JP2008008730A - プローブ組立体 - Google Patents

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Abstract

【課題】非対称配列パターンを有する半導体ウエハのような被検査体の電気的検査において、該被検査体に横方向への大きな変位を生じさせることなく、しかもデバイス領域に損傷を与えることのないプローブ組立体を提供する。
【解決手段】プローブ基板のアンカー部に固定されかつ支点を経てアンカー部から離れる方向へ伸長し、その先端に針先を有し、該針先が押圧されたときに先端側部分が弾性変形可能な複数のプローブを有するプローブ組立体。前記プローブは、支点からその針先に至る方向が一方向へ向けられる第1のプローブ群および該群の前記プローブの前記方向と逆方向へ向けられる第2のプローブ群を構成する。両プローブ群のいずれか一方に針先が電極に当接しないダミーのプローブが含まれており、該ダミープローブの針先は半導体装置の非デバイス領域に対応する領域に配置されている。
【選択図】図4

Description

本発明は、IC(集積回路)が作り込まれた半導体ウエハのような平板状の被検査体の電気検査に用いられるプローブ組立体に関する。
ICチップの製造では、一般的に、半導体ウエハ上に行列をなす多数のチップ領域が区画され、各チップ領域のそれぞれにICのための電子回路が一括的に形成される。この多数のIC回路が作り込まれた半導体ウエハは、最終的に、各チップ領域がスクライブ線に沿って分割されることにより、多数のICチップに分離される。このようなIC回路が組み込まれた半導体ウエハは、各チップに分割するに先立って、例えば特許文献1に開示されたようなプローブ組立体を用いて、電気的検査を受ける。
このプローブ組立体は、その支持台に支持されたプローブユニットを備え、該プローブユニットの各プローブは、傾斜アーム部を有する。各傾斜アーム部は、前記支持台から、真空チャックにより保持された半導体ウエハに向けて斜め下方へ伸長する。各傾斜アーム部の伸長端すなわち先端には、前記半導体ウエハの各チップ領域に形成された対応する電極に接触可能の針先が設けられている。前記プローブ組立体の各プローブの針先が対応する電極に向けて押圧されると、各傾斜アームの撓み変形を利用して、各プローブの針先が確実に対応する電極に押圧される。この電極の押圧により、各電極が対応するプローブを経て電気検査のためのテスタ本体に接続される。
また、前記特許文献1のプローブ組立体によれば、各傾斜アームの傾斜方向が対応する電極の配列に応じて、一方向およびこれと逆の他方向に向けて配列されている。そのため、各傾斜アームの撓み変形に伴って前記半導体ウエハに偏倚力が作用する。しかし、例えば、各チップ領域に形成されるIC回路がチップ領域の両側部に同数の電極が対称的に配列されたメモリのようなIC回路である限り、各電極列に対応して、プローブは、互いに逆方向に配置されるアーム部が対称的に配置される。そのため、これらアーム部の撓み変形による偏倚力がバランスし、相殺されることから、その偏倚力が真空チャックで保持された前記半導体ウエハを真空チャック上で変位させることはない。
したがって、プローブ配列にこのような対称パターンを有する従来のプローブ組立体によれば、同数の電極が一対の直線上に対称的に配列されている半導体ウエハに、試験毎に真空チャック面に平行な横方向の変位を生じさせることなく、この変位に伴う微調整の必要なく、半導体ウエハに形成された各IC回路の適正な検査が可能となる。
特開平10−282147号公報
ところで、一対の直線上に同数の電極が設けられていない非対称パターンの半導体ウエハへの適用のために、各電極列の数に対応させた非対称のプローブ配置を採用することが考えられる。しかし、この場合、各チップ領域毎でチップの電極列に応じて、相互に逆方向に配列されるプローブ数が一致せず、その数は互いに異なる。そのため、このプローブの非対称配置によるアンバランな偏倚力は、一枚の半導体ウエハ全体では、各チップ領域の両側部の電極数の差とウエハ内のチップ領域数との乗算値に比例した大きな値となってしまう。そのため、この大きな偏倚力が半導体ウエハを真空チャック上で大きく横方向へ変位させる虞が生じる。
このような変位が生じると、変位を与えた多数側のプローブの針先が接触する電極は、該電極に当接する針先と一体的に変位する。そのため、この針先は対応する電極の表面を擦ることはなく、当該電極上の酸化膜や塵埃等が針先の擦り作用によって確実に除去されない。そのために、多数側のプローブと電極との確実な電気的接触が困難になる。これとは逆に、多数側と逆方向に配列された少数側のプローブの針先が当接する電極は、該電極に当接する針先の変位方向と逆方向へ変位することとなる。そのため、針先の対応する電極との相対変位距離は変位を生じない場合の2倍となることから、その針先は、対応する電極上を通り過ぎて半導体ウエハのチップ領域すなわちデバイス領域を擦る虞がある。
