JP2008009406A - 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 - Google Patents
感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008009406A JP2008009406A JP2007141439A JP2007141439A JP2008009406A JP 2008009406 A JP2008009406 A JP 2008009406A JP 2007141439 A JP2007141439 A JP 2007141439A JP 2007141439 A JP2007141439 A JP 2007141439A JP 2008009406 A JP2008009406 A JP 2008009406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- polysiloxane
- weight
- cured film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【解決手段】(a)ポリシロキサン(b)キノンジアジド化合物、(c)溶剤、(d)ビスイミド化合物または側鎖にイミド基を有するアクリル重合体化合物からなる接着促進剤を含有する感光性シロキサン組成物。
【選択図】 なし
Description
一般式(3)のmは0から3の整数を表す。m=0の場合は4官能性シラン、m=1の場合は3官能性シラン、m=2の場合は2官能性シラン、n=3の場合は1官能性シランである。
溶剤の添加量は、ポリシロキサンに対して、好ましくは100〜1000重量%の範囲である。
一般式(5)で表される構造体のR29は水素基又はメチル基を表し、R30は水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基およびそれらが置換された有機基を表す。一般式(5)で表される構造体のR30で挙げられたアルキル基、アルケニル基、アリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−デシル基、トリフルオロメチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、3−グリシドキシプロピル基、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基、3−アミノプロピル基、3−メルカプトプロピル基、3−イソシアネートプロピル基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、3−アクリロキシプロピル基、3−メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、p−ヒドロキシフェニル基、1−(p−ヒドロキシフェニル)エチル基、2−(p−ヒドロキシフェニル)エチル基、4−ヒドロキシ−5−(p−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ)ペンチル基、ナフチル基が挙げられる。共重合することにより一般式(5)で表される構造体となるエチレン性不飽和化合物としてはアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸n−プロピル、アクリル酸イソプロピル、メタクリル酸nープロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチル、メタクリル酸n−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸イソ−ブチル、メタクリル酸イソ−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸n−ペンチル、メタクリル酸n−ペンチル等が挙げられる。一般式(6)で表される構造体はスチレンを共重合することにより得られる。
一般式(2)で表される構造体の具体例を以下に挙げる
その後、この膜をホットプレート、オーブンなどの加熱装置で150〜450℃の範囲で1時間程度熱硬化する。解像度は、好ましくは10μm以下である。
EDM:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル
HPE:2−ヒドロキシプロピオン酸エチル
GBL:γ−ブチロラクトン
DBA:9,10−ジブトキシアントラセン
SiDA:1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン。
500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを74.91g(0.65mol)、フェニルトリメトキシシランを69.41g(0.35mol)、ジアセトンアルコール(DAA)を150.36g仕込み、室温で攪拌しながら水55.8gにリン酸0.338g(仕込みモノマーに対して0.2重量%)を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを70℃のオイルバスに浸けて1時間攪拌した後、オイルバスを30分かけて115℃まで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100℃に到達し、そこから2時間加熱攪拌した(内温は100〜110℃)。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計115g留出した。得られたポリシロキサンのDAA溶液に、ポリマー濃度が43重量%となるようにDAAを加えてポリシロキサン溶液(i)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は6000であり、フェニル基の含有量はSi原子に対して35%であった。ポリマーの重量平均分子量はGPC(ゲルパーミネーションクロマトグラフィー)(展開溶剤:テトラヒドロフラン、展開速度:0.4ml/分)を用いてポリスチレン換算で測定した。フェニル基の含有率はポリシロキサンの29Si−核磁気共鳴スペクトルを測定し、そのフェニル基が結合したSiのピーク面積とフェニル基が結合していないSiのピーク面積の比から測定した。
500mLの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを63.39g(0.55mol)、フェニルトリメトキシシランを69.41g(0.35mol)、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランを24.64g(0.1mol)、DAAを150.36g仕込み、室温で攪拌しながら水55.8gにリン酸0.338g(仕込みモノマーに対して0.2重量%)を溶かしたリン酸水溶液を10分かけて添加した。その後、フラスコを70℃のオイルバスに浸けて1時間攪拌した後、オイルバスを30分かけて115℃まで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100℃に到達し、そこから2時間加熱攪拌した(内温は100〜110℃)。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計115g留出した。得られたポリシロキサンのDAA溶液に、ポリマー濃度が43重量%となるようにDAAを加えてポリシロキサン溶液(ii)を得た。なお、得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は5000であり、フェニル基の含有量はSi原子に対して35%であった。
メチルトリメトキシシラン23.84g(0.175モル)、フェニルトリメトキシシラン99.15g(0.5モル)、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)トリメトキシシラン12.32g(0.05モル)、シリカ粒子DAA溶剤分散液クォートロンPL−2L−DAA(扶桑化学工業(株)製:固形分26.4重量%)を62.58g(シラン原子数で27.5モル)、DAA209.47gを500mLの三口フラスコに仕込み、室温で攪拌しながら水40.05gにリン酸0.181gを溶かしたリン酸水溶液を30分かけて添加した。その後、フラスコを40℃のオイルバスに浸けて30分攪拌した後、オイルバスを30分かけて115℃まで昇温した。昇温開始1時間後に溶液の内温が100℃に到達し、そこから45分加熱攪拌した(内温は100〜110℃)。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計89g留出した。得られたポリシロキサンのDAA溶液が、ポリマー濃度が43重量%となるようにDAAを加えてポリシロキサン溶液(iii)を得た。得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は5500であり、フェニル基の含有量はSi原子に対して50モル%であった。
乾燥窒素気流下、TrisP−PA(商品名、本州化学工業(株)製)21.23g(0.05mol)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド37.62g(0.14mol)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン15.58g(0.154mol)を系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後30℃で2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、エステル化率93%の下記構造のキノンジアジド化合物(iv)を得た。
乾燥窒素気流下、TrisP−HPA(商品名、本州化学工業(株)製)15.32g(0.05mol)と5−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド30.9g(0.115mol)を1,4−ジオキサン450gに溶解させ、室温にした。ここに、1,4−ジオキサン50gと混合させたトリエチルアミン13.03g(0.127mol)を系内が35℃以上にならないように滴下した。滴下後30℃で2時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、エステル化率93%の下記構造のキノンジアジド化合物(v)を得た。
GBL40gに1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(SiDA)20g(80.5mmol)を加えて撹拌し溶解させる。メチルシクロヘキシンカルボン酸無水物24.5g(161mmol)を加えてしばらく室温にて撹拌した後、120℃にて2時間撹拌した。得られた溶液を固形分濃度が20%になるようにGBLで希釈して、下記構造で表されるビスイミド化合物(vi)溶液を得た。
GBL40gにSiDA20g(80.5mmol)を加えて撹拌し溶解させる。グルタル酸無水物9.2g(80.5mmol)、3−エチル−3−メチルグルタル酸無水物12.6g(80.5mmol)を加えてしばらく室温にて撹拌した後、120℃にて2時間撹拌した。得られた溶液を固形分濃度が20%になるようにGBLで希釈して、下記構造で表されるビスイミド化合物(vii)溶液を得た。
GBL40gに1,3−ビス(p−アニリン)テトラメチルジシロキサン31.41g(80.5mmol)を加えて撹拌し溶解させる。ノルボルネン酸無水物19.7g(120.8mmol)、endo−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2.3−ジカルボン酸無水物7.2g(40.3mmol)を加えてしばらく室温にて撹拌した後、120℃にて2時間撹拌した。得られた溶液を固形分濃度が20%になるようにGBLで希釈して、下記構造で表されるビスイミド化合物(viii)溶液を得た。
GBL40gにX−22−161A(商品名、信越化学工業(株)製)、両末端が3−アミノプロピル基となっているジメチルシロキサンオリゴマー(以下に示した化合物、n=1〜80の混合物(平均分子量1600))を128.8g加えて撹拌し溶解させる。
GBL40gにSiDA20g(80.5mmol)を加えて撹拌し溶解させる。フタル酸無水物23.8g(161mmol)を加えてしばらく室温にて撹拌した後、120℃にて2時間撹拌した。得られた溶液を固形分濃度が20%になるようにGBLで希釈して、下記構造で表されるビスイミド化合物(x)溶液を得た。得られたビスイミド化合物は一般式(1)で表される化合物とは異なる構造を有している。
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)5g、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(EDM)200gを500mLの三口フラスコに仕込んだ。引き続きスチレン25g、メタクリル酸20g、メタクリル酸グリシジル45g、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン−8−イルメタクリレート10gを仕込み、室温でしばらく攪拌した後、フラスコ内を窒素置換した。その後、フラスコを70℃のオイルバスに浸けて、5時間加熱攪拌した。得られたアクリル樹脂のEDM溶液に、ポリマー濃度が43重量%となるようにさらにEDMを加えて、アクリル樹脂溶液(xi)を得た。なお、得られたポリマーの重量平均分子量(Mw)は15000であった。
冷却管と撹拌装置を装着した2Lのセパラブルフラスコに、m−クレゾール172.8g(1.6mol)、2.3−ジメチルフェノール36.6g(0.3モル)、3.4−ジメチルフェノール12.2g(0.1mol)、37重量%ホルムアルデヒド水溶液12.6g(ホルムアルデヒド:1.5mol)、シュウ酸2水和物12.6g(0.1mol)及びメチルイソブチルケトン554gを加え、30分撹拌した後、1時間静置した。2層に分離した上層をデカンテーションによって除去し、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル(HPE)を加え、残存メチルイソブチルケトン、水を減圧濃縮によって除去し、ノボラック樹脂のHPE溶液を得た。得られたノボラック樹脂のHPE溶液に、ポリマー濃度が43重量%となるようにHPEを加えて、ノボラック樹脂のHPE溶液(xii)を得た。
メタクリル酸メチルを14g(0.14mol)、スチレンを14g(0.135mol)、メタクリル酸を48g(0.557mol)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を3g、および、γ−ブチロラクトンを150g重合容器中に仕込み、90℃にて2時間撹拌し、さらに液温を100℃に上げ、1時間反応させた。次に、得られた溶液にp−メトキシフェノール0.2g添加し、90℃で4時間撹拌した。このアクリル共重合体溶液にアジリジン7.9g(0.18mol)を加えて40℃で5時間反応させ、続いて2,3−ジメチルマレイン酸11.3g(0.090mol)を投入し120℃で2時間攪拌した。反応終了時にγ−BLを27g添加して、下記の繰り返し単位を有するイミド基を有するアクリル共重合体溶液(A)(固形分43質量%、分子量18000)を得た。
アクリル酸を76g(1.055mol)2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を3g、および、γ−ブチロラクトンを150g重合容器中に仕込み、40℃にて2時間撹拌し、さらに液温を60℃に上げ、1時間反応させた。次に、得られた溶液にp−メトキシフェノール0.2g添加し、60℃で4時間撹拌した。このアクリル共重合体溶液にアジリジン7.9g(0.180mol)を加えて40℃で5時間反応させ、続いてメチルシクロヘキシンカルボン酸無水物13.7g(0.090mol)、を投入し120℃で2時間攪拌した。反応終了時にγ−BLを25g添加して、下記の繰り返し単位を有するイミド基を有するアクリル共重合体溶液(B)(固形分43質量%、分子量6800)を得た。
アクリル酸エチルを14g(140mmol)、スチレンを14g(0.135mol)、アクリル酸を48g(0.66mol)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を3g、および、γ−ブチロラクトンを150g重合容器中に仕込み、90℃にて2時間撹拌し、さらに液温を100℃に上げ、1時間反応させた。次に、得られた溶液にp−メトキシフェノール0.2g添加し、90℃で4時間撹拌した。このアクリル共重合体溶液にアジリジン7.9g(0.18mol)を加えて40℃で5時間反応させ、続いてグルタル酸無水物5.14g(0.045mol)、ノルボルネン酸無水物14.7g(45mmol)、を投入し120℃で2時間攪拌した。反応終了時にγ−BLを22g添加して、下記の繰り返し単位を有するイミド基を有するアクリル共重合体溶液(C)(固形分43質量%、分子量19000)を得た。
アクリル酸を76g(1.055mol)2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を3g、および、γ−ブチロラクトンを150g重合容器中に仕込み、90℃にて2時間撹拌し、さらに液温を100℃に上げ、1時間反応させた。次に、得られた溶液にp−メトキシフェノール0.2g添加し、90℃で4時間撹拌した。このアクリル共重合体溶液にアジリジン7.9g(0.180mol)を加えて40℃で5時間反応させ、続いて5−メチルフタル酸無水物14.58g(0.09mol)、を投入し120℃で2時間攪拌した。反応終了時にγ−BLを25g添加して、下記の繰り返し単位を有するイミド基を有するアクリル共重合体溶液(D)(固形分43質量%、分子量26000)を得た。得られたアクリル共重合体に含まれるイミド基を有する構造体は下記一般式(2)で表される構造体とは異なる構造をしている。
黄色灯下にてキノンジアジド化合物(iv)0.333g(8重量部)、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート(三新化学工業(株)製)0.095g(2重量部)、“ニカラック”MX−270(商品名、三和ケミカル(株)製)0.095g(2重量部)、9,10−ジブトキシアントラセン(DBA、川崎化成(株)製)0.0143g(0.3重量部)、組成物全体のDAA/γ−ブチロラクトン(GBL)の重量比が70/30になるように、DAAを0.403g、GBL2.498gに溶解させ、ビスイミド化合物(vi)を0.476g(固形分換算で2重量部)、ポリシロキサン溶液(i)11.08g(ポリシロキサン100重量部に相当)、シリコーン系界面活性剤であるBYK−333(ビックケミージャパン(株)製)を0.008g(組成物全量に対して濃度50ppmに相当)加え撹拌した。次いで0.45μmのフィルターでろ過を行い、感光性シロキサン組成物を得た。得られた組成物を組成物1とする。
大日本スクリーン製造(株)製ラムダエースSTM−602を用いて、屈折率1.50でプリベーク膜及び、硬化膜の厚さを測定した。
残膜率は組成物をシリコンウェハ上に塗布し、100℃120秒のホットプレート上でプリベークした後に現像を行い、プリベーク後の膜厚(I)、現像後の未露光部膜厚(II)とすると、
残膜率(%)=(II)×100/(I)で算出される。
露光、現像後、10μmのラインアンドスペースパターンを1対1の幅に形成する露光量(以下、これを最適露光量という)を感度とした。
最適露光量における現像後に得られた最小パターン寸法を現像後解像度とし、キュア後の最小パターン寸法をキュア後解像度とした。
MultiSpec−1500((株)島津製作所製)を用いて、まずテンパックスガラス板のみを測定し、その紫外可視吸収スペクトルをリファレンスとした。次に上記のようにテンパックスガラス上に形成された各プリベーク膜を、2.38wt%テトラメチルアンモニウム水溶液で23℃60秒間シャワー現像し、PLA(PLA−501F、キヤノン(株)製)でi線換算で6000J/m2照射した。ホットプレート上で90℃2分間ソフトベークを行い、さらにオーブンにて220℃1時間キュアして、ガラス上に硬化膜を形成した。これをサンプルとし、サンプルを用いてシングルビームで測定し、3μmあたりの波長400nmでの光透過率を求め、リファレンスに基づいて硬化膜の透過率を算出した。
テンパックスガラス板に、組成物を塗布、プリベーク、露光、キュア処理し、薄膜を形成する。JIS K5400 8.5.2(1990)碁盤目テープ法に準じて測定した。テンパックスガラス板上の薄膜表面に、カッターナイフでガラス板の素地に到達するように、直交する縦横11本ずつの平行な直線を1mm間隔で引いて、1mm×1mmのマス目を100個作製した。切られた薄膜表面にセロハン粘着テ−プ(幅=18mm、粘着力=3.7N/10mm)を張り付け、消しゴム(JIS S6050合格品)で擦って密着させ、テープの一端を持ち、板に直角に保ち瞬間的に剥離した際のマス目の残存数を目視によって評価した。
パターン付きキュア膜をモノエタノールアミン/ジメチルスルホキシド=70/30(重量比)中に65℃で10分間浸漬した後、5分間純水リンスを行い、水を窒素ブローで除去した。40μmの抜きのスクエアーパターンの4つのエッジ部(各角の頂点から半径1μm以内)について、浸漬前後のクラックの発生有無をラムダエースSTM−602(大日本スクリーン製造(株)製)を用いて目視にて評価し、4つのエッジ部に確認されたクラックの総本数を耐溶剤性の指標とした。
ポリシロキサン(i)をポリシロキサン(ii)に換え、キノンジアジド化合物(iv)を10重量部用い、ビスイミド化合物(vi)をビスイミド化合物(vii)に換え、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物2を得た。各評価結果については表2に示した。
ポリシロキサン(i)を、シリカ粒子PL−2L−DAAをSi原子で27.5mol%共重合したポリシロキサン(iii)に換え、キノンジアジド化合物(iv)を4重量部用い、ビスイミド化合物(vi)2重量部をビスイミド化合物(viii)8重量部に換え、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物3を得た。各評価結果については表2に示した。
ポリシロキサン(i)にSi原子で27.5mol%となるようにシリカ粒子DAA溶剤分散液クォートロンPL−2L−DAA(扶桑化学工業(株)製:固形分26.4重量%)を加えて、キノンジアジド化合物(v)を8重量部用い、ビスイミド化合物(vi)2重量部をビスイミド化合物(ix)9重量部に換え、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物4を得た。各評価結果については表2に示した。
キノンジアジド化合物(iv)をキノンジアジド化合物(v)に換え、ビスイミド化合物(vii)2重量部をビスイミド化合物(vi)0.5重量部に換えた他は、実施例2と同様に行い、組成物5を得た。各評価結果については表2に示した。
ビスイミド化合物(vi)を0.476g(固形分換算で2重量部)を、2.856g(固形分換算で12重量部)に換えた他は、実施例1と同様に行い、組成物6を得た。各評価結果については表2に示した。
ビスイミド化合物(vi)を0.476g(固形分換算で2重量部)を、0.019g(固形分換算で0.08重量部)に換えた他は、実施例1と同様に行い、組成物7を得た。各評価結果については表2に示した。
ポリシロキサン(i)をポリシロキサン(ii)に換え、キノンジアジド化合物(iv)を10重量部用い、ビスイミド化合物(vi)(固形分換算で2重量部)を、イミド基を有するアクリル共重合体溶液(A)(固形分換算で9重量部)に換え、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物12を得た。各評価結果については表2に示した。
ポリシロキサン(i)を、シリカ粒子PL−2L−DAAをSi原子で27.5mol%共重合したポリシロキサン(iii)に換え、キノンジアジド化合物(iv)を4重量部用い、ビスイミド化合物(vi)(固形分換算で2重量部)を、イミド基を有するアクリル共重合体溶液(B)(固形分換算で3重量部)に換え、ベンジル−4−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物13を得た。各評価結果については表2に示した。
ポリシロキサン(i)にSi原子で27.5mol%となるようにシリカ粒子DAA溶剤分散液クォートロンPL−2L−DAA(扶桑化学工業(株)製:固形分26.4重量%)を加えて、キノンジアジド化合物(v)を8重量部用い、(固形分換算で2重量部)を、イミド基を有するアクリル共重合体溶液(C)(固形分換算で0.5重量部)に換え、“ニカラック”MX−270、DBAを用いなかった他は、実施例1と同様に行い、組成物14を得た。各評価結果については表2に示した。
ビスイミド化合物(vi)を用いなかった他は、実施例2と同様に行い、組成物8を得た。各評価結果については表2に示した。
ビスイミド化合物(vi)2重量部をビスイミド化合物(x)3重量部に換えた他は、実施例1と同様に行い、組成物9を得た。各評価結果については表2に示した。
黄色灯下にてキノンジアジド化合物(iv)2.64g(30重量部)、エピコート828(ジャパンエポキシレジン(株)製)0.88g(10重量部)をEDM5.94gに溶解させた。アクリル樹脂溶液(xi)20.52g(アクリル樹脂100重量部に相当)、BYK−333(ビックケミージャパン(株)製)0.0015g(組成物全量に対して濃度50ppmに相当)を加え撹拌した。次いで0.45μmのフィルターでろ過を行い、得られた組成物を組成物10とした。
黄色灯下にてキノンジアジド化合物(iv)0.965g(10重量部)、HPE6.58gに溶解させた。ノボラック樹脂溶液(xii)22.44g(ノボラック樹脂部を100重量部に相当)、BYK−333(ビックケミージャパン(株)製)0.0015g(組成物全量に対して濃度50ppmに相当)を加え撹拌した。次いで0.45μmのフィルターでろ過を行い、得られた組成物を組成物11とした。
キノンジアジド化合物(iv)をキノンジアジド化合物(v)に換え、ビスイミド化合物(vi)(固形分換算で2重量部)を、イミド基を有するアクリル共重合体溶液(D)(固形分換算で3重量部)に換えた他は、実施例2と同様に行い、組成物15を得た。各評価結果については表2に示した。
