JP2008016838A - 半導体素子のリセスゲートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】リセスパターンにホーンHoが発生することを抑制して、ゲート絶縁膜の特性劣化及び漏れ電流の発生を防止することができる半導体素子のリセスゲートの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の半導体素子のリセスゲートの製造方法は、半導体基板31をエッチングして第1リセス37を形成するステップと、第1リセス37の側壁及び底部をエッチングして第2リセス37Aを形成するステップと、第2リセス37Aが形成された半導体基板31上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップとを含む。第2リセス37Aを形成するエッチングは等方性エッチングであり、エッチングガスには、SF6/O2/Cl2/HBrの混合ガスを用いる。
【選択図】図4
【解決手段】本発明の半導体素子のリセスゲートの製造方法は、半導体基板31をエッチングして第1リセス37を形成するステップと、第1リセス37の側壁及び底部をエッチングして第2リセス37Aを形成するステップと、第2リセス37Aが形成された半導体基板31上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップとを含む。第2リセス37Aを形成するエッチングは等方性エッチングであり、エッチングガスには、SF6/O2/Cl2/HBrの混合ガスを用いる。
【選択図】図4
Description
本発明は、半導体素子の製造技術に関し、特に、半導体素子のリセスゲートの製造方法に関する。
半導体素子の製造において、従来の平面ゲート(planar gate)構造は、平坦な活性領域上にゲートを形成する構造である。パターンサイズの縮小化によってゲートチャネル長がますます短くなり、イオンドーピング濃度の増大による電界の増大に起因する接合漏れにより、素子のリフレッシュ特性の確保が難しくなっている。
この問題を改善するために、活性領域をリセスエッチングした後にリセス上にゲートを形成する3次元リセスゲート(以下、リセスゲートと略記する)構造が適用されてきた。このリセスゲート構造は、ゲートチャネル長の増大及びイオンドーピング濃度の低減を可能とし、素子のリフレッシュ特性を大きく改善する。
図1は、従来技術に係るリセスゲート構造を示す断面図である。
図1に示すように、半導体基板11の所定領域に素子分離膜12が形成され、活性領域が画定される。半導体基板11の活性領域は、所定の深さに選択的にエッチングされて、リセス13が形成される。リセス13上にゲート絶縁膜14、ゲート電極用ポリシリコン膜15、及び金属又は金属シリサイド膜16が積層されてリセスゲートRGが形成される。
上述のように、図1に示したリセスゲート構造は、ゲートチャネル長の増大及びイオンドーピング濃度の低減を可能とし、素子のリフレッシュ特性を大きく改善するという長所がある。
しかしながら、半導体素子が高集積化されるにつれて、基板をプラズマエッチングしてリセスを形成する際、このリセスは、底部に進むほど幅が狭くなる「V」字形のプロフィールに形成されるので、素子分離膜と活性領域との間に、尖状にシリコンを残留させる現象が発生する。この尖状の残留物(以下、ホーン(horn)という)は後続のゲート絶縁膜の特性の劣化をもたらし、このため、ホーンが応力集中点となって漏れ電流のソースとして作用し、素子の製造歩留りの減少という問題を引き起こす。
図2A及び図2Bは、従来技術に係る問題点を説明するための断面を示す写真である。
図2Aに示すように、半導体基板の活性領域をエッチングしてリセス13を形成すると、素子分離膜12とリセス13とが近接する部分にホーンHoが発生していることが分かる。
図2Bに示すように、トレンチTのプロフィールは、底部に進むほどその幅が狭くなる傾斜を有する。そして、上記したように、リセスも底部に進むほど幅が狭くなるプロフィールを有する。そのため、ホーンが発生せざるを得ず、このようなホーンが、後続して形成されるゲート絶縁膜の特性の劣化をもたらし、ホーンが応力集中点となって漏れ電流のソースとして作用する。
本発明は、上記の従来技術の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、リセスパターンにホーンが発生することを抑制して、ゲート絶縁膜の特性劣化及び漏れ電流ソースの発生を防止することができる半導体素子のリセスゲートの製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するための本発明の好ましい実施形態に係るリセスゲートの製造方法は、半導体基板をエッチングして第1リセスを形成するステップと、前期第1リセスの側壁及び底部をエッチングして第2リセスを形成するステップと、前記第2リセスが形成された前記半導体基板上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップとを含む。
好ましくは、前記第2リセスを形成するエッチングは、等方性エッチングである。
本発明によると、リセス形成の際に発生するホーンの高さを低くすることができるため、ゲート絶縁膜の特性劣化を防止し、応力集中による漏れ電流の発生を防止する効果がある。
また、本発明によると、イオンドーピング濃度を低減させることができ、素子のリフレッシュ特性を改善することができるため、デザインルールの確保及び工程マージンの極大化を可能とする効果がある。
更に、本発明によると、ロジック部を含む半導体素子の高集積化、製造歩留りの向上、及び製造単価の減少を実現することができる。
以下、本発明の最も好ましい実施形態を、添付した図面を参照しながら説明する。
図3A〜図3Dは、本発明の実施形態に係る半導体素子のリセスゲートの製造方法を説明するための断面図である。
図3Aに示すように、半導体基板31に素子分離膜32を形成して、活性領域及びフィールド領域を画定する。素子分離膜は、STI(Shallow Trench Isolation)法を適用して形成することができる。続いて、半導体基板31上に、ハードマスク用酸化膜33及びハードマスク用ポリシリコン膜34を順次蒸着する。続いて、ハードマスク用ポリシリコン膜34上に有機反射防止膜(organic bottom anti reflective coating)35を蒸着し、有機反射防止膜35の所定領域上にフォトレジストパターン36を形成する。
次に、図3Bに示すように、フォトレジストパターン36をエッチングバリヤとして用いて、有機反射防止膜35及びハードマスク用ポリシリコン膜34を順次エッチングし、ハードマスク用酸化膜33を露出させる。このときのハードマスク用ポリシリコン膜34のエッチングは、TCP(Transformer Coupled Plasma)タイプ又はICP(Inductivity Coupled Plasma)タイプのプラズマソースに塩素系プラズマを注入して、ソースパワー及びバイアスパワーを印加して実施する。これにより、ポリシリコンハードマスク34Aを形成する。なお、符号35Aは、有機反射防止膜35がパターニングされた後の状態を示す。
次に、図3Cに示すように、フォトレジストパターン36をストリップする。このとき、パターニングされた有機反射防止膜35Aも除去される。続いて、ハードマスク用酸化膜33及び半導体基板31をエッチングして、酸化膜ハードマスク33A及び第1リセス37を形成する。
このとき、第1リセス37の線幅CD1を、最終的に実現しようとするリセスの線幅より10nm〜15nm程度小さく形成する。
第1リセス37を形成するためのエッチングは、塩素系プラズマと臭素系プラズマとを混合して、ソースパワー及びバイアスパワーを印加して実施する。
詳しく説明すると、TCPタイプ又はICPタイプのプラズマソースとして、Cl2とHBrとの比率が1:5〜1:20のCl2/HBrプラズマを用いる。また、ソースパワーを500W〜1500Wの範囲で、バイアスパワーを500W以下で印加する。バイアスパワーは、工程の条件に応じて調節が可能である。
上記のようなエッチングを介して、第1リセス37を形成する。第1リセス37をエッチングする際の最も理想的な条件としては、3.33Pa(25mTorr)の圧力下で、550WのRFパワーと350Wのバイアスパワーとを印加し、HBrを、100sccmの流量でフローすることが好ましい。
次に、図3Dに示すように、等方性エッチングを実施して第1リセス37の幅を拡大し、第2リセス37Aを形成する。第2リセス37Aは、拡大された線幅CD2を有する。第1リセス37及び第2リセス37Aを形成するエッチングの過程で、ポリシリコンハードマスク34Aは全て除去され得る。
等方性エッチングは、2.66Pa〜13.33Pa(20mTorr〜100mTorr)の範囲の圧力下で、500W〜1500Wの範囲のソースパワー及び50W以下のバイアスパワーを印加し、TCPタイプのプラズマソースとして、少量のSF6/O2プラズマ及びこれよりも相対的に多量のCl2/HBrプラズマを混合したプラズマを用いて行う。ここで、バイアスパワーは0W、すなわち、印加しないことが最も理想的であるが、エッチング装置によってはバイアスパワーを印加しなければならない場合があるため、50W以下のパワーを印加する。
SF6/O2/Cl2/HBrエッチングガスは、概ね5:3:20:60の比率を有する。SF6/O2の混合ガスにおいて、SF6はポリマー発生用のガスであり、Cl2/HBrの混合ガスはシリコンエッチングのための反応ガスである。ポリマー発生用のガスとしては、SF6ガスだけでなく、フッ素系ガス、例えば、NF3又は炭素系ガスでもあるCF4をも用いることができる。
一方、等方性エッチングは、ファラデーシールド(faraday shield)が装着されたICPタイプの装置において、ソースパワーを300W〜2000Wの範囲で印加し、SF6/O2/Cl2/HBrが混合されたエッチングガスを用いて行われることもでき、このときのこれらのガスの比率は、5:3:20:60である。
また、等方性エッチングは、MDS(Microwave Down Stream)タイプ、ECR(Electron Cyclotron Resonance)タイプ、及びヘリカル(HELICAL)タイプのプラズマソースを利用したエッチング装置で行うこともできる。
等方性エッチングは、その特性上全ての方向で同じ深さにエッチングするが、本発明の実施形態においては、第1リセス37の底部に比べて側壁部のエッチングが十分に行われる条件、すなわち、バイアスパワーの印加を最小化する条件で等方性エッチングを行う。このため、リセスの底部に比べて側壁部がより十分にエッチングされる。したがって、第1リセス37の幅と第2リセス37Aの幅との差Wは、第1リセス37の深さと第2リセス37Aの深さとの差Hより大きいことが分かる。
上記のように、等方性エッチングを利用して、幅を10nm〜15nm程度拡張された第2リセス37Aを形成する。第2リセス37Aを等方性エッチングにより形成する際の最も理想的な条件としては、2.66Pa(20mTorr)の圧力下で、550WのRFパワーと350Wのバイアスパワーとを印加し、SF6を5sccm、O2を5sccm、Cl2を20sccm、及びHBrを60sccmの流量でフローすることが好ましい。
一方、等方性エッチングの際に、酸化膜ハードマスク33Aも一部エッチングされ得る。符号33Bは、残留酸化膜ハードマスクを示す。
以後の工程は図示しないが、残留酸化膜ハードマスク33Bを除去し、幅が拡張された第2リセス37A上に、ゲート絶縁膜及びゲート電極を形成する。ゲート電極は、ポリシリコンと金属又は金属シリサイド膜とが積層された構造を有することができる。
従って、図4に示すような断面形状であった場合、等方性エッチングを実施した後には、第1リセス37が主として横方向にエッチングされて、第2リセス37Aが形成されるので、素子分離膜32と第1リセス37との間に存在していたホーンHoが一部又は完全に除去される。これにより、ゲート絶縁膜の特性劣化の問題、及びホーンが応力集中点となり、漏れ電流のソースとして作用して素子の製造歩留りを低減させるという問題を防止することができる。
図5A及び図5B、並びに図6A及び図6Bは、本発明の実施形態に係る半導体素子のリセスゲートの製造方法により製造されたリセスパターンの断面及び平面を示す写真である。
図5A及び図6Aに示す写真から、ポリシリコン膜ハードマスクをエッチングバリヤとして利用して半導体基板をエッチングすることによって、微細な線幅CD1を有する第1リセス37が形成されていることが分かる。
また、図5B及び図6Bに示す写真から、等方性エッチングを実施することによって、リセスの線幅CD2が拡張されていることがわかる。また、図2Aと比較すれば、第2リセス37Aと素子分離膜32との間に存在するホーン「A」が緩和されていること、即ち、高さが低くなっていることが分かる。
図7A〜図7Dは、本発明の実施形態を詳しく説明するためのグラフであって、T66 TIVA素子に関するデータである。エッチングガスの種類によるシリコン膜の側面エッチング量を比較するために図7A〜図7Dを参照する。
図7Aのグラフにおいて、横軸はSF6プラズマの流量(右方向が増大する方向)を示しており、縦軸はシリコン膜の側面エッチング量を示している。グラフから、SF6プラズマの流量が増大するほどシリコン膜の側面エッチング量が低減することが分かる。
図7Bのグラフにおいて、横軸はO2プラズマの流量(右方向が増大する方向)を示しており、縦軸はシリコン膜の側面エッチング量を示している。グラフから、O2プラズマの流量が増大するほどシリコン膜の側面エッチング量が低減することが分かる。
図7Cのグラフにおいて、横軸はCl2/HBrプラズマの比率に対応しており、縦軸はシリコン膜の側面エッチング量を示している。
A区間はHBrのみを注入したとき、B区間はCl2のみを注入したとき、C区間はCl2/HBrを注入したときである。グラフから、HBrのみを注入したときに、シリコン膜の側面エッチング量が最も多く、Cl2のみを注入したときに、シリコン膜の側面エッチング量が最も少ないことがわかる。Cl2/HBrを注入したときには、シリコン膜の側面エッチング量は中間値を示している。
図7Dのグラフにおいて、横軸はTCP RFパワー(右方向が増大する方向)を示しており、縦軸はシリコン膜の側面エッチング量を示している。グラフから、TCP RFパワーが大きいほどシリコン膜の側面エッチング量が低減するが、その低減の程度は緩やかであることが分かる。
上記したこれら図7A〜図7Dに示すグラフから、Cl2/HBrプラズマを用い、かつ、400W〜500Wの範囲でRFパワーを印加するときに、シリコン膜の側面エッチングが最も活発に行われることが確認できる。
上述のように、リセスゲート形成の際に、素子分離膜とリセスとの間のホーンを緩和又は除去することによって、ゲート絶縁膜の特性の劣化を防止することができる。
本発明によると、リセス形成の際に発生するホーンの高さを低くすることができるため、ゲート絶縁膜の特性劣化を防止し、応力集中による漏れ電流ソースの発生を防止することができるという効果がある。
また、本発明によると、イオンドーピング濃度を低減させることができ、素子のリフレッシュ特性を改善することができるため、デザインルールの確保及び工程マージンの極大化を可能とする効果がある。
更に、本発明によると、ロジック部を含む半導体素子の高集積化、製造歩留りの向上、及び製造単価の減少を実現することができる。
尚、本発明は、上記した実施形態に限定されるものではなく、本発明に係る技術的思想から逸脱しない範囲内で様々な変更、追加、削除及び置き換えが可能であり、それらも本発明の技術的範囲に属する。
31 半導体基板
32 素子分離膜
33 ハードマスク用酸化膜
34 ハードマスク用ポリシリコン膜
35 有機反射防止膜
36 フォトレジストパターン
37 第1リセス
37A 第2リセス
32 素子分離膜
33 ハードマスク用酸化膜
34 ハードマスク用ポリシリコン膜
35 有機反射防止膜
36 フォトレジストパターン
37 第1リセス
37A 第2リセス
Claims (20)
- 半導体基板をエッチングして第1リセスを形成するステップと、
前記第1リセスの側壁及び底部をエッチングして第2リセスを形成するステップと、
前記第2リセスが形成された前記半導体基板上にゲート絶縁膜及びゲート電極を形成するステップと
を含むことを特徴とする半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、等方性エッチングであることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
- 前記等方性エッチングが、NF3又はSF6を用いるエッチングであることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
- 前記等方性エッチングが、
フッ素系ガスと臭化水素とが混合されたエッチングガスを用いて行われるエッチングであることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記等方性エッチングが、
フッ素系ガスと臭化水素と酸素と塩素とが混合された混合ガスをエッチングガスとして用いて行われることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記混合ガスが、
SF6、O2、Cl2、HBrが混合されたガスであることを特徴とする請求項5に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記混合ガス中の前記SF6及びO2が、前記Cl2及びHBrに比べて少ないことを特徴とする請求項6に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
- 前記混合ガス中のSF6、O2、Cl2及びHBrの比率が、5:3:20:60であることを特徴とする請求項6に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
- 前記第2リセスを形成するエッチングが、
プラズマエッチング装置を用いて行われることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、
2.66Pa〜13.33Pa(20mTorr〜100mTorr)の範囲の圧力下で、500W〜1500Wの範囲のソースパワー及び50W以下のバイアスパワーを印加して行われることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、
TCPタイプの装置において、2.66Pa〜13.33Pa(20mTorr〜100mTorr)の範囲の圧力下で、500W〜1500Wの範囲のソースパワーを印加し、バイアスパワーは印加しないで行われることを特徴とする請求項9に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記等方性エッチングが、
炭素系ガスと臭化水素と酸素と塩素とが混合された混合ガスをエッチングガスとして用いて行われることを特徴とする請求項2に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記炭素系ガスが、
CF4であることを特徴とする請求項12に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、
ファラデーシールドを装着したICPタイプの装置において、300W〜2000Wの範囲のソースパワーを印加して行われることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、
SF6、O2、Cl2及びHBrが混合された混合ガスをエッチングガスとして用いて行われ、
該混合ガス中のSF6、O2、Cl2及びHBrの比率が、5:3:20:60であることを特徴とする請求項14に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスを形成するエッチングが、
MDSタイプ、ECRタイプ、及びヘリカルタイプからなる群の中から選択される何れかのプラズマソースを利用するエッチング装置で行われることを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第2リセスの幅が、前記第1リセスの幅に比べて10nm〜15nm大きいことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
- 前記第1リセスを形成する前記ステップが、
前記半導体基板上に酸化膜及びポリシリコン膜を順次形成するステップと、
前記ポリシリコン膜をパターニングするステップと、
パターニングされた前記ポリシリコン膜を用いて前記酸化膜と前記半導体基板とをエッチングするステップと
を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記第1リセスを形成するエッチングが、
TCPタイプ又はICPタイプのプラズマソースとしてCl2及びHBrの混合ガスを用いて、500W〜1500Wの範囲のソースパワーを印加して行われることを特徴とする請求項18に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。 - 前記混合ガス中のCl2及びHBrの比率が、
1:5〜1:20の範囲内であることを特徴とする請求項19に記載の半導体素子のリセスゲートの製造方法。
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