また、前記したアンバランスによる半導体ウエハの変位を防止するために、プローブ配列に前記したような対称パターンを有する従来のプローブ組立体を用いて、一対の直線上に同数の電極が配列されていない非対称配列パターンの半導体ウエハに適用することが考えられる。しかし、この場合においても、半導体ウエハ上の電極に対応しないダミープローブとして作用するプローブの針先は、チップ領域の電極が設けられていないデバイス領域で前記半導体ウエハに接触することになり、ICチップ領域の保護の点から望ましくはない。
そこで、本発明の目的は、一対の直線上に同数の電極が配列されていない非対称配列パターンを有する半導体ウエハのような被検査体の電気的検査において、該被検査体に横方向への大きな変位を生じさせることなく、しかもデバイス領域に損傷を与えることのないプローブ組立体を提供することにある。
本発明は、複数の電極パッドを有する半導体装置の電気検査のために用いられるプローブ組立体であって、複数のアンカー部が設けられたプローブ基板と、対応する前記アンカー部に固定されかつ支点を経て前記アンカー部から離れる方向へ伸長し、その先端に針先を有し、前記プローブの少なくとも一部の前記針先が対応する前記電極パッドへ押圧されたときに前記支点から先端側部分が弾性変形可能な複数のプローブであってそれぞれの前記支点からその針先に至る方向が一方向へ向けられる第1のプローブ群およびそれぞれの前記支点からその針先に至る方向が第1の群の前記プローブのそれと逆方向に向けられる第2のプローブ群を構成するプローブとを備え、前記両プローブ群のいずれか一方に針先が前記電極に当接しないダミーのプローブが含まれており、該ダミープローブの針先は前記半導体装置の非デバイス領域に対応する領域に配置されていることを特徴とする。
本発明に係るプローブ組立体の第1及び第2のプローブ群を構成する各プローブは、プローブ群毎で、それぞれの支点からその針先に至る方向が相互に逆方向に設定され、そのいずれか一方のプローブ群には、針先が前記電極に当接しないダミーのプローブが含まれる。そのため、ダミープローブ以外のプローブを前記半導体装置の電極に正しく当接するように前記プローブ基板に配置し、それに起因して、プローブの前記弾性変形に伴う偏倚力に例えアンバランスが生じても、前記プローブ基板に設けられた前記ダミープローブによって、該ダミープローブが含まれる両プローブ群による偏倚力を低減あるいは相殺させることができる。
しかも、前記ダミープローブは、その針先を前記半導体装置の非デバイス領域に対応する領域に配置されていることから、ダミープローブを除くプローブが前記半導体装置の電極に押圧されたとき、前記ダミープローブの針先が半導体装置のデバイス領域に接触することはない。
したがって、本発明に係る前記プローブ組立体によれば、一対の直線上に同数の電極が配列されていない非対称配列パターンを有する半導体ウエハのような被検査体の電気的検査において、該被検査体に横方向への大きな変位を生じさせることなく、しかもデバイス領域に損傷を与えることなく、その電気的検査が可能となる。
より具体的には、前記各プローブは、その弾性変形によってそれぞれの前記支点からその針先に至る方向に応じた方向の偏倚力を前記半導体装置に与えるが、前記第1のプローブ群を構成する全プローブによる前記偏倚力と前記第2のプローブ群を構成する全プローブによる前記偏倚力とがほぼ平衡するように、各プローブ群を構成するプローブ数を設定することができる。もちろん、これら全プローブのうち、ダミープローブを除くプローブは、被検査体である前記半導体装置に設けられた電極の配列に依存する。
前記半導体装置が互いに直角に伸びる複数のスクライブラインによって多数のIC領域が区画された半導体ウエハである場合、前記各プローブは、それぞれの前記支点からその針先に至る方向が前記プローブ基板の仮想直線と直角に整列して配置される。この場合、前記プローブ組立体は、プローブ基板の前記仮想直線が前記半導体装置の前記スクライブラインのいずれか一つと平行に適用される。
また、前記各IC領域の両側部に一対の直線上にそれぞれ前記電極が設けられている場合、前記IC領域に対応する前記プローブ基板の各プローブ領域に、前記仮想直線に平行な各領域の中央線の一側および他側にそれぞれ第1および第2のプローブ群のプローブを整列して配置することができる。前記IC領域毎で前記一対の直線上の前記電極数が一致しない非対称配置の場合、前記第1および第2のプローブ群を構成する前記プローブの数は、前記IC領域に対応する前記プローブ領域毎で、前記ダミープローブを除き、一致しない。
前記ダミープローブは、前記プローブ基板の前記各IC領域に対応するプローブ領域毎に配置することができる。この場合、前記半導体装置が実質的に変位を生じないように、前記した偏倚力が低減されるように、例えば前記第1のプローブ群を構成するプローブの数と前記第2のプローブ群を構成するプローブ数の差は、前記プローブ領域毎で2本以内の差になるように、すべてのプローブ領域毎にダミープローブが分散して配置することができる。
これらのダミープローブの針先を前記半導体装置に設けられる前記スクライブラインに対応する線上に整列して配置することができる。これにより、デバイス領域である各IC領域を区画するスクライブライン上にダミープローブの針先を当接させることができる。
また、前記半導体ウエハの前記IC領域外に対応する前記プローブ基板の周辺領域に前記ダミープローブの針先を配置することができる。
この場合、前記ダミープローブの針先は、前記半導体ウエハ上のすべての前記IC領域を取り囲む最外周に位置する前記スクライブラインに対応した線上に整列して配置することができる。
前記プローブ基板には、前記IC領域に対応するプローブ領域の列であって前記プローブの前記支点からその針先に至る方向に沿ったプローブ領域列毎に、前記ダミープローブを集合的に配置することができる。
これにより、前記プローブ基板のプローブ領域外の周辺部で、前記プローブ領域列に沿ったIC領域列の複数のIC領域分のダミープローブを対応するプローブ領域列毎に集合的に配置することができるので、前記プローブ基板の個々のプローブ領域内でのプローブ配置の簡素化を図ることができる。
前記各プローブには、前記一端が対応する前記アンカー部に固着され、該アンカー部から立ち上がる台座部と、該台座部の先端から該台座部の伸長方向と角度的に横方向へ伸長し、その先端部に前記針先が設けられるアーム部とを備えるプローブを用いることができる。このプローブでは、前記アーム部と前記台座部と連結部分が前記支点として作用する。
前記アーム部には、該アーム部の撓み変形を容易とすべく該アーム部を貫通する長穴を形成することができる。該長穴は前記アーム部に沿って該アーム部の長手方向に伸長させることができる。この長穴を不要とすることができる。しかしながら、長穴の形成により、各プローブを構成する金属材料の硬度の如何に拘わらず、各プローブの前記アーム部に所望の適正な弾性を付与することができる。
本発明によれば、前記したように、一対の直線上に同数の電極が配列されていない非対称配列パターンを有する半導体ウエハのような被検査体の電気的検査において、該被検査体に横方向への大きな変位を生じさせることなく、しかもデバイス領域に損傷を与えることのないプローブ組立体が提供される。
本発明に係るプローブ組立体10は、図1及び図2に示されているように、全体に円形の配線基板12と、該配線基板の下面12aの中央部に取り付けられた矩形平面形状を有するプローブ基板14と、該プローブ基板の一方の面14aに取り付けられた多数のプローブ16とを備える。各プローブ16は、後述するように、プローブ基板14の一方の面14a上に形成された対応する導電路のそれぞれのアンカー部に固着されている。プローブ基板14は、プローブ16が設けられた一方の面14aと反対側の面を配線基板12の下面12aに対向させて、該配線基板に固定されている。
配線基板12は、従来よく知られているように、内部に図示しない導電路が組み込まれた電気絶縁板からなる。図1に示すように、配線基板12の上面の周縁部には、図示しないテスタ本体への接続端となる多数のテスタランド18が設けられている。配線基板12に取り付けられたプローブ基板14の各プローブ16は、従来におけると同様に、配線基板12内の対応する前記導電路を経て、対応する各テスタランド18に電気的に接続される。これにより、各プローブ16は、対応するテスタランド18を経て前記テスタ本体に電気的に接続される。
プローブ組立体10は、例えば、図3に示されているように、被検査体である半導体ウエハ20に形成された多数のICチップ領域22の電気的検査に用いられる。各ICチップ領域22は、従来よく知られているように、半導体ウエハ20の表面に縦及び横に直線に沿って伸びる多数のスクライブ線24、26により区画されており、これにより、縦横方向に整列してマトリクス状に配置されている。図示の例では、各ICチップ領域22は、横方向のスクライブ線24に平行な長辺と縦方向スクライブ線26に平行な短辺とを有する矩形の平面形状を有する。
また、各ICチップ領域22には、その前記長辺に沿う両側部の一対の仮想線La1、Lb1に沿って、複数の電極パッド28(28a、28b)がそれぞれ設けられている。各仮想線La1、Lb1は、各ICチップ領域22が整列して配置されていることから、各列で共通する。一方の電極パッド28aは、各仮想線La1上に配列されており、図示の例では、各ICチップ領域22に、12個の電極パッド28aがそのICチップ領域22の長手方向に等間隔で配置されている。他方の電極パッド28bは、各仮想線Lb1上に配列されており、各ICチップ領域22に、6個の電極パッド28bが、一方の電極パッド28aの配列ピッチに対応して配置されている。
再び図1を参照するに、プローブ組立体10のプローブ基板14の一方の面14aには、前記したプローブ16が設けられたプローブ領域30が、半導体ウエハ20のICチップ領域22に対応して、縦横方向に相互に隣接するように整列して設けられている。図示の例では、一部のICチップ領域22に対応して縦横に8×8個のプローブ領域30が形成されている。また、各パッド群(28a、28b)の配列ラインである仮想線La1、Lb1に対応する仮想線La2、Lb2に沿って、プローブ領域30毎で各ICチップ領域22のそれぞれの電極パッド28(28a、28b)に対応するように、多数の前記プローブ16が仮想線La2、Lb2と直角に配列されている。
図4には、プローブ基板14上の一方の面14aに設けられる多数のプローブ16の配列が、1つのICチップ領域22に対応する1つのプローブ領域30で、代表的に表されている。図4に示す例では、複数のプローブ16は、一方の電極パッド群(28a)の配列ライン(仮想線La1)に対応すべく、仮想線La2上にそれぞれの針先32aを整列させて配置されるプローブ16A1およびプローブ16A2と、他方の電極パッド群(28b)の配列ライン(仮想線Lb1)に対応すべく、仮想線Lb2上にそれぞれの針先32bを整列させて配置される複数のプローブ16b1およびプローブ16b2と、さらに、仮想線Ldにそれぞれの針先32dを整列させて配置される複数のプローブ16d1およびプローブ16d2とを含む。
仮想線Ldは、両仮想線La2およびLb2間の中心仮想線Lcから見て仮想線Lb2よりも側方に位置する。この仮想線Ldは、図3に示したスクライブ線24に対応し、したがって、仮想線Ldにそれぞれの針先32dを整列させて配置されたプローブ16d1およびプローブ16d2はその針先をスクライブ線24に対応されている。中心仮想線Lcの一側に位置してその針先32aを仮想線La2上に整列させるプローブ16A1およびプローブ16A2は、第1のプローブ群を構成する。これに対し、中心仮想線Lcの他側に位置してその針先32bを仮想線Lb2上に整列させるプローブ16b1およびプローブ16b2と、同様に中心仮想線Lcの他側に位置してその針先32dを仮想線Ld上に整列させるプローブ16d1およびプローブ16d2とは、第2のプローブ群を構成する。
図4に示す例では、第1のプローブ群は、図面の簡素化のために一部のプローブ16A1、16A2が省略されているが、1つのプローブ領域30に一方の電極パッド28aの個数に対応した12本のプローブ16A1、16A2が設けられている。また第2のプローブ群は、1つのプローブ領域30に他方の電極パッド28bの個数に対応した6本のプローブ16b1、16b2と、図示の例では例えば4本のプローブ16d1、16d2とで構成されている。
すべてのプローブ16(16A1、16A2、16b1、16b2、16d1および16d2)は、基本的に、プローブ基板14の一方の面14a上に形成された導電路34のアンカー部34aに固定される台座部36と、該台座部から横方向に伸びるアーム部38と、該アームの先端に連なり前記針先32(32a、32b)が設けられる針先部40とを備える。
各プローブ16の台座部36は、図4で見て、各プローブ16に対応するアンカー部34aに基端が固着され該基端からアンカー部34aに直角に立ち上がる直立部分36aと、該直立部分の頂部から斜め上方へ立ち上がる傾斜部分36bとを備える。各プローブ16のアーム部38は、対応する各傾斜部分の頂部から前記台座部36と同一面内でその直立部分36aとほぼ直角に一方向へ伸長する。アーム部38の伸長端には、傾斜部分36bおよびアーム部38と同一面内で前記針先部40が一体的に形成されている。針先部40は、図4で見て、アーム部38の伸長方向に関してわずかな鈍角で斜め上方に立ち上がる。各針先部40の先端面に各針先32(32a、32b、32d)が設けられている。
アーム部38は台座部36から直立部分36aと直角に横方向へ伸長するが、このアーム部38を直立部分36aとの角度が90度を超えるように傾斜して形成することができる。また、アーム部38の先端に設けられた針先部40を不要とすることができる。この場合、針先32(32a、32b、32d)は、アーム部38の先端部における針先部40の前記先端面と平行な面に直接的に取り付けられ、あるいはアーム部38と一体的に形成される。
各プローブ16は、それらの針先32(32a、32b、32d)に押圧力を受けると、アーム部38が、その弾性によって、撓み変形を生じる。このとき、各台座部36は剛体として作用する。したがって、アーム部38の前記した撓み変形は、該アーム部と台座部36との連結部分が支点Sとなり、該支点を中心として僅かに弓なりに弾性変形する。このアーム部38の弾性変形を促進するために、各プローブ16のアーム部38には、これを貫通してその両側に開放する長穴42がそれぞれ形成されている。長穴42は、アーム部38の長手方向へ伸長する。
すべてのプローブ16のうち、プローブ16A1、プローブ16b1およびプローブ16d1は、それぞれの傾斜部分36bとアーム部38との角度が鈍角θ1を示し、それぞれ同一の平面形状を有する。また、プローブ16A2、プローブ16a2およびプローブ16d2は、それぞれの傾斜部分36bとアーム部38との角度が鋭角θ2を示し、それぞれほぼ同一の平面形状を有する。針先32(32a、32b、32d)に作用する押圧力に対する各台座部36の機械的強度の同一性を保持する点で、前記押圧力前記鈍角θ1及び鋭角θ2の和が180度になるように、これらの角度θ1及びθ2を設定することが望ましい。これらのすべてのプローブ16は、傾斜部分36bとアーム部38との角度が鈍角θ1であるか鋭角θ2であるかの相違点を除いて、前記した各支点から針先32(32a、32b、32d)までの長さを含む各部の寸法は同一であり、前記押圧力に対してほぼ同一の機械的強度を示す。
傾斜部分36bとアーム部38との角度が鈍角θ1に設定されたプローブ16A1、16b1および16d1のうち、姿勢を表裏で反転させることなく仮想線La2上に針先32aを整列させて配列されたプローブが符号16A1で示されている。また、プローブ16A1の姿勢を反転させた状態で仮想線Lb2上に針先32bを整列させて配列されたプローブが符号16b1で示されている。さらに、プローブ16A1の姿勢を反転させた状態で仮想線Ld上に針先32dを整列させて配列されたプローブが符号16d1で示されている。
同様に、傾斜部分36bとアーム部38との角度が鋭角θ2に設定されたプローブ16A2、16b2およびプローブ16d2のうち、姿勢を表裏で反転させることなく仮想線La2上に針先32aを整列させて配列されたプローブが符号16A2で示されている。また、プローブ16A2の姿勢を反転させた状態で仮想線Lb2上に針先32bを整列させて配列されたプローブが符号16b2で示されている。さらに、プローブ16A2の姿勢を反転させた状態で仮想線Ld上に針先32dを整列させて配列されたプローブが符号16d2で示されている。
すなわち、仮想線La2上に針先32aを整列させて、プローブ16A1およびプローブ16A2が交互に配置されており、第1のプローグ群が構成されている。他方、仮想線Lb2上に針先32bを整列させて、プローブ16b1およびプローブ16b2が交互に配置された一対の小プローブ群が形成されている。また、この小プローブ群間には、仮想線Ld上に針先32dを整列させて、プローブ16d1およびプローブ16d2が交互に配置されている。これらのプローブ16は、前記したように、それぞれの台座部36の直立部分36aの基端で対応する導電路34のアンカー部34aに固着されている。
このように、仮想線La2には、傾斜部分36bおよびアーム部38間の角度が鈍角θ1のプローブ(16A1、16a1)と、その角度が鋭角θ2のプローブ(16A2、16a2)とが、仮想線La2に沿ってそれぞれ交互配列されており、前記したように、第1のプローブ群が構成されている。
また、仮想線Lb2には、傾斜部分36bおよびアーム部38間の角度が鈍角θ1のプローブ(16b1)と、その角度が鋭角θ2のプローブ(16b2)とが、仮想線Lb2に沿ってそれぞれ交互配列されている。さらに、仮想線Ldには、傾斜部分36bおよびアーム部38間の角度が鈍角θ1のプローブ(16d1)と、その角度が鋭角θ2のプローブ(16d2)とが、仮想線Ld2に沿ってそれぞれ交互配列されている。これらの交互配列により、前記した第2のプローブ群が構成されている。このような2種類の角度θ1、θ2のプローブの交互配置により、プローブ16d1、16d2を除く各プローブ16が、ICチップ領域22の電極パッド28(28a、28b)の配列ピッチに対応して、例え各仮想線La2、Lb2の伸長方向へ相互に近接して配置され、またプローブ16d1、16d2も仮想線Ldの伸長方向へ相互に近接して配置されても、各プローブ16に対応する導電路34の34aが各仮想線La2、Lb2、Ldと直角な横方向へ交互にずれを以て配置することができるので、各プローブ16の台座部36のアンカー部34aへの固着作業が比較的容易に行える。
したがって、各仮想線La2、Lb2、Ldの伸長方向で隣接するプローブ16間に前記固着作業のための比較的広いスパンが確保できる場合には、プローブ16を前記傾斜角が鈍角θ1または鋭角θ2のいずれか一方の形状のプローブで構成し、他方の形状のプローブを不要とすることができる。
仮想線La2上に針先32aが整列するプローブ16A1および16A2は、それぞれの前記支点Sが仮想線La2と平行な仮想線SA上に整列する。この仮想線SAは、仮想線La2と両仮想線La2、Lb2間の中央仮想線Lcとの間にある。したがって、これらのプローブ16A1および16A2は、それらの支点Sからそれらの針先32aを見た方向は、両仮想線La2、Lb2間の中央仮想線Lcからこれと直角に離れるY方向となる。
これに対し、仮想線Lb2上に針先32aが整列するプローブ16b1および16b2は、それぞれの前記支点Sが仮想線Lb2に近接してこれと平行な仮想線Sb上に整列する。この仮想線Sbは、仮想線Lb2と中央仮想線Lcとの間にあり、これらのプローブ16b1および16b2は、それらの支点Sからそれらの針先32aを見た方向は、前記Y方向と逆の−Y方向となる。
また、仮想線Ld上に針先32dが整列するプローブ16d1および16d2は、それぞれの前記支点Sが仮想線Lb2に近接してこれと平行な仮想線Sd上に整列する。この仮想線Sdは、仮想線Ldと中央仮想線Lcとの間にある。したがって、これらのプローブ16d1および16d2は、それらの支点Sからそれらの針先32dを見た方向は、プローブ16b1および16b2におけると同様、プローブ16A1および16A2における前記Y方向と逆の−Y方向となる。
したがって、第1のプローブ群を構成するプローブ16A1および16A2はは、それらの支点Sからそれらの針先32aを見た方向は、前記Y方向となる。他方、第2のプローブ群を構成するプローブ16b1、16b2、16d1、16d2は、それらの支点Sからそれらの針先32bまたは32dを見た方向は、前記−Y方向となる。
本発明に係るプローブ組立体10は、図5に示すように、真空チャック44の吸着溝44aに作用する吸引圧力により、該真空チャック上に保持された半導体ウエハ20の各ICチップ領域22の電気的検査に適用される。図5では、ICチップ領域22として、図3に符号22aで示すチップ領域が示されている。この電気的検査のために、第1のプローブ群の各プローブ16A1、16A2の針先32aが各ICチップ領域22の一方の電極パッド28aに当接し、第2のプローブ群の各プローブ16b1、16b2の針先32bが各ICチップ領域22の他方の電極パッド28bに当接するように、仮想線La2、Lb2を半導体ウエハ20の仮想線La1、Lb1に一致させて、該半導体ウエハ上にプローブ組立体10が適用される。これにより、第2のプローブ群の各プローブ16d1、16d2の針先32dがスクライブ線24に当接する。
したがって、プローブ16A1、16A2、16b1、16b2の各針先32a、32bが対応する電極パッド28a、28bに押圧されると、これとほぼ同時にプローブ16d1、16d2の各針先32dが対応するスクライブ線24上で半導体ウエハ20に押圧される。このとき、第2のプローブ群のプローブ16d1、16d2は、その針先32dをスクライブ線24に当接させ、いずれの電極パッド28(28a、28b)にも当接させないことから、ダミープローブとして作用する。
このダミープローブを含む各プローブ16(16A1、16A2、16b1、16b2、16d1、16d2)のアーム部38には、台座部36との連結部Sを支点として、僅かに撓みを伴う弾性変形が生じる。この弾性変形を与えるオーバドライブにより、各プローブ16の針先32(32a、32b、32d)には、それぞれのアーム部38の伸長方向、すなわち支点Sからそれぞれの針先32(32a、32b、32d)へ向けての方向の偏倚力が生じる。
図5から明らかなように、第1のプローブ群のプローブ16A1、16A2については、この偏倚力はY方向となる。これに対して、第2のプローブ群の各プローブ16b1、16b2、16d1、16d2については、この偏倚力は、Y方向とは逆方向の−Y方向となる。
図示の例では、前記したように、各ICチップ領域22に対応するプローブ領域30毎では、4本のダミープローブ16d1、16d2を除いて、全18本のプローブ16(16A1、16A2、16b1、16b2)が設けられている。このうち、オーバドライブ時にY方向の偏倚力を生じる第1のプローブ群のプローブ16A1、16A2の本数は12本であり、他方、オーバドライブ時に−Y方向の偏倚力を生じるプローブ(16b1、16b2)の本数は、6本である。そのため、両者の差は、6本になる。しかしながら、第2のプローブ群に4本のダミープローブ16d1、16d2が設けられていることから、そのため、プローブ領域30毎の第1のプローブ群(16A1、16A2)と第2のプローブ群(16b1、16b2、16d1、16d2)とのプローブ差は2本となる。その結果、各プローブ領域30、ひいてはプローブ組立体10の全体で、プローブ16のオーバドライブによって半導体ウエハ20に作用する偏倚力は大きく低減されることとなる。
もし、ダミープローブ16d1、16d2が設けられていないと、各プローブ領域30では、第1プローブ群と第2プローブ群のプローブ数差の6本に応じて、両方向の偏倚力に大きなアンバランスが生じる。そのため、プローブ組立体10の全体で見た場合、プローブ領域30の数に比例した極めて大きな一方向(Y方向)の偏倚力が半導体ウエハ20に作用することとなり、例えば図6に破線で示すように、半導体ウエハ20が真空チャック44で変位することがある。1回の検査でこのような変位が生じると、1枚の半導体ウエハ20を複数の領域に分けて複数回の検査を反復する必要がある場合には、その都度、プローブ組立体10と半導体ウエハ20との位置合わせの微調整が必要となる。また、前記したように一方の電極パッド28aとプローブ16A1、16A2との接触不良あるいはプローブ16b1、16b2によるICチップ領域22の他方の電極28b近傍への損傷を生じる。
これに対して、本発明に係るプローブ組立体10では、前記したように、各プローブ16のアーム部38の撓み変形による偏倚力のアンバランスが低減されることから、その偏倚力が真空チャック44で保持された半導体ウエハ20を真空チャック44上で変位させることはない。
したがって、両側に同数の電極パッド28(28a、28b)が配列されていない非対称配列パターンを有するICチップ領域22が設けられた半導体ウエハ20のような被検査体の電気的検査において、該被検査体に横方向への大きな変位が生じることはない。これにより、被検査体の変位によるプローブでの電極パッドを外れたデバイス領域の擦りを招くことなく、両方向に配置されたプローブのそれぞれで対応する電極パッドの接触面を適正に擦することができるので、プローブと電極パッドとの確実な電気的接続が得られ、その結果、正確な測定が可能となる。また、検査毎に再度の位置合わせを必要とするほどの変位が生じないので、1枚の半導体ウエハ20を複数の領域に分けて複数回の検査を反復する場合、作業効率が著しく向上する。
さらに、ICチップ領域22内に接触するダミープローブを設けることなく前記した両方向の偏倚力のアンバランスの低減を図ることができるので、このダミープローブによる損傷を半導体ウエハ20に生じることはない。
両プローブ群による偏倚力のアンバランスを確実に相殺する上で、第1のプローブ群および第2のプローブ数を相等しくするように、ダミープローブ16d1、16d2の本数を設定することが望ましい。しかしながら、前記したように、各プローブ領域30での両プローブ群を構成するプローブ本数の差を2本以内に設定することにより、両プローブ群のプローブ本数の差による偏倚力の大きなアンバランスを解消することができる。
各プローブ16は、その針先32(32a、32b、32d)を含み、例えばニッケルあるいはその合金のような適正な高靱性を示す板状の金属材料で形成することができる。しかしながら、針先32(32a、32b、32d)は、コバルトあるいはロジウムのような高硬度金属材料で形成することが望ましい。
また、プローブ16は、従来よく知られたエレクトロフォーミングにより形成することができる。この場合、作業台上でフォトレジストを選択的に露光および現像して形成されるプローブの平面形状を有するフォトレジストパターンに導電材料を電気メッキ法により堆積させた後、前記フォトレジストパターンを除去することによりプローブ16が形成される。
また、ダミープローブ16d1、16d2に関連する導電路34とテスタランド18との間の電気経路を不要とすることができる。
前記したところでは、ダミープローブ16d1、16d2を各プローブ領域30に分散させた例を示した。これに代えて、図7に示すように、スクライブ線26に沿ったICチップ領域22列に対応するプローブ領域30列毎に、半導体ウエハ20のICチップ領域22外に対応するプローブ基板14の周辺部に集合的に配置することができる。
図7及び図8に示すように、ICチップ領域22bを含む前記ICチップ領域に対応するプローブ領域30列には、例えば各プローブ領域30におけるプローブ16A1、16A2と、プローブ16b1、16b2との本数差に一致した本数のダミープローブ16d1、16d2がスクライブ線24(24a)と直角にかつ該スクライブ線の伸長方向へ相互に間隔をおいて配置されている。
ダミープローブ16d1、16d2の各針先32dは、図8に示すように、最外周のスクライブ線24a上に位置させることができる。また、図7に概略的に示されているように、各針先32dをスクライブ線24aから僅かに間隔をおいて該スクライブ線よりも外方で整列させることができ、これにより半導体ウエハ20のデバイス領域を取り巻く周辺部に各針先32dを接触させることができる。
プローブ基板14のプローブ領域30の外方の周辺部に、プローブ領域30列に沿ったICチップ領域22列の複数のIC領域22分のダミープローブ16d1、16d2を対応するプローブ領域30列毎に集合的に配置することにより、プローブ基板14の個々のプローブ領域30内でのプローブ配置の簡素化を図ることができる。
本発明は、上記実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない限り、種々に変更することができる。
本発明に係るプローブ組立体を概略的に示す底面図である。 図1に示したプローブ組立体の正面図である。 図1に示したプローブ組立体で検査を受ける半導体ウエハのICチップ領域に設けられた電極と、前記プローブ組立体の各プローブとの配置関係を示すプローブ組立体を上面から見た説明図である。 本発明に係るプローブ組立体のプローブの配列例を示す、プローブ組立体の底面側から見た斜視図である。 図4に示したプローブ組立体のプローブと、半導体ウエハのICチップ領域の電極との配置関係を部分的に示す縦断面図である。 吸着チャック上の被検査体である半導体ウエハを示す斜視図である。 本発明に係る他の実施例を示す図3と同様な図面である。 本発明に係る他の実施例を示す図5と同様な図面である。
符号の説明
10 プローブ組立体
14 プローブ基板
16(16A1、16A2、16b1、16b2、16d1、16d2) プローブ
16d1、16d2 ダミープローブ
20 半導体ウエハ(被検査体)
22 ICチップ領域
28(28a、28b) 電極パッド
32(32a、32b) 針先
36 台座部
38 アーム部
42 長穴

Claims (12)

  1. 複数の電極パッドを有する半導体装置の電気検査のために用いられるプローブ組立体であって、
    複数のアンカー部が設けられたプローブ基板と、対応する前記アンカー部に固定されかつ支点を経て前記アンカー部から離れる方向へ伸長し、その先端に針先を有し、前記プローブの少なくとも一部の前記針先が対応する前記電極パッドへ押圧されたときに前記支点から先端側部分が弾性変形可能な複数のプローブであってそれぞれの前記支点からその針先に至る方向が一方向へ向けられる第1のプローブ群およびそれぞれの前記支点からその針先に至る方向が第1の群の前記プローブのそれと逆方向に向けられる第2のプローブ群を構成するプローブとを備え、前記両プローブ群のいずれか一方に針先が前記電極に当接しないダミーのプローブが含まれており、該ダミープローブの針先は前記半導体装置の非デバイス領域に対応する領域に配置されている、プローブ組立体。
  2. 前記各プローブは、その弾性変形によって前記支点からその針先に至る方向に応じた方向の偏倚力を前記半導体装置に与え、前記第1のプローブ群を構成する全プローブによる前記偏倚力と前記第2のプローブ群を構成する全プローブによる前記偏倚力とがほぼ平衡するように、各プローブ群を構成するプローブ数が設定されている、請求項1に記載のプローブ組立体。
  3. 前記半導体装置は、互いに直角に伸びる複数のスクライブラインによって多数のIC領域が区画された半導体ウエハからなり、前記各プローブは、それぞれの前記支点からその針先に至る方向が前記プローブ基板の仮想直線と直角に整列して配置されており、前記プローブ基板の前記仮想直線が半導体装置の前記スクライブラインのいずれか一つと平行に適用される、請求項1または2に記載のプローブ組立体。
  4. 前記IC領域に対応する前記プローブ基板の各プローブ領域には、前記仮想直線に平行な各領域の中央線の一側および他側にそれぞれ第1および第2のプローブ群のプローブが整列して配置されており、第1および第2のプローブ群を構成する前記プローブの数は、前記IC領域に対応する前記プローブ領域毎で、前記ダミープローブを除き、一致しない、請求項3に記載のプローブ組立体。
  5. 前記ダミープローブは、前記プローブ基板の前記各IC領域に対応するプローブ領域毎に配置されている、請求項4に記載のプローブ組立体。
  6. 前記第1のプローブ群を構成するプローブの数と前記第2のプローブ群を構成するプローブ数の差は、前記プローブ領域毎で2本以内である、請求項5に記載のプローブ組立体。
  7. 前記ダミープローブの針先は前記スクライブラインに対応する線上に整列して配置されている、請求項5に記載のプローブ組立体。
  8. 前記ダミープローブの針先は、前記半導体ウエハの前記IC領域外に対応する前記プローブ基板の周辺領域に配置されている、請求項4に記載のプローブ組立体。
  9. 前記ダミープローブの針先は、前記半導体ウエハ上のすべての前記IC領域を取り囲む最外周に位置する前記スクライブラインに対応した線に沿ってその外方で整列して配置されている、請求項8に記載のプローブ組立体。
  10. 前記プローブ基板には、前記IC領域に対応するプローブ領域の列であって前記プローブの前記支点からその針先に至る方向に沿ったプローブ領域列毎に、前記ダミープローブが集合的に配置されている、請求項9に記載のプローブ組立体。
  11. 前記各プローブは、前記一端が対応する前記アンカー部に固着され、該アンカー部から立ち上がる台座部と該台座部の先端から該台座部の伸長方向と角度的に横方向へ伸長し、その先端部に前記針先が設けられるアーム部とを備え、前記アーム部と前記台座部と連結部分が前記支点として作用する、請求項3に記載のプローブ組立体。
  12. 前記アーム部には、該アーム部の撓み変形を容易とすべく該アーム部を貫通する長穴が形成され、該長穴は前記アーム部に沿って該アーム部の長手方向に伸長する、請求項11に記載のプローブ組立体。
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