Claims (5)
- (d)一般式(1)で表される化合物または下記一般式(2)で表される構造体を少なくとも1つ有するアクリル重合体化合物の含有量がポリシロキサンに対して0.1〜10重量%である請求項1記載の感光性シロキサン組成物。
- (a)ポリシロキサンが共重合体であり、該ポリシロキサンの少なくとも一部に化学的に結合したシリカ粒子を含んでいる請求項1記載の感光性シロキサン組成物。
- 請求項1記載の感光性シロキサン組成物から形成された硬化膜であって、波長400nmにおける膜厚3μmあたりの光透過率が95%以上である硬化膜。
- 請求項3記載の硬化膜を具備する素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007141439A JP5169027B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006147862 | 2006-05-29 | ||
JP2006147862 | 2006-05-29 | ||
JP2007141439A JP5169027B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008009406A true JP2008009406A (ja) | 2008-01-17 |
JP5169027B2 JP5169027B2 (ja) | 2013-03-27 |
Family
ID=39067619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007141439A Expired - Fee Related JP5169027B2 (ja) | 2006-05-29 | 2007-05-29 | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5169027B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008176037A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
WO2008099904A1 (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-21 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Silane compound, production method thereof, and resin composition containing silane compound |
JP2009015285A (ja) * | 2006-11-30 | 2009-01-22 | Toray Ind Inc | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2009204805A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性樹脂組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品 |
JP2009299015A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-12-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、繊維複合樹脂組成物及びそれを硬化して得られる成型体 |
CN110938029A (zh) * | 2019-12-17 | 2020-03-31 | 中国工程物理研究院总体工程研究所 | 六元脂环酰亚胺类衍生物单体及其制备、应用、固化邻苯二甲腈树脂的方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09328546A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 樹脂組成物 |
JPH10273595A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
JP2006018249A (ja) * | 2004-06-02 | 2006-01-19 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007141439A patent/JP5169027B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09328546A (ja) * | 1996-06-11 | 1997-12-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 樹脂組成物 |
JPH10273595A (ja) * | 1997-03-28 | 1998-10-13 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
JP2006018249A (ja) * | 2004-06-02 | 2006-01-19 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009015285A (ja) * | 2006-11-30 | 2009-01-22 | Toray Ind Inc | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 |
JP2008176037A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法 |
WO2008099904A1 (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-21 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Silane compound, production method thereof, and resin composition containing silane compound |
JP2010518182A (ja) * | 2007-02-09 | 2010-05-27 | 株式会社日本触媒 | シラン化合物、その製造方法及びシラン化合物を含む樹脂組成物 |
