JP2008029060A - 半導体装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】温度保護が必要な半導体装置において、サーミスタ等を設置することなく、安価に温度保護を可能とする。
【解決手段】正側に設けられた第1のスイッチング素子2a〜2cと、負側に設けられた第2のスイッチング素子2d〜2fとを含み、ハーフブリッジ回路を構成するインテリジェントパワーモジュール(IPM)1を有する半導体装置において、第1、第2のスイッチング素子2a〜2fに、短絡電流を検出するための電流検出手段3aが接続された構成とする。IPM1の温度を確認する際には、CPU UNITが第1、第2のスイッチング素子2a〜2fにデッドタイムを短くした制御入力信号を入力し、短絡電流が検出された際のデッドタイムに基づいてIPM1の温度を推定する。これにより、IPM1の内部にサーミスタ等を設置することなく、安価に温度保護が可能となる。
【選択図】図1

Description

本発明は半導体装置に関し、特に、サーミスタ等を設置することなく温度保護制御を可能とした、インテリジェントパワーモジュールを有する半導体装置に関するものである。
インテリジェントパワーモジュール(IPM)には、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)などのパワー半導体素子が搭載されている。一般に、IPMのモジュール内には、IGBT等の高温化により短絡電流が流れることを防ぐため、サーミスタ等が設置されている。これによりIGBT等の温度上昇によるモジュールの熱破壊を防止している(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−55934号公報
上述したIPM等を含む半導体装置において、半導体モジュール内にサーミスタ等を内蔵すると、半導体装置の製造コストが上昇するという問題があった。
本発明は上記課題を解決するためになされたもので、サーミスタ等を設置することなく、安価に温度保護を可能とする半導体装置を提供することを目的とする。
本発明に係る半導体装置は、正側に設けられた第1のスイッチング素子と、前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第1のデッドタイムを有する第1の制御入力信号と、前記使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長く前記第1のデッドタイムよりも短い第2のデッドタイムを有する第2の制御入力信号とが設定され、前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第1の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第2の制御入力信号が与えられ、前記短絡電流が前記電流検出手段に検出された際には前記制御回路の制御によりターンオフされることを特徴とする。本発明のその他の特徴については、以下において詳細に説明する。
本発明によれば、サーミスタ等を設置することなく、安価に温度保護を可能とする半導体装置を得ることができる。
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。なお、各図において同一または相当する部分には同一符号を付して、その説明を簡略化ないし省略する。
実施の形態1.
本実施の形態1に係る半導体装置の構成について、図1を参照して説明する。この半導体装置は、複数の半導体チップを搭載したインテリジェントパワーモジュール(以下、「IPM」という)1を有している。IPM1には、高耐圧のHVIC1〜3、低耐圧のLVIC、スイッチング素子としての絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(以下、「IGBT」という)2a〜2fが搭載されている。IGBT2a〜2cにより上側アームが構成され、IGBT2d〜2fにより下側アームが構成されている。
すなわち、IPM1の正側(プラス側)には、第1のスイッチング素子としてIGBT2a〜2cが設けられている。IGBT2a〜2cの負側(マイナス側)には、第2のスイッチング素子としてIGBT2d〜2fが接続されている。これらの第1のスイッチング素子および第2のスイッチング素子により、ハーフブリッジ回路が構成されている。
IPM1には、抵抗素子3を含む電流検出手段3aが設けられている。抵抗素子3の一方の端子は、IGBT2d〜2fのエミッタ端子に接続されている。すなわち、第1、第2のスイッチング素子(IGBT2a〜2f)と直列に、上記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出するための電流検出手段3aが接続されている。抵抗素子3の他方の端子とIGBT2a〜2cのコレクタ端子との間には、コンデンサ4a、4bが接続されている。
HVIC1〜3はそれぞれHO端子を有し、各端子は、それぞれIGBT2a〜2cのゲート端子に接続されている。IGBT2a〜2cのエミッタ端子は、モータ5に接続されている。LVICはUOUT、VOUT、WOUT端子を有し、各端子は、それぞれIGBT2d〜2fのゲート端子に接続されている。
また、HVIC1〜3はそれぞれIN端子を有し、各端子は、マイクロ・コンピュータ等のCPU UNITに接続されている。LVICはU端子、V端子、W端子、Fo端子を有し、各端子はCPU UNITに接続されている。CPU UNITは、HVIC1〜3、LVICを介して、IGBT2a〜2fのオン・オフを制御する制御入力信号を与えることができる。すなわち、第1のスイッチング素子(IGBT2a〜2c)、第2のスイッチング素子(IGBT2d〜2f)は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路(CPU UNIT)に接続されている。
次に、図1のIPM1の動作について説明する。図1のIGBT2aと、IGBT2dに着目すると、IGBT2aのエミッタ端子とIGBT2dのコレクタ端子とが接続されている。IGBT2a、2dが同時にオンすると、IGBT2aからIGBT2dを経由して、ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れる。このため通常の使用時において、CPU UNITは、これらのIGBTが同時にオンしないような制御入力信号を与える。つまり、CPU UNITがHVIC1〜3、LVICを介してIGBTに与える制御入力信号は、上側アームのIGBTと、下側アームのIGBTを同時にオフ信号を与える期間、すなわちデッドタイムを有するように設定される。
図1のIGBT2a〜2fのいずれかに、PWM(Pulse Width Modulation)信号を入力した場合のVCE(コレクタ−エミッタ間電圧)、I(コレクタ電流)の波形を図2に示す。PWM信号がオンした時点から、Iが安定に出力される値の90%に達するまでの時間をton、PWM信号をオフした時点から、Iが安定に出力される値の10%に下降するまでの時間をtoffと定義する。tonおよびtoffは、ばらつきを有している。このため、上側アームのIGBTと下側アームのIGBTを同時にオフさせるために必要なデッドタイムは、toffの最大値とtonの最小値との差、すなわちtoff(max)−ton(min)となる。デッドタイムがこの値よりも小さくなると、上側アームと下側アームとの間に、短絡電流が流れ得る。従って、IPMの通常の動作においては、制御入力信号が有するデッドタイムは、ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始めるデッドタイム(以下、「臨界デッドタイム」という)以上の時間に設定される。
ここで、上述した臨界デッドタイムは、図3に示すようにIPMの温度が高くなると増加する。これは、IGBTや駆動ICの温度特性によるものである。つまり、上記臨界デッドタイムは第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなる。
次に、IPMの高温化に起因して短絡電流が流れた場合にIPMの素子破壊を防止する方法、すなわちIPMの温度保護を行う方法について説明する。図4は、図1に示した半導体装置の動作を示すフローチャートである。以下、このフローチャートを参照して温度保護の方法を説明する。
まず、IPM1を使用開始(S1)した後、通常の使用状態となる。CPU UNITは、IGBT2a〜2fの使用開始温度における臨界デッドタイムよりも長い、第1のデッドタイム(td1)を有するように、第1の制御入力信号を設定する。
さらにCPU UNITは、HVIC1〜3、LVICを介して、IGBT2a〜2fに第1の制御入力信号を入力する。すなわち、図5に示すように、上側アーム入力信号と下側アーム入力信号が同時にオフする期間td1を有するように、上側アーム、下側アームに信号が入力される。使用開始(S1)後の通常状態において、IGBT2a〜2fには、CPU UNITから第1のデッドタイムtd1を有する第1の制御入力信号が与えられ、これらのIGBTは、その制御入力信号に応じてオン・オフされる。
また、CPU UNITは、IGBT2a〜2fの使用開始温度の臨界デッドタイムよりも長く、かつ、第1のデッドタイムtd1よりも短い第2のデッドタイムtd2を有する第2の制御入力信号を設定する。
次にIPMの温度を確認する場合、CPU UNITは、HVIC1〜3、LVICを介して、IGBT2a〜2fに上記第2の制御入力信号を入力する(S2)。すなわち図6に示すように、上側アーム入力信号と下側アーム入力信号が同時にオフする期間td2(但しtd2<td1)を有するように、上側アーム、下側アームに制御入力信号が与えられる。
ここで、図3に示したように、臨界デッドタイムはIPMの温度が高くなると増加する。従って、IPMの使用開始後、IGBT2a〜2fの温度が上昇すると、その温度での臨界デッドタイムは、td2に到達し得る。臨界デッドタイムがtd2以上となった場合、例えば、上側アームのIGBT2aと下側アームのIGBT2dが同時にオンする期間が生じ得ることとなる。この結果、図6に示すように、上側アームと下側アームとの間に短絡電流が流れる。
IPMの温度上昇により、IGBT2a、2dが同時にオンする期間が存在すると仮定する。この期間では、IGBT2aのコレクタ端子からエミッタ端子に電流が流れ、さらにIGBT2dのコレクタ端子、エミッタ端子を経由して流れる。すなわち、IGBT2a、2dを経由して、短絡電流がハーフブリッジ回路を流れる。この短絡電流は、所定の抵抗値を有する抵抗素子3を含む電流検出手段3aにより検出される(S3)。
短絡電流が電流検出手段3aに検出されると、温度異常信号がLVICのCINおよびFo端子を介してCPU UNITに送られる。すると、CPU UNITは、IPMの温度が高いと判定する(S4)。そしてCPU UNITは、短絡電流によるIPMの破壊を防止するため、IGBT2a〜2fをターンオフさせる制御を行う。また、上記短絡電流が電流検出手段3aに検出されない間は、CPU UNITは、IPMの温度が低いと判定し(S5)、IGBT2a〜2fに第1の制御入力信号を送り、これらの素子の動作を継続させる。
以上説明したように、本実施の形態1に係る半導体装置は、IPMの使用開始後に温度確認を行い、モジュールを構成するスイッチング素子温度の上昇により短絡電流が発生した場合、上側アームおよび下側アームに接続された電流検出手段により、短絡電流を検出できるようにした。そして、CPU UNITは、IGBT2a〜2fをターンオフさせる制御を行うようにした。このような構成とすることにより、IPMの内部に温度検出用の部品(サーミスタ等)を設置することなく、IPMの温度保護が可能となる。従って、安価に熱破壊防止を可能とする半導体装置を得ることができる。
また、ハーフブリッジ回路に短絡電流が発生したか否かに関わらず、上側アーム、下側アーム用スイッチング素子の温度保護の設定を容易とし、高精度化を図ることができる。さらに、上記スイッチング素子の温度保護のために温度センサを設ける必要がないので、組み立て、配線作業が簡単で、生産性に優れた半導体装置を得ることができる。
なお、本実施の形態1では、ハーフブリッジ回路を構成するスイッチング素子としてIGBTを用いた例を示したが、他のスイッチング素子であっても同様の効果を得ることができる。また、短絡電流を検出する電流検出手段として、所定の抵抗値を有する抵抗素子を含む例を示したが、抵抗素子以外の素子を含むものであっても同一の作用効果を奏する。また、上記電流検出手段は、センス電流回路等に含まれたものであっても良い。
実施の形態2.
本実施の形態2に係る半導体装置について説明する。ここでは、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
実施の形態1で示したように、第2の制御入力信号は、第2のデッドタイムtd2を有している。そしてIPMの温度が第2のデッドタイムtd2に対応する温度以上となったときに、IGBT2a〜2fがターンオフされる。すなわち図7に示すように、第2のデッドタイムtd2を有する第2制御入力信号を設定した場合、IPMを保護動作させる温度はTとなる。
本実施の形態2では、第1の制御入力信号の有する第1のデッドタイムtd1’が、第2の制御入力信号の有する第2のデッドタイムtd2よりも所定時間以上長く設定されるようにする。すなわち、IPMの通常動作の際には、CPU UNITは、第2のデッドタイムtd2よりも十分に長く、余裕のあるデッドタイム(td1’)を有する第1の制御入力信号を各IGBTに入力する。
次に、本実施の形態2に係る半導体装置の動作について、図8に示すフローチャートを参照しながら説明する。IPMの使用開始(S1)後、CPU UNITは、上述した第2のデッドタイムtd2と比較して余裕のあるデッドタイムtd1’を設定する。そしてCPU UNITは、IPMの通常使用時には、デッドタイムtd1’を有する第1の制御入力信号を、各IGBT2a〜2fに入力する(S6)。
次に、IPMの温度を確認する際には、CPU UNITは第2のデッドタイムtd2を有する第2の制御入力信号を設定する。そしてCPU UNITは、第2の制御入力信号を、各IGBT2a〜2fに入力する。このとき、第2の制御入力信号が、IGBT2a〜2fに所定のパルス数で連続的に与えられるようにする。
ここで、CPU UNITにより、所定のデッドタイムを有する制御入力信号を入力する場合、そのデッドタイムがIPMの臨界デッドタイムに近い値であると仮定する。このとき、ノイズ等の影響により、実際に入力される制御入力信号のデッドタイムが、上記臨界デッドタイム以下となることがある。しかし本実施の形態2では、通常動作の際には、第2のデッドタイムtd2よりも十分に長い第1のデッドタイムtd1’を有する第1の制御入力信号がIGBT2a〜2fに入力され、IPMの温度を確認する際にのみ、短いデッドタイムtd2を有する第2の制御信号が入力されるようにした。これにより、IPMを通常動作させる際にノイズ等の影響を受けることを防止し、余裕をもったデッドタイムを有する制御入力信号を設定できる。
すなわち、IPMを通常動作させる際のデッドタイムに余裕をもたせることで、上側アーム、下側アーム用スイッチング素子の温度上昇検出ノイズによる誤検出防止を確保しつつ、上記スイッチング素子の温度上昇検出を行うことができる。
また、第2の制御入力信号が、IGBT2a〜2fに所定のパルス数で連続して与えられるようにしたので、温度検出パルス信号に対するノイズの影響による検出漏れを低減できる。これにより、ハーフブリッジ回路の短絡電流検出の信頼性向上を図ることができる。
本実施の形態2に係る半導体装置によれば、実施の形態1で得られる効果に加えて、IPMを通常動作させる際にノイズ等の影響を受けることを防止し、余裕をもったデッドタイムを有する制御入力信号を設定できる。
実施の形態3.
本実施の形態3に係る半導体装置について、図9のフローチャートを参照しながら説明する。ここでは、実施の形態1、2と異なる点を中心に説明する。
実施の形態1、2と同様に、IPMの温度確認を行う際には、CPU UNITがIGBT2a〜2fに、第2のデッドタイムtd2を有する第2の制御入力信号をIGBT2a〜2fに送る(S2)。そして、ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れると、図1に示した電流検出手段3aからLVICを経由してFo信号がCPU UNITに出力される(S3)。
IGBT2a〜2fに第2の制御入力信号が入力された時点から、電流検出手段3aに短絡電流が検出されるまでの時間(短絡電流発生時間)が所定時間よりも短い場合、CPU UNITは、検出された短絡電流はIPMの温度異常によるものと判定する。そしてCPU UNITは、IPMが温度異常であることを示す第1の信号に基づき、IGBT2a〜2fをターンオフさせる(S4)。
上記短絡電流発生時間が上記所定時間以上である場合、CPU UNITは、検出された短絡電流がIPMの温度異常以外の異常によるものと判定する。そして、CPU UNITは、IPMが温度異常以外の異常であることを示す第2の信号に基づき、IGBT2a〜2fをターンオフさせる(S8)。その他の構成については、実施の形態1、2と同様である。
上記構成とすることにより、CPU UNITは、IPMが温度異常である場合と、それ以外の異常である場合とを判別することができる。従って本実施の形態3によれば、実施の形態1、2の効果に加えて、短絡電流の発生した原因がIPMの温度異常によるものであるか、それ以外の原因によるものであるかを、判別することができる。
実施の形態4.
本実施の形態4に係る半導体装置について、図10のフローチャートを参照しながら説明する。ここでは、実施の形態3と異なる点を中心に説明する。
実施の形態3と同様に、IPMの温度確認を行う際に、CPU UNITは、IGBT2a〜2fに第2の制御入力信号が入力された時点から、電流検出手段3aに短絡電流が検出されるまでの時間(短絡電流発生時間)が、所定時間よりも短い場合、検出された短絡電流はIPMの温度異常によるものと判定する(S4−1)。
さらに、CPU UNITは、この第2のデッドタイムに対応するIGBT2a〜2fの温度が、素子を破壊するレベル(IPM破壊温度)以上であるかどうかを判定する。この温度がIPM破壊温度以上である場合は、IPMが温度異常であることを示す第1の信号に基づき、IGBT2a〜2fをターンオフさせる(S4−2)。第2のデッドタイムに対応する温度が、IPM破壊温度未満である場合には、IGBT2a〜2fの動作を継続させる。
上記短絡電流発生時間が上記所定時間以上である場合、CPU UNITは、検出された短絡電流がIPMの温度異常以外の異常によるものと判定する。そして、CPU UNITは、IPMが温度異常以外の異常であることを示す第2の信号に基づき、IGBT2a〜2fをターンオフさせる(S8)。その他の構成については、実施の形態3と同様である。
上記構成とすることにより、IPMの温度が高いと判定された場合であっても、その温度がIPMの破壊温度未満である場合には、IGBTの動作を可能とすることができる。
本実施の形態4に係る半導体装置によれば、実施の形態3の効果に加えて、LVICからFo信号が出力された場合であっても、IPMの温度が破壊温度未満である場合には、IPMに供給される電力が急遮断されることを防止できる。
実施の形態5.
本実施の形態5に係る半導体装置について、図11のフローチャートを参照しながら説明する。ここでは、実施の形態3と異なる点を中心に説明する。
実施の形態3と同様に、IPMの温度確認を行う際に、CPU UNITは、IGBT2a〜2fに第2の制御入力信号が入力された時点から、電流検出手段3aに短絡電流が検出されるまでの時間(短絡電流発生時間)が、所定時間よりも短い場合、検出された短絡電流はIPMの温度異常によるものと判定する。そしてCPU UNITは、IGBT2a〜2fに入力される制御入力信号のスイッチング周波数を小さくしたり、IGBT2a〜2fがオンしている間の出力電流を小さくしたりする。このようにして、CPU UNITは、IGBT2a〜2fに流れる電流を減少させて、動作を継続させる(S10)。
上記短絡電流発生時間が上記所定時間以上である場合、CPU UNITは、検出された短絡電流がIPMの温度異常以外の異常によるものと判定する。そして、CPU UNITは、IPMが温度異常以外の異常であることを示す信号に基づき、IGBT2a〜2fをターンオフさせる(S8)。その他の構成については、実施の形態3と同様である。
上記構成とすることにより、IPMの動作を継続させながら、IPMの温度を低下させることができる。これにより、IPMの熱破壊を防止しながら、連続運転を可能とすることができる。従って、本実施の形態5に係る半導体装置によれば、実施の形態3の効果に加えて、IPMの熱破壊を防止しながら、IPMの動作を継続させることができる。
実施の形態6.
本実施の形態6について説明する。ここでは、実施の形態1と異なる点を中心に説明する。
図12は、本実施の形態6の半導体装置の動作を示すフローチャートである。IPMの使用開始(S1)後、CPU UNITは、IGBT2a〜2fの使用開始温度の臨界デッドタイムよりも長い第3のデッドタイム(td3)を有する第3の制御入力信号を設定する。
IGBT2a〜2fは、CPU UNITから第3の制御入力信号が与えられた際には、その制御入力信号に応じてオン・オフされる(S11)。次に、CPU UNITは、IGBT2a〜2fに、第3のデッドタイムtd3よりも短い第4のデッドタイムtd4を有する第4の制御入力信号を与える。そして、CPU UNITは、電流検出手段3aに短絡電流が検出されるまで第4のデッドタイムtd4を漸減させながら、IGBT2a〜2fに第4の制御入力信号を継続して与える(S12)。
電流検出手段3aに短絡電流が検出されると、CPU UNITは、短絡電流が検出された時点の第4の制御入力信号が有する第4のデッドタイムtd4に基づき、IGBT2a〜2fの温度を推定し、その値を出力する。その他の構成については、実施の形態1と同様である。
上記構成とすることにより、図13に示すように、td4の値から、IPMの温度Tを推定することができる。すなわち、CPU UNITは、IGBT2a〜2fに第4の制御入力信号を与え、短絡電流が発生した時点のデッドタイムtd4に基づいて、IPMの温度を高精度に推定することができる。従って、本実施の形態6に係る半導体装置によれば、IPMの温度モニターとして用いることも可能である。
実施の形態7.
本実施の形態7に係る半導体装置について説明する。ここでは、実施の形態6と異なる点を中心に説明する。
図14は、本実施の形態7に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。実施の形態6と同様に、IPMの使用開始(S1)後、CPU UNITは第3の制御入力信号を設定し、IGBT2a〜2fに、その制御入力信号を与える(S11)。そしてCPU UNITは、IGBT2a〜2fに第4の制御入力信号を与え、電流検出手段3aに短絡電流が検出されるまで第4のデッドタイムtd4を漸減させながら、IGBT2a〜2fに第4の制御入力信号を継続して与える(S12)。
電流検出手段3aに短絡電流が検出されると、CPU UNITにより、その時点の第4制御入力信号の有する第4のデッドタイムに基づいて、IGBT2a〜2fの温度が推定される。この温度が、保護が必要な所定温度よりも低い場合には、CPU UNITは、短絡電流が検出された時点の第4の制御入力信号が有する第4のデッドタイムtd4よりも、所定時間長い第5のデッドタイムtd5を有する第5の制御入力信号を設定する。そして、CPU UNITはIGBT2a〜2fに第5の制御入力信号を与え、動作を継続させる(S14)。その他の構成については、実施の形態6と同様である。
上記構成とすることにより、図15に示すように、td4よりも僅かに長いデッドタイムを有する第5のデッドタイムtd5にて、IPMの動作を継続させることができる。これにより、ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れないぎりぎりのデッドタイムを有する制御入力信号にて、IPMを動作させることができる。従って、本実施の形態7に係る半導体装置によれば、図1に示したモータ5の通電効率を向上させることができる。
実施の形態8.
本実施の形態8に係る半導体装置について説明する。ここでは、実施の形態1〜7と異なる点を中心に説明する。
実施の形態1〜7では、IPMの各温度に対応する臨界デッドタイムは、図3に示した特性により定められ、個々のIPMの有するばらつきが考慮されていないものであった。しかし実際には、IPMの温度に対応する臨界デッドタイムは、それぞれのIPMごとにばらつきを有している。このため臨界デッドタイムにより推定される温度は、上記ばらつきの分だけ、IPMの実際の温度からシフトしたものとなっている。
本実施の形態8では、IGBT2a〜2fのスイッチング特性を測定し、その測定値に基づき臨界デッドタイムのシフトした分を補正して、新たな臨界デッドタイムとしたものである。例えば、IPMの組み立て後の最終電気試験(ファイナルテスト)では、25℃でのton、toff(図2参照)が測定される。すなわち、IGBT2a〜2fの所定温度(25℃)でのスイッチング特性が測定される。
CPU UNITは、測定されたton、toffの値からtoff(max)−ton(min)の値、すなわち初期デッドタイムtを算出する。CPU UNITは、この初期デッドタイムtと、図3に示した25℃での臨界デッドタイムの値tとの差(t−t)を算出し、この値を補正値とする。つまり、CPU UNITは、25℃で測定されたIGBT2a〜2fのスイッチング特性に基づいて算出される初期デッドタイムtと、実施の形態1〜7に示した25℃での臨界デッドタイムtとの差(t−t)を、補正値として設定する。
次に、CPU UNITは、実施の形態1〜7に示した各温度に対応する臨界デッドタイムに上記補正値を加えた値を、各温度に対応する新たな臨界デッドタイムとする。この結果、図16に示すように、各温度に対応する新たな臨界デッドタイムは、t>tの場合は上記補正値の分だけ上側にシフトし、t<tの場合は、上記補正値の分だけ下側にシフトしたものとなる。
上記構成とすることにより、個々のIPMのスイッチング特性のばらつきが補正された臨界デッドタイムを、新たな臨界デッドタイムとして用いることができる。これにより、短絡電流が検知された際のデッドタイムから推定されるIPMの温度を、より正確なものとすることができる。従って、本実施の形態8に係る半導体装置によれば、IPMの温度をより正確に推定することができる。
実施の形態1〜8に係る半導体装置の構成を示す図である。 IGBTのコレクタ−エミッタ間電圧、およびコレクタ電流の波形を示す図である。 IPMの温度と臨界デッドタイムとの関係を示す図である。 実施の形態1に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 第1の制御入力信号を説明する図である。 第2の制御入力信号を説明する図である。 IPMの温度と臨界デッドタイムとの関係を示す図である。 実施の形態2に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 実施の形態3に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 実施の形態4に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 実施の形態5に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 実施の形態6に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 IPMの温度と臨界デッドタイムとの関係を示す図である。 実施の形態7に係る半導体装置の動作を示すフローチャートである。 IPMの温度と臨界デッドタイムとの関係を示す図である。 IPMの温度と臨界デッドタイムとの関係を示す図である。
符号の説明
1 インテリジェントパワーモジュール(IPM)、2a〜2f 絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)、3 抵抗素子、3a 電流検出手段、4a、4b コンデンサ、5 モータ。

Claims (10)

  1. 正側に設けられた第1のスイッチング素子と、
    前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、
    前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、
    前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、
    前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、
    前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、
    前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第1のデッドタイムを有する第1の制御入力信号と、前記使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長く前記第1のデッドタイムよりも短い第2のデッドタイムを有する第2の制御入力信号とが設定され、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第1の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第2の制御入力信号が与えられ、前記短絡電流が前記電流検出手段に検出された際には前記制御回路の制御によりターンオフされることを特徴とする半導体装置。
  2. 前記第1の制御入力信号の有する前記第1のデッドタイムは、前記第2の制御入力信号の有する前記第2のデッドタイムよりも所定時間以上長く設定され、
    前記第2の制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に所定のパルス数で連続して与えられることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 前記第1、第2のスイッチング素子に前記第2の制御入力信号が与えられた時点から、前記電流検出手段に前記短絡電流が検出されるまでの短絡電流発生時間が所定時間よりも短い場合、前記第1、第2のスイッチング素子は、温度異常であることを示す第1の信号に基づいてターンオフされ、
    前記短絡電流発生時間が前記所定時間以上である場合、前記第1、第2のスイッチング素子は、前記温度異常以外の異常であることを示す第2の信号に基づいてターンオフされることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 正側に設けられた第1のスイッチング素子と、
    前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、
    前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、
    前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、
    前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、
    前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、
    前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第1のデッドタイムを有する第1の制御入力信号と、前記使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長く前記第1のデッドタイムよりも短い第2のデッドタイムを有する第2の制御入力信号とが設定され、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第1の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第2の制御入力信号が与えられ、その時点から前記電流検出手段に前記短絡電流が検出されるまでの短絡電流発生時間が所定時間よりも短く、かつ前記第2のデッドタイムに対応する第1、第2のスイッチング素子の温度が、これらの素子を破壊する温度以上である場合、温度異常であることを示す第1の信号に基づいてターンオフされ、
    前記短絡電流発生時間が前記所定時間以上である場合、前記第1、第2のスイッチング素子は、前記温度異常以外の異常であることを示す第2の信号に基づいてターンオフされることを特徴とする半導体装置。
  5. 正側に設けられた第1のスイッチング素子と、
    前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、
    前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、
    前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、
    前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、
    前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、
    前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第1のデッドタイムを有する第1の制御入力信号と、前記使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長く前記第1のデッドタイムよりも短い第2のデッドタイムを有する第2の制御入力信号とが設定され、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第1の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第2の制御入力信号が与えられた際、その時点から前記電流検出手段に前記短絡電流が検出されるまでの短絡電流発生時間が所定時間よりも短い場合、これらの素子に流れる電流が所定の値小さくされて動作が継続され、
    前記短絡電流発生時間が前記所定時間以上である場合、前記第1、第2のスイッチング素子は、前記温度異常以外の異常であることを示す信号に基づいてターンオフされることを特徴とする半導体装置。
  6. 正側に設けられた第1のスイッチング素子と、
    前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、
    前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、
    前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、
    前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、
    前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、
    前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第3のデッドタイムを有する第3の制御入力信号が設定され、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第3の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、
    前記第1、第2のスイッチング素子に、前記第3のデッドタイムよりも短い第4のデッドタイムを有する第4の制御入力信号が与えられた際には、前記電流検出手段に前記短絡電流が検出されるまで前記第4のデッドタイムを漸減させながら、前記第1、第2のスイッチング素子に前記第4の制御入力信号が継続して与えられ、
    前記制御回路により、前記短絡電流が検出された時点の前記第4の制御入力信号が有する前記第4のデッドタイムに基づき、前記第1、第2のスイッチング素子の温度が出力されることを特徴とする半導体装置。
  7. 正側に設けられた第1のスイッチング素子と、
    前記第1のスイッチング素子の負側に接続され、前記第1のスイッチング素子とハーフブリッジ回路を構成する第2のスイッチング素子と、
    前記第1、第2のスイッチング素子と接続され、前記ハーフブリッジ回路に流れる短絡電流を検出する電流検出手段とを備え、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、これらの素子に制御入力信号を与える制御回路に接続され、
    前記制御入力信号は、前記第1、第2のスイッチング素子に同時にオフ信号が与えられる期間であるデッドタイムを有するように設定され、
    前記デッドタイムは、前記ハーフブリッジ回路に短絡電流が流れ始める臨界デッドタイム以上の時間に設定され、
    前記臨界デッドタイムは前記第1、第2のスイッチング素子の温度上昇に伴い長くなり、
    前記制御回路により、前記第1、第2のスイッチング素子の使用開始温度の前記臨界デッドタイムよりも長い第3のデッドタイムを有する第3の制御入力信号が設定され、
    前記第1、第2のスイッチング素子は、前記制御回路から前記第3の制御入力信号が与えられた際にはその制御入力信号に応じてオン・オフされ、
    前記第1、第2のスイッチング素子に、前記第3のデッドタイムよりも短い第4のデッドタイムを有する第4の制御入力信号が与えられた際には、前記電流検出手段に前記短絡電流が検出されるまで前記第4のデッドタイムを漸減させながら、前記第1、第2のスイッチング素子に前記第4の制御入力信号が継続して与えられ、
    前記短絡電流が検出された時点の前記第4のデッドタイムに基づいて推定される温度が、保護が必要な温度未満である場合、前記制御回路により、前記短絡電流が検出された時点の前記第4の制御入力信号が有する前記第4のデッドタイムよりも、所定時間長い第5のデッドタイムを有する第5の制御入力信号が設定され、
    前記第5の制御入力信号により、前記第1、第2のスイッチング素子の動作が継続されることを特徴とする半導体装置。
  8. 前記第1、第2のスイッチング素子の所定温度でのスイッチング特性が測定され、
    前記制御回路により、前記スイッチング特性に基づいて算出される初期デッドタイムと、前記所定温度での前記臨界デッドタイムとの差が補正値として設定され、
    前記制御回路により、各温度に対応する前記臨界デッドタイムに前記補正値を加えた値が、前記各温度に対応する新たな臨界デッドタイムとして用いられることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の半導体装置。
  9. 前記第1、第2のスイッチング素子は、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタであることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の半導体装置。
  10. 前記電流検出手段は、所定の抵抗値を有する抵抗素子を含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の半導体装置。
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