JP2008010182A - アライメント装置及びアライメント方法並びに有機el素子形成装置 - Google Patents
アライメント装置及びアライメント方法並びに有機el素子形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008010182A JP2008010182A JP2006176666A JP2006176666A JP2008010182A JP 2008010182 A JP2008010182 A JP 2008010182A JP 2006176666 A JP2006176666 A JP 2006176666A JP 2006176666 A JP2006176666 A JP 2006176666A JP 2008010182 A JP2008010182 A JP 2008010182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- alignment
- alignment mark
- side alignment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 86
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】基板1とマスク2とを相対的に移動せしめる移動手段と、この基板1に設けた基板側アライメントマーク3とマスク2に設けたマスク側アライメントマーク4とを画像化して認識する光学手段5とを有するアライメント装置であって、前記光学手段5は、固定倍率式で且つ少なくとも物体側がテレセントリックな対物レンズ6を有し、この対物レンズ6の開口数(NA)が0.010〜0.015で且つ作動距離(WD)が290mm以上となるように絞り7の形状を設定する。
【選択図】図3
Description
2 マスク
3 基板側アライメントマーク
4 マスク側アライメントマーク
5 光学手段
6 対物レンズ
7 絞り
Claims (3)
- 基板とマスクとを相対的に移動せしめる移動手段と、この基板に設けた基板側アライメントマークとマスクに設けたマスク側アライメントマークとを画像化して認識する光学手段とを有するアライメント装置であって、前記光学手段は、固定倍率式で且つ少なくとも物体側がテレセントリックな対物レンズを有し、この対物レンズの開口数(NA)が0.010〜0.015で且つ作動距離(WD)が290mm以上となるように絞りの形状を設定したことを特徴とするアライメント装置。
- 基板に設けた基板側アライメントマークとマスクに設けたマスク側アライメントマークとの双方を光学手段により認識し得るようにこの基板とマスクとを移動手段により相対的に移動せしめ、前記光学手段で認識した画像データを用いて前記基板側アライメントマークと前記マスク側アライメントマークとの位置合わせに必要な移動量を算出し、この算出移動量に基づいて前記移動手段を制御して前記基板若しくは前記マスクを移動させる位置合わせ工程を、一回若しくは複数回行うことで前記基板と前記マスクとのアライメント調整を行った後、前記基板と前記マスクとを密着せしめるアライメント方法であって、請求項1記載のアライメント装置を用いて、前記位置合わせ工程において前記基板及び前記マスクの両アライメントマークを同時に認識するための前記移動手段による垂直方向への移動を行うことなく、前記基板側アライメントマーク及び前記マスク側アライメントマークの認識並びに前記位置合わせに必要な移動量の算出を行うことを特徴とするアライメント方法。
- 請求項1記載のアライメント装置を備えたことを特徴とする有機EL素子形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006176666A JP4768530B2 (ja) | 2006-06-27 | 2006-06-27 | 有機el素子形成装置におけるアライメント方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006176666A JP4768530B2 (ja) | 2006-06-27 | 2006-06-27 | 有機el素子形成装置におけるアライメント方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008010182A true JP2008010182A (ja) | 2008-01-17 |
JP4768530B2 JP4768530B2 (ja) | 2011-09-07 |
Family
ID=39068209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006176666A Active JP4768530B2 (ja) | 2006-06-27 | 2006-06-27 | 有機el素子形成装置におけるアライメント方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4768530B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103703584A (zh) * | 2011-06-17 | 2014-04-02 | 应用材料公司 | 用于oled封装的遮罩管理系统和方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07249571A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-09-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 位置合わせマーク検出光学系 |
JP2003005068A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Mitsutoyo Corp | 両テレセントリック対物レンズ |
JP2004027291A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Tokki Corp | 蒸着装置 |
JP2004264404A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Shinko Electric Co Ltd | 焦点調節方法及び焦点調節装置 |
JP2006030496A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Nidec Copal Corp | テレセントリックレンズ |
-
2006
- 2006-06-27 JP JP2006176666A patent/JP4768530B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07249571A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-09-26 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 位置合わせマーク検出光学系 |
JP2003005068A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Mitsutoyo Corp | 両テレセントリック対物レンズ |
JP2004027291A (ja) * | 2002-06-25 | 2004-01-29 | Tokki Corp | 蒸着装置 |
JP2004264404A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Shinko Electric Co Ltd | 焦点調節方法及び焦点調節装置 |
JP2006030496A (ja) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Nidec Copal Corp | テレセントリックレンズ |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103703584A (zh) * | 2011-06-17 | 2014-04-02 | 应用材料公司 | 用于oled封装的遮罩管理系统和方法 |
JP2014520371A (ja) * | 2011-06-17 | 2014-08-21 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | Oled封止用のマスク管理システム及び方法 |
JP2019091704A (ja) * | 2011-06-17 | 2019-06-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Oled封止用のマスク管理システム及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4768530B2 (ja) | 2011-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3224041B2 (ja) | 露光方法及び装置 | |
JP4903627B2 (ja) | 表面実装機、及び、そのカメラ位置補正方法 | |
JP5381029B2 (ja) | 露光装置 | |
TW200300269A (en) | Exposure method and apparatus | |
JP2010067705A (ja) | アライメント方法およびアライメント装置 | |
JP6643328B2 (ja) | リソグラフィ構造を生成するための光学系 | |
JP2008040394A (ja) | アライメント装置および露光装置 | |
TW200941162A (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
US7382449B2 (en) | Alignment tool for precise pattern transfer | |
JP4768530B2 (ja) | 有機el素子形成装置におけるアライメント方法 | |
JP2003294419A (ja) | 微小寸法測定装置 | |
JP2007173323A (ja) | 光学特性測定装置、露光装置、光学特性測定方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2010192744A (ja) | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 | |
JP4799324B2 (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
JP2017116868A (ja) | リソグラフィ装置、物品の製造方法、ステージ装置及び計測装置 | |
JP4296352B2 (ja) | コンポーネントを載置装置によって基体ホルダ上の所望位置へ載置する方法およびその方法を実施するために最適な装置 | |
JP2000315638A (ja) | アライメント方法とその装置 | |
JPH06224101A (ja) | 二重焦点レンズ及び位置合せ装置 | |
JP3383166B2 (ja) | 周辺露光装置 | |
JPH0478126A (ja) | 自動焦点検出装置 | |
JP2006120790A (ja) | 露光装置 | |
JP2007158252A (ja) | 基板加工装置および基板加工方法 | |
JP2004108957A (ja) | 基板検査装置 | |
WO2021090613A1 (ja) | アライメント装置 | |
JP6115543B2 (ja) | アライメント装置、露光装置、およびアライメント方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081003 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101004 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101007 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101206 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110616 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4768530 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140624 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |