JP2008047843A - 回路装置およびその製造方法、配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の回路装置の製造方法は、導電箔30の上面を部分的に除去して導電箔よりも浅い第1分離溝17を形成する工程と、第1分離溝17が充填されるように導電箔30の表面を第1絶縁層12で被覆する工程と、第1分離溝17に充填された第1絶縁層12が露出するまで導電箔30を裏面から除去して、第1分離溝17が設けられた箇所で導電箔30を分離して導電パターン11を形成する工程と、導電パターン11が被覆されるように第2絶縁層32を形成する工程と、第1絶縁層12および第2絶縁層13の主面に、第1配線層14および第2配線層15を形成する工程とを具備する。
【選択図】図5
Description
本形態では、図1から図8を参照して、本形態の回路装置の構成を説明する。
本形態では、図9および図10の断面図を参照して、図1に示した構成の回路装置10Aを製造する方法を説明する。
次に、図11および図12の断面図を参照して、図2に構成を示した回路装置10Bの製造方法を説明する。回路装置10Bの製造方法は、基本的には上述した回路装置10Aの製造方法と同様である。両者の相違点は、各絶縁層を貫通する貫通接続部23を形成する点、パターニングされていないベタの導電箔25により金属コアを構成する点にある。この相違点を中心に回路装置10Bの製造方法を説明する。
本形態では、図13を参照して、図6に構成を示す回路装置10Fの製造方法を説明する。この製造方法は、基本的には上述した第2の実施の形態と同様であり、相違点は配線47A等を形成するために各分離溝の幅および位置を調節することにある。
次に、図14を参照して、図7に構成を示した回路装置10Gの製造方法を説明する。この製造方法は、基本的には上述した第2の実施の形態と同様であり、相違点は堀込み部52A等を設ける点にある。
11、11A 導電パターン
12 第1絶縁層
13 第2絶縁層
14 第1配線層
15 第2配線層
16、16A 分離溝
17、17A、17B、17C、17D 第1分離溝
18、18A、18B、18C、18D、18E 第2分離溝
19、19A、20 層間接続部
21 半導体素子
22 チップ素子
23 貫通接続部
24 貫通孔
25 導電箔
26 内蔵素子
27 第1接続孔
28 第2接続孔
30 導電箔
31 第1導電膜
32 第2導電膜
33、34 露出孔
40 第1接続孔
41 第2接続孔
42 接続孔
43、44 露出部
45 レジスト
46 サーマルビアホール
47A、47B、47C 配線
48 金属細線
49 封止樹脂
50 配線基板
51 絶縁層
52A、52B 堀込み部
53 レジスト
54 外部電極
Claims (27)
- 配線基板と、前記配線基板に実装された回路素子とを具備し、
前記配線基板は、金属コア層と、前記金属コア層の上面および下面を被覆する絶縁層と、前記絶縁層の上面および下面に形成された第1配線層および第2配線層とを有し、
前記金属コア層は、分離溝により互いに離間された導電パターンから成り、前記分離溝に前記絶縁層が充填されることで前記導電パターン同士は電気的に絶縁されることを特徴とする回路装置。 - 前記導電パターンの側面は、部分的に外側に突出する湾曲面であることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記第1配線層と前記導電パターンまたは前記第2配線層と前記導電パターンとは、前記絶縁層を貫通する層間接続部を経由して電気的に接続されることを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 全ての前記導電パターンは、前記絶縁層から成る前記配線基板の外周端部から離間した内側に位置することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記導電パターンを厚み方向に貫通する接続孔を設け、
前記接続孔の内部に、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続させる貫通接続部を設けることを特徴とする請求項1記載の回路装置。 - 前記金属コア層の一部から成り、前記導電パターンよりも厚みが薄く形成された配線を具備することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記分離溝は、前記金属コア層の上面から設けた第1分離溝と、前記金属コア層の下面から設けた第2分離溝とから成り、
前記第2分離溝を前記第1分離溝よりも大きく形成し、前記第2分離溝の上方に対応する領域に、前記第1配線層と前記導電パターンとを接続する層間接続部を設けることを特徴とする請求項1記載の回路装置。 - 前記絶縁層を部分的に除去して前記金属コア層を露出させ、露出する部分の前記金属コア層に前記回路素子を固着することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 前記絶縁層を部分的に除去して前記金属コア層を露出させ、露出する部分の前記金属コア層に外部電極を溶着することを特徴とする請求項1記載の回路装置。
- 配線基板と、前記配線基板に実装された回路素子とを具備し、
前記配線基板は、金属コア層と、前記金属コア層の上面および下面を被覆する絶縁層と、前記絶縁層の上面および下面に形成された第1配線層および第2配線層とを有し、
前記金属コア層の外周端部は、前記絶縁層から成る前記配線基板の外周端部から離間した内側に位置することを特徴とする回路装置。 - 前記第1配線層と前記金属コア層または前記第2配線層と前記金属コア層とは、前記絶縁層を貫通する層間接続部を経由して電気的に接続されることを特徴とする請求項10記載の回路装置。
- 前記金属コア層を厚み方向に貫通する接続孔を設け、
前記接続孔の内部に、前記第1配線層と前記第2配線層とを電気的に接続させる貫通接続部を設けることを特徴とする請求項10記載の回路装置。 - 導電箔の一主面を部分的に除去して導電箔よりも浅い分離溝を形成する第1工程と、
前記分離溝が充填されるように前記導電箔の前記一主面を第1絶縁層で被覆する第2工程と、
前記分離溝に充填された前記第1絶縁層が露出するまで前記導電箔を他主面から除去して、前記分離溝が設けられた箇所で前記導電箔を分離して導電パターンを形成する第3工程と、
前記導電パターンが被覆されるように第2絶縁層を形成する第4工程と、
前記第1絶縁層および前記第2絶縁層の主面に、第1配線層および第2配線層を形成する第5工程と、
前記第1配線層に回路素子を電気的に接続する第6工程とを具備することを特徴とする回路装置の製造方法。 - 前記分離溝は、ウェットエッチングにより形成されることを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記第3工程では、前記分離溝が設けられた領域に対応する前記導電箔の他主面を選択的に除去して、前記導電パターンを分離することを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記第3工程では、前記導電箔の他主面をマスクを用いずに全面的に除去して前記導電パターンを分離することを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記分離溝に充填された前記第1絶縁層および前記第2絶縁層を貫通して、前記第1配線層と前記第2配線層とを導通させる貫通接続部を形成することを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記第1絶縁層または前記第2絶縁層を貫通する層間接続部を設けて、前記第1配線層または前記第2配線層と前記導電パターンを導通させる工程を具備することを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記分離溝は、導電箔の上面から形成された第1分離溝と、導電箔の下面から形成された第2分離溝から成り、両分離溝の幅を異ならせることを特徴とする請求項13記載の回路装置の製造方法。
- 前記第2分離溝を前記第1分離溝よりも大きく形成し、
1つの前記第2分離溝に2つの前記第1分離溝が接触するように両分離溝を形成することで、前記第1分離溝同士の間に、前記導電パターンよりも厚みが薄い配線を形成することを特徴とする請求項19記載の回路装置の製造方法。 - 導電箔の一主面を部分的に除去して導電箔よりも浅い接続孔を形成する第1工程と、
前記接続孔が充填されるように前記導電箔の前記一主面を第1絶縁層で被覆する第2工程と、
前記接続孔に充填された前記第1絶縁層が露出するまで前記導電箔を他主面から除去する第3工程と、
前記導電箔の他主面および前記接続孔から露出する前記第1絶縁層が被覆されるように第2絶縁層を形成する第4工程と、
前記接続孔に対応する箇所の前記第1絶縁層および前記第2絶縁層を貫通する貫通孔を形成する第5工程と、
前記第1絶縁層および前記第2絶縁層の主面に、第1配線層および第2配線層を形成して、前記第1配線層と前記第2配線層とを接続する貫通接続部を前記貫通孔の内部に形成する第6工程と、
前記第1配線層に回路素子を電気的に接続する第7工程とを具備することを特徴とする回路装置の製造方法。 - 前記第3工程では、前記接続孔に対応する領域の前記導電箔の他主面を選択的にエッチングすることで、接続孔に充填された前記第1絶縁層を露出させることを特徴とする請求項21記載の回路装置の製造方法。
- 前記第3工程では、前記導電箔の他主面を全面的にエッチングすることで、前記接続孔に充填された前記第1絶縁層を露出させることを特徴とする請求項21記載の回路装置の製造方法。
- 金属コア層と、前記金属コア層の上面および下面を被覆する絶縁層と、前記絶縁層の上面および下面に形成された第1配線層および第2配線層とを有し、
前記金属コア層は、分離溝により互いに離間された導電パターンから成り、前記分離溝に前記絶縁層が充填されることで前記導電パターン同士は電気的に絶縁されることを特徴とする配線基板。 - 金属コア層と、前記金属コア層の上面および下面を被覆する絶縁層と、前記絶縁層の上面および下面に形成された第1配線層および第2配線層とを有し、
前記金属コア層の外周端部は、前記絶縁層から成る外周端部から離間した内側に位置することを特徴とする配線基板。 - 導電箔の一主面を部分的に除去して導電箔よりも浅い分離溝を形成する第1工程と、
前記分離溝が充填されるように前記導電箔の前記一主面を第1絶縁層で被覆する第2工程と、
前記分離溝に充填された前記第1絶縁層が露出するまで前記導電箔を他主面から除去して、前記分離溝が設けられた箇所で前記導電箔を分離して導電パターンを形成する第3工程と、
前記導電パターンが被覆されるように第2絶縁層を形成する第4工程と、
前記第1絶縁層および前記第2絶縁層の主面に、第1配線層および第2配線層を形成する第5工程とを具備することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 導電箔の一主面を部分的に除去して導電箔よりも浅い接続孔を形成する第1工程と、
前記接続孔が充填されるように前記導電箔の前記一主面を第1絶縁層で被覆する第2工程と、
前記接続孔に充填された前記第1絶縁層が露出するまで前記導電箔を他主面から除去する第3工程と、
前記導電箔の他主面および前記接続孔から露出する前記第1絶縁層が被覆されるように第2絶縁層を形成する第4工程と、
前記接続孔に対応する箇所の前記第1絶縁層および前記第2絶縁層を貫通する貫通孔を形成する第5工程と、
前記第1絶縁層および前記第2絶縁層の主面に、第1配線層および第2配線層を形成して、前記第1配線層と前記第2配線層とを接続する貫通接続部を前記貫通孔の内部に形成する第6工程とを具備することを特徴とする配線基板の製造方法。
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