US8541532B2 (en) | 2007-02-09 | 2013-09-24 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Silane compound, production method thereof, and resin composition containing silane compound |
JP2009204805A (ja) * | 2008-02-27 | 2009-09-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性樹脂組成物、積層体及びその製造方法並びに電子部品 |
JP2009299015A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-12-24 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱硬化性樹脂組成物、繊維複合樹脂組成物及びそれを硬化して得られる成型体 |
CN110938029A (zh) * | 2019-12-17 | 2020-03-31 | 中国工程物理研究院总体工程研究所 | 六元脂环酰亚胺类衍生物单体及其制备、应用、固化邻苯二甲腈树脂的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5169027B2 (ja) | 2013-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4853228B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子、並びにパターン形成方法 | |
JP5099140B2 (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP4670693B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5034901B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5003081B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP4784283B2 (ja) | ポジ型感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5765235B2 (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子 | |
JP4655914B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2007193318A (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子 | |
JP5696665B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子 | |
JPWO2011078106A1 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2009042422A (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP4967687B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5659561B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5169027B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2007226214A (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2008020898A (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2009169343A (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5343649B2 (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2010032977A (ja) | ポジ型感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5540632B2 (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5233526B2 (ja) | 感光性組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP5056260B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物およびその製造方法、並びにそれから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子 | |
JP4670665B2 (ja) | 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜、および硬化膜を有する素子 | |
JP2014149330A (ja) | 感光性シロキサン組成物、硬化膜及び素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100528 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120328 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120710 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120903 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121204 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121217 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5169027 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160111 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |