える。その場合、第2不良ビット数信号SE2は“01”である一方、第1不良ビット数信号SE1は不定となる。ここで、不定の第1不良ビット数信号SE1が、たまたま同じ“01”になってしまう可能性もある。この時、セレクタ40は、第1処理後データDE1ではなく、第2処理後データDE2を選択することが好ましい。図10に示された論理によれば、不良ビット数信号SE1とSE2が同じ値を取った場合、第1処理後データDE1が優先的に選択されるが、それが必ずしも好ましいとは限らない。不良ビット数信号SE1とSE2が同じ値を取る場合は、追加情報を更に参酌することにより、出力データDoutの信頼性がより向上する可能性がある。その追加情報がモード信号MODである。セレクタ40は、基本的には、不良ビット数信号SE1,SE2に基づいて出力データDoutを決定する。しかし、不良ビット数信号SE1とSE2が同じ場合は、更にモード信号MODを参酌する。モード信号MODが高速リードモードを示す場合、セレクタ40は、第1処理後データDE1を出力データDoutとして選択する。一方、モード信号MODが低速リードモードを示す場合、セレクタ40は、第2処理後データDE2を出力データDoutとして選択する。これにより、不良ビット数信号SE1とSE2との予期せぬ一致に起因する不具合が解消され得る。
4.第4の実施の形態
図13は、第4の実施の形態に係る半導体記憶装置1の構成を概略的に示している。図13において、第3の実施の形態における構成と同じ構成には同一の符号が付され、その説明は適宜省略される。
既出の第3の実施の形態において、センスアンプ回路30は、第1センスアンプ回路31と第2センスアンプ回路32を別々に有し、2種類のデータ群「DR1、ECC1」と「DR2、ECC2」を、パラレルに出力していた。第4の実施の形態において、センスアンプ回路30は、2種類のデータ群「DR1、ECC1」と「DR2、ECC2」を、シーケンシャルに出力する。具体的には、同じセンスアンプ回路30が、第1リファレンスレベルREF1と第2リファレンスレベルREF2を順番に受け取る。そして、そのセンスアンプ回路30は、第1リファレンスレベルREF1と第2リファレンスレベルREF2をそれぞれ用いて、データ群「DR1、ECC1」とデータ群「DR2、ECC2」を順番に生成する。
また、既出の第3の実施の形態において、ECC回路60は、第1ECC回路61と第2ECC回路62を別々に有し、エラー訂正処理をパラレルに実行していた。第4の実施の形態において、ECC回路60は、エラー訂正処理をシーケンシャルに実行する。具体的には、同じECC回路60が、データ群「DR1、ECC1」とデータ群「DR2、ECC2」を順番に受け取り、第1リードデータDR1及び第2リードデータDR2のエラー訂正処理を順番に行う。そして、ECC回路60は、データ群「DE1、SE1」と、データ群「DE2、SE2」を、シーケンシャルに出力する。
ECC回路60とセレクタ40の間には、レジスタ回路70が設けられている。レジスタ回路70には、データ群「DE1、SE1」とデータ群「DE2、SE2」が順番に格納される。例えば、レジスタ回路70は2段のシフトレジスタにより構成され、各段は、処理後データと不良ビット数信号の合計ビット数分のレジスタから構成される。
レジスタ回路70に格納されたデータ群「DE1、SE1」とデータ群「DE2、SE2」は、所定のタイミングで、セレクタ40に同時に出力される。セレクタ40は、不良ビット数信号SE1、SE2に応じて、第1処理後データDE1あるいは第2処理後データDE2のいずれかを選択し、選択された一方を出力データDoutとしてバスに出力する。
第4の実施の形態によれば、第3の実施の形態と同じ効果が得られる。更に、第1ECC回路61と第2ECC回路62を別々に設ける必要がないので、回路面積が全体として縮小される。また、第2の実施の形態と第4の実施の形態を組み合わせることも可能である。
5.リファレンスレベル生成回路
上述の第1リファレンスレベルREF1及び第2リファレンスレベルREF2は、リファレンスレベル生成回路80によって生成される。図14は、リファレンスレベル生成回路80を含む半導体記憶装置1の構成を示している。図14に示されるように、リファレンスレベル生成回路80は、センスアンプ回路30に接続されている。リファレンスレベル生成回路80は、第1リファレンスレベルREF1及び第2リファレンスレベルREF2をセンスアンプ回路30に出力する。リファレンスレベルとは、リファレンス電流あるいはリファレンス電位を意味する。
