JP2008026060A - 絶縁皮膜被覆帯状体の疵検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】絶縁性不透明皮膜層および絶縁性透明皮膜層からなる絶縁皮膜被覆帯状体1の表面を照明し、撮像部20で被覆帯状体1の表面を撮像して、疵を検査する。照明装置10は、絶縁性透明皮膜層の略ブリュースター角で絶縁皮膜被覆帯状体1の幅方向に亘って照明し、撮像部20は、略正反射角で反射光を撮像するもので、P偏光フィルターを介して撮像する第1の撮像装置21と、S偏光フィルターを介して撮像する第2の撮像装置22とを幅方向に配置する。さらに、第1の撮像装置21と第2の撮像装置22は、各撮像レンズの光軸を所定の距離だけ帯状体1の幅方向で互いに接近する向きにずらせて配置し、第1および第2の撮像装置21、22の撮像領域を一致させる。
【選択図】図1
Description
D=(L/2)(a/(a+b))
であることを特徴とする。
D=(L/2)(a/(a+b))…(1)
を満たすように予めレンズ光軸平行移動量Dを設定しているので、第1撮像装置の撮像領域CPは第2撮像装置側へ、第2撮像装置の撮像領域CSは第1撮像装置側へそれぞれ移動し、ほぼ完全に同一領域Cに一致させることができる。従って、第1撮像装置と第2撮像装置は、電磁鋼板からの垂直成分の反射角度は予め設定されたブリュースター角またはその近くの角度に保たれた状態で、電磁鋼板面上の同一領域を撮像することが可能である。
tanθB=n…(2)
に従って決定される。
2 ロール
10 照明装置
11 光源
12 光ファイバー束
13 光ファイバー束入力端
14 光ファイバー束出力端
20 撮像部
21 第1撮像装置
22 第2撮像装置
23 P偏光フィルター
24 S偏光フィルター
25a、25b 撮像レンズ
25a、25b 受光素子
30 疵画像処理装置
31 オペレータ疵表示装置
41 鋼板
42 絶縁性不透明皮膜層(グラス皮膜層)
43 絶縁性透明皮膜層(無機質コーティング層)
51 P偏光の反射率曲線
52 S偏光の反射率曲線
CP 第1撮像装置の撮像領域
CS 第2撮像装置の撮像領域
D レンズ光軸移動量
Ea 移動前の第1撮像装置のレンズ光軸
Eb 移動前の第2撮像装置のレンズ光軸
CP 第1撮像装置の撮像領域
CS 第2撮像装置の撮像領域
C 第1撮像装置と第2撮像装置の一致した場合の撮像領域
D レンズ光軸移動量
L 第1撮像装置と第2撮像装置の設置間隔
L1 帯状光
LA 帯状光照射面
Sa 移動後の第1撮像装置のレンズ光軸
Sb 移動後の第2撮像装置のレンズ光軸
Claims (2)
- 下層に絶縁性不透明皮膜層、上層に絶縁性透明皮膜層がそれぞれ形成された、長手方向に移動する絶縁皮膜被覆帯状体の表面を照明装置で照明し、それぞれ撮像レンズを有する複数の撮像装置で被覆帯状体表面を撮像して、前記絶縁性不透明皮膜層および絶縁性透明皮膜層の疵を検査する疵検査装置であって、
前記照明装置は、前記絶縁性透明皮膜層のブリュースター角またはその近くの入射角度で前記絶縁皮膜被覆帯状体の幅方向に亘って照明し、
前記複数の撮像装置は、正反射角またはその近くの角度で絶縁皮膜被覆鋼板からの反射光をP偏光フィルターを介して撮像する第1の撮像装置と、正反射角またはその近くの角度で絶縁皮膜被覆鋼板からの反射光をS偏光フィルターを介して撮像する第2の撮像装置とが絶縁皮膜被覆帯状体の幅方向に配置されたものであり、
前記それぞれの撮像レンズの光軸は、受光面と直交関係を保ったまま、所定の距離Dだけ絶縁皮膜被覆帯状体の幅方向で互いに接近する向きに平行移動されており、該第1の撮像装置と第2の撮像装置が前記絶縁皮膜被覆帯状体の同一領域を撮像することを特徴とする絶縁皮膜被覆帯状体の疵検査装置。 - 前記第1の撮像装置と前記第2の撮像装置とは同一構成であって、
前記所定の距離Dは、前記第1の撮像装置と前記第2の撮像装置との前記絶縁皮膜被覆帯状体の幅方向に平行な間隔L、前記第1の撮像装置及び前記第2の撮像装置の受光面と撮像レンズの主点との距離をa、絶縁皮膜被覆帯状体表面と撮像レンズの主点との距離をbとして、
D=(L/2)(a/(a+b))
であることを特徴とする請求項1に記載の絶縁皮膜被覆帯状体の疵検査装置。
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