例えば、リファレンス電流を用いた電流センス方式によって、データのセンスが行われる場合を考える。この場合、リファレンスレベル生成回路80は、第1リファレンス電流IREF1及び第2リファレンス電流IREF2を生成するように構成された定電流回路である。センスアンプ回路30がパラレル処理を行う場合(第1,第3の実施の形態)、リファレンスレベル生成回路80は、第1リファレンス電流IREF1と第2リファレンス電流IREF2を同時に出力する。センスアンプ回路30がシーケンシャル処理を行う場合(第2,第4の実施の形態)、リファレンスレベル生成回路80は、第1リファレンス電流IREF1と第2リファレンス電流IREF2を切り換えて順番に出力する。
図15は、電流センス方式のリファレンスレベル生成回路80及びその周辺の一例を示している。より詳細には、図15において、あるメモリセル11、そのメモリセル11に接続されるカレントミラー型のセンスアンプSA、及びリファレンスレベル生成回路80が示されている。
本例において、リファレンスレベル生成回路80は、メモリセルアレイ10中のリファレンスセル11r−1、11r−2を含み、リファレンス電流IREF1、IREF2は、それらリファレンスセル11r−1、11r−2を用いることによってそれぞれ生成される。リファレンスセル11r−1、11r−2は、メモリセル11と同じ構造を有している。あるいは、リファレンスセル11r−1、11r−2において、制御ゲートと浮遊ゲートが短絡されていてもよい。
センスアンプSAは、NMOSトランジスタN0、N1、N5、PMOSトランジスタP0、P1、P5を有している。PMOSトランジスタP0、P1のゲートは、共通のノードA0に接続されており、また、PMOSトランジスタP0のゲートとドレインは互いに接続されている。つまり、PMOSトランジスタP0、P1は、カレントミラー回路を構成している。同様に、PMOSトランジスタP0、P5は、別のカレントミラー回路を構成している。
PMOSトランジスタP0のドレインは、NMOSトランジスタN0のドレインに接続されている。NMOSトランジスタN0のソースは、ビット線BITを介してメモリセル11に接続されており、そのゲートは、NOR93の出力に接続されている。このNOR93は、ストップ信号STOPに応じてNMOSトランジスタN0をOFFし、不必要な場合に電流が流れることを防止する役割を果たす。
PMOSトランジスタP1のドレインは、ノードA1を介して、NMOSトランジスタN1のドレインに接続されている。NMOSトランジスタN1のゲートは、ノードA3に接続されている。ノードA3は、NMOSトランジスタN3のゲート及びドレインに接続されている。つまり、NMOSトランジスタN1、N3は、カレントミラー回路を構成している。NMOSトランジスタN3のドレインは、PMOSトランジスタP3のドレインに接続されている。PMOSトランジスタP3のゲートは、ノードA5に接続されている。ノードA5は、PMOSトランジスタP2のゲート及びドレインに接続されている。つまり、PMOSトランジスタP2、P3は、カレントミラー回路を構成している。
PMOSトランジスタP2のドレインは、NMOSトランジスタN2のドレインに接続されている。NMOSトランジスタN2のソースは、ノードA7に接続されており、そのゲートは、NOR92の出力に接続されている。このNOR92は、ストップ信号STOPに応じてNMOSトランジスタN2をOFFし、不必要な場合に電流が流れることを防止する役割を果たす。更に、ノードA7は、リファレンスセル11r−1に接続されている。
同様に、PMOSトランジスタP5のドレインは、ノードA2を介して、NMOSトランジスタN5のドレインに接続されている。NMOSトランジスタN5のゲートは、ノードA4に接続されている。ノードA4は、NMOSトランジスタN7のゲート及びドレインに接続されている。つまり、NMOSトランジスタN5、N7は、カレントミラー回路を構成している。NMOSトランジスタN7のドレインは、PMOSトランジスタP7のドレインに接続されている。PMOSトランジスタP7のゲートは、ノードA6に接続されている。ノードA6は、PMOSトランジスタP6のゲート及びドレインに接続されている。つまり、PMOSトランジスタP6、P7は、カレントミラー回路を構成している。
PMOSトランジスタP6のドレインは、NMOSトランジスタN6のドレインに接続されている。NMOSトランジスタN6のソースは、ノードA8に接続されており、そのゲートは、NOR95の出力に接続されている。このNOR95は、ストップ信号STOPに応じてNMOSトランジスタN6をOFFし、不必要な場合に電流が流れることを防止する役割を果たす。更に、ノードA8は、リファレンスセル11r−2に接続されている。
メモリセル11のデータリード時、メモリセル11であるメモリセルトランジスタの制御ゲートに、リード電圧VRが印加される。その結果、メモリセル11にセル電流Ionが流れる。そのセル電流Ionは、PMOSトランジスタP0にも流れる。更に、カレントミラー回路によって、PMOSトランジスタP1、P5に、セル電流Ionと等しいミラー電流が流れる。
同時に、リファレンスセル11r−1の制御ゲートに電圧VR1が印加される。リファレンスセル11r−1は、制御ゲートに電圧VR1が印加された時に第1リファレンス電流IREF1が流れるような状態に設定されている。結果として、PMOSトランジスタP2に第1リファレンス電流IREF1が流れ、また、カレントミラー回路により、NMOSトランジスタN1に、第1リファレンス電流IREF1のミラー電流が流れる。
また、リファレンスセル11r−2の制御ゲートに電圧VR2が印加される。リファレンスセル11r−2は、制御ゲートに電圧VR2が印加された時に第2リファレンス電流IREF2が流れるような状態に設定されている。結果として、PMOSトランジスタP6に第2リファレンス電流IREF2が流れ、また、カレントミラー回路により、NMOSトランジスタN5に、第2リファレンス電流IREF2のミラー電流が流れる。
このように、データリード時、リファレンスレベル生成回路80から、第1リファレンス電流IREF1及び第2リファレンス電流IREF2が同時に供給される。電源からノードA1にはセル電流Ionと等しい電流が流れ、ノードA1からグランドには第1リファレンス電流IREF1と等しい電流が流れる。また、電源からノードA2にはセル電流Ionと等しい電流が流れ、ノードA2からグランドには第2リファレンス電流IREF2と等しい電流が流れる。
メモリセル11が消去セル(データ“1”)の場合、セル電流Ionはリファレンス電流IREF1、IREF2より大きくなる。よって、ノードA1の電位は、電源電位VDD近傍まで上昇する。ノードA1に接続されたバッファ91を介して、センスアンプSAからデータ“1”が出力される。同様に、ノードA2の電位は、電源電位VDD近傍まで上昇する。ノードA2に接続されたバッファ94を介して、センスアンプSAからデータ“1”が出力される。尚、ここでは、保持抜けは考慮していない。
一方、メモリセル11がプログラムセル(データ“0”)の場合、セル電流Ionはリファレンス電流IREF1、IREF2より小さくなる。よって、ノードA1の電位は、グランド電位GND近傍まで下降する。ノードA1に接続されたバッファ91を介して、センスアンプSAからデータ“0”が出力される。同様に、ノードA2の電位は、グランド電位GND近傍まで下降する。ノードA2に接続されたバッファ94を介して、センスアンプSAからデータ“0”が出力される。尚、ここでは、保持抜けは考慮していない。
図15に示された回路は、パラレル処理が行われる上述の第1の実施の形態及び第3の実施の形態に適用可能である。
図16は、シーケンシャル処理が行われる上述の第2の実施の形態及び第4の実施の形態に適用可能な回路の一例を示している。図16において、図15と同様の構成には同じ符号が付されている。
図16に示されるリファレンスレベル生成回路80において、リファレンスセル11r−2は、ノードA7に接続されている。第1リファレンス電流IREF1の供給時、リファレンスセル11r−1の制御ゲートには電圧VR1が印加される一方、リファレンスセル11r−2の制御ゲートには0Vの電圧が印加される。その結果、リファレンスレベル生成回路80から、第1リファレンス電流IREF1だけが供給される。一方、第2リファレンス電流IREF2の供給時、リファレンスセル11r−2の制御ゲートには電圧VR2が印加され、リファレンスセル11r−1の制御ゲートには0Vの電圧が印加される。その結果、リファレンスレベル生成回路80から、第2リファレンス電流IREF2だけが供給される。電圧VR1とVR2の印加を時間的に切り換えることによって、第1リファレンス電流IREF1と第2リファレンス電流IREF2を時間的に切り換えて発生させることが可能となる。
6.まとめ
本発明によれば、2種類のリファレンスレベルREF1、REF2を用いることによって、同じ格納データDSから2種類のリードデータDR1、DR2が出力される。セレクタ40は、それら2種類のリードデータDR1、DR2のうち好適な一方を出力データDoutとして選択する。その結果、出力データDoutの信頼性が向上する。
尚、本発明は、EEPROMに限られずDRAM等にも適用可能である。また、2種類以上のリファレンスレベルが設定されてもよい。更に、メモリセル11に格納されるデータは、多値データであってもよい。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を概略的に示すブロック図である。 図2は、EEPROMにおけるメモリセルの閾値電圧分布を示すグラフである。 図3は、EEPROMにおけるデータ読み出しを説明するための概念図である。 図4は、スピードマージンを説明するためのグラフである。 図5は、DCマージンを説明するためのグラフである。 図6は、高速リードモードを説明するための概念図である。 図7は、低速リードモードを説明するための概念図である。 図8は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を概略的に示すブロック図である。 図9は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を概略的に示すブロック図である。 図10は、第3の実施の形態におけるセレクタの論理を示すテーブルである。 図11は、高速リードモードにおける動作の一例を説明するための概念図である。 図12は、低速リードモードにおける動作の一例を説明するための概念図である。 図13は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を概略的に示すブロック図である。 図14は、本発明の実施の形態に係る半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。 図15は、本発明の実施の形態に係るリファレンスレベル生成回路とセンスアンプの構成の一例を示す回路図である。 図16は、本発明の実施の形態に係るリファレンスレベル生成回路とセンスアンプの構成の他の例を示す回路図である。
符号の説明
1 半導体記憶装置
10 メモリセルアレイ
11 メモリセル
11r リファレンスセル
12 データ領域
13 ECC領域
20 データ読み出し回路
30 センスアンプ回路
31 第1センスアンプ回路
32 第2センスアンプ回路
40 セレクタ
50 レジスタ回路
60 ECC回路
61 第1ECC回路
62 第2ECC回路
70 レジスタ回路
80 リファレンスレベル生成回路
DS 格納データ
DR1 第1リードデータ
DR2 第2リードデータ
DE1 第1処理後データ
DE2 第2処理後データ
Dout 出力データ
ECC エラー訂正コード
ERR エラー信号
Ion セル電流
ID DCマージンレベル
IE 消去レベル
IP プログラムレベル
IS スピードマージンレベル
MOD モード信号
MD DCマージン
MS スピードマージン
REF1,IREF1 第1リファレンスレベル
REF2,IREF2 第2リファレンスレベル
SE1 第1不良ビット数信号
SE2 第2不良ビット数信号

Claims (15)

  1. メモリセルアレイに格納されている格納データを複数のリファレンスレベルを用いてセンスし、前記格納データに関して前記複数のリファレンスレベルのそれぞれに対応する複数のリードデータを出力するセンスアンプ回路と、
    制御信号に基づいて前記複数のリードデータのうちいずれか1つに対応するデータを選択し、前記選択されたデータを出力データとして出力するセレクタと
    を備える
    データ読み出し回路。
  2. 請求項1に記載のデータ読み出し回路であって、
    更に、前記格納データに対応付けられたエラー訂正コード(ECC: Error Correction Code)を用いることによって、前記複数のリードデータのそれぞれの不良ビット数を検出するECC回路を備え、
    前記ECC回路は、前記検出されたそれぞれの不良ビット数を示す複数の不良ビット数信号を前記制御信号として前記セレクタに出力する
    データ読み出し回路。
  3. 請求項2に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記セレクタは、前記複数の不良ビット数信号を参照し、前記複数のリードデータのうち前記不良ビット数が最も少ない1つに対応するデータを前記出力データとして選択する
    データ読み出し回路。
  4. 請求項2に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記ECC回路は、前記エラー訂正コードを用いたエラー訂正処理を通して前記複数のリードデータのそれぞれから複数の処理後データを生成し、前記複数の不良ビット数信号と共に前記複数の処理後データを前記セレクタに出力し、
    前記セレクタは、前記複数の不良ビット信号のうち最少の前記不良ビット数を示す1つを検出し、前記複数の処理後データのうち前記1つの不良ビット数信号に対応する1つを前記出力データとして選択する
    データ読み出し回路。
  5. 請求項4に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記センスアンプ回路は、前記複数のリードデータをパラレルに前記ECC回路に出力し、
    前記ECC回路は、前記複数のリードデータに対して前記エラー訂正処理をパラレルに実行し、前記複数の処理後データをパラレルに出力する
    データ読み出し回路。
  6. 請求項4に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記センスアンプ回路は、前記複数のリードデータをシーケンシャルに前記ECC回路に出力し、
    前記ECC回路は、前記複数のリードデータに対して前記エラー訂正処理をシーケンシャルに実行し、前記複数の処理後データをシーケンシャルに出力する
    データ読み出し回路。
  7. 請求項1に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記制御信号は、前記データ読み出し回路が搭載される半導体記憶装置の動作モードを示すモード信号である
    データ読み出し回路。
  8. 請求項7に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記複数のリファレンスレベルは、第1リファレンスレベルと第2リファレンスレベルを含み、
    前記複数のリードデータは、前記第1リファレンスレベルと前記第2リファレンスレベルのそれぞれに対応する第1リードデータと第2リードデータを含み、
    前記モード信号が第1動作モードを示す場合、前記セレクタは、前記第1リードデータを前記出力データとして選択し、
    前記モード信号が第2動作モードを示す場合、前記セレクタは、前記第2リードデータを前記出力データとして選択する
    データ読み出し回路。
  9. 請求項8に記載のデータ読み出し回路であって、
    前記半導体記憶装置は、電気的に消去/プログラムが可能なROMであり、
    前記半導体記憶装置の動作速度は、前記第1動作モード時の方が前記第2動作モード時よりも高く、
    前記第1リファレンスレベルは前記第2リファレンスレベルより低く設定される
    データ読み出し回路。
  10. 請求項7乃至9のいずれかに記載のデータ読み出し回路であって、
    前記センスアンプ回路は、前記複数のリードデータをパラレルに前記セレクタに出力する
    データ読み出し回路。
  11. 請求項7乃至9のいずれかに記載のデータ読み出し回路であって、
    前記センスアンプ回路は、前記複数のリードデータをシーケンシャルに出力する
    データ読み出し回路。
  12. 請求項1乃至11のいずれかに記載のデータ読み出し回路と、
    前記データ読み出し回路に接続された前記メモリセルアレイと
    を具備する
    半導体記憶装置。
  13. 同じメモリセル群から読み出される複数のリードデータを受け取り、前記同じメモリセル群に格納されたデータに対応付けられたエラー訂正コード(ECC: Error Correction Code)を用いることによって、前記複数のリードデータのそれぞれの不良ビット数を検出するECC回路と、
    前記複数のリードデータのうち前記不良ビット数が最も少ない1つに対応するデータを選択するセレクタと
    を備える
    訂正回路。
  14. 半導体記憶装置におけるデータ読み出し方法であって、
    (A)メモリセルアレイに格納されている格納データを複数のリファレンスレベルを用いてセンスし、前記格納データに関して前記複数のリファレンスレベルのそれぞれに対応する複数のリードデータを生成するステップと、
    (B)前記複数のリードデータのうちいずれか1つに対応するデータを選択し、前記選択されたデータを出力データとして出力するステップと
    を有する
    データ読み出し方法。
  15. 請求項14に記載のデータ読み出し方法であって、
    前記(B)ステップは、
    (B1)前記格納データに対応付けられたエラー訂正コード(ECC: Error Correction Code)を用いることによって、前記複数のリードデータのそれぞれの不良ビット数を検出するステップと、
    (B2)前記複数のリードデータのうち前記不良ビット数が最も少ない1つに対応するデータを、前記出力データとして選択するステップと
    を含む
    データ読み出し方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010123192A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4564520B2 (ja) * 2007-08-31 2010-10-20 株式会社東芝 半導体記憶装置およびその制御方法
JP5215769B2 (ja) * 2008-08-07 2013-06-19 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体集積回路
CN102110464B (zh) * 2009-12-26 2015-06-10 上海芯豪微电子有限公司 宽带读写存储器装置
JP5490062B2 (ja) * 2011-07-19 2014-05-14 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
US10872010B2 (en) 2019-03-25 2020-12-22 Micron Technology, Inc. Error identification in executed code
KR20220099251A (ko) * 2021-01-06 2022-07-13 삼성전자주식회사 멀티 레벨 신호 수신을 위한 수신기, 이를 포함하는 메모리 장치 및 이를 이용한 데이터 수신 방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001202788A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Mitsubishi Electric Corp 可変容量半導体記憶装置
JP2003257192A (ja) * 2002-03-06 2003-09-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置および不揮発性半導体記憶装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5293560A (en) * 1988-06-08 1994-03-08 Eliyahou Harari Multi-state flash EEPROM system using incremental programing and erasing methods
JP2573416B2 (ja) * 1990-11-28 1997-01-22 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP2821278B2 (ja) * 1991-04-15 1998-11-05 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体集積回路
EP0766174B1 (en) * 1995-09-29 2002-05-22 STMicroelectronics S.r.l. Memory device having improved yield and reliability
US5687114A (en) * 1995-10-06 1997-11-11 Agate Semiconductor, Inc. Integrated circuit for storage and retrieval of multiple digital bits per nonvolatile memory cell
US5864569A (en) * 1996-10-18 1999-01-26 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for performing error correction on data read from a multistate memory
DE19916065A1 (de) * 1999-04-09 2000-10-19 Siemens Ag Programmierbarer Festwertspeicher und Verfahren zum Betreiben des Festwertspeichers
JP4336212B2 (ja) 2004-01-26 2009-09-30 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US7187585B2 (en) * 2005-04-05 2007-03-06 Sandisk Corporation Read operation for non-volatile storage that includes compensation for coupling

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001202788A (ja) * 2000-01-19 2001-07-27 Mitsubishi Electric Corp 可変容量半導体記憶装置
JP2003257192A (ja) * 2002-03-06 2003-09-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置および不揮発性半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010123192A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
US8385116B2 (en) 2008-11-19 2013-02-26 Fujitsu Limited Nonvolatile semiconductor storage device, controller and threshold adjustment method

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