JP2008007393A - シンチレータ用単結晶及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 267
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- -1 cerium-activated orthosilicate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 74
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 60
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 18
- 229910052765 Lutetium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 23
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 83
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 83
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 81
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 62
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 48
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 31
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 description 29
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 25
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 25
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 20
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 19
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 13
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 11
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 11
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 10
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 9
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 8
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N carbonyl sulfide Chemical compound O=C=S JJWKPURADFRFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001364 causal effect Effects 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000003292 diminished effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000002251 gadolinium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001938 gadolinium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075613 gadolinium oxide Drugs 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N lutetium atom Chemical compound [Lu] OHSVLFRHMCKCQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003443 lutetium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BOYZAERJCXIRAX-UHFFFAOYSA-N lutetium(3+);trisilicate Chemical class [Lu+3].[Lu+3].[Lu+3].[Lu+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] BOYZAERJCXIRAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004762 orthosilicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPARYNQUYZOBJM-UHFFFAOYSA-N oxo(oxolutetiooxy)lutetium Chemical compound O=[Lu]O[Lu]=O MPARYNQUYZOBJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035479 physiological effects, processes and functions Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
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- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
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Abstract
【解決手段】 特定のセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶であって、周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有するシンチレータ用単結晶。
【選択図】 なし
Description
Lu1−yMeyA1−xCexSiO5−z□z (8)
[式(8)中、Aは、LuとGd、Sc、Y、La、Pr、Nd、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Ybからなるグループから選択された少なくとも1つの元素であり、Meは、H、Li、Be、B、C、N、Na、Mg、Al、P、S、Cl、K、Ca、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Ge、As、Se、Rb、Sr、Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hg、Tl、Pb、Bi、U、Thからなるグループから選択された少なくとも1つの元素である。]で表されるものが記載されている。特許文献6において、Luに置換するMeとしてHからThまでの50以上の元素が記載されているが、これらはシンチレーション素子の切削及び製造中の結晶のクラッキングを防止する効果、並びに導波路素子内で導波路特性を作り出すために効果があると記載されている。また、これらの中でも、酸化度+4、+5、+6(例えば、Zr、Sn、Hf、As、V、Nb、Sb、Ta、Mo、W、Th)を有するイオンが原試薬内に存在すると、あるいは、その必要な量をシンチレーション材料に追加すると、結晶のクラック防止に有効である他に、酸素副格子内の空格子点の形成を妨げる旨も記載されている。
Y2−(x+y)LnxCeySiO5 (1)
[式(1)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、xは0以上2以下の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示す。]、下記一般式(2);
Gd2−(z+w)LnzCewSiO5 (2)
[式(2)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、zは0超2以下の数値を示し、wは0超0.2以下の数値を示す。]、又は下記一般式(4);
Gd2−(r+s)LurCesSiO5 (4)
[式(4)中、rは0超2以下の数値を示し、sは0超0.2以下の数値を示す。]で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶、特にLnとしてイオン半径がTbよりも小さいDy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y及びScからなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を用いた単結晶、すなわち下記一般式(3);
Gd2−(p+q)LnpCeqSiO5 (3)
[式(3)中、LnはTbよりもイオン半径の小さい希土類元素であるDy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y及びScからなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、pは0超2以下の数値を示し、qは0超0.2以下の数値を示す。]で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶の場合、酸素の少ない中性若しくは還元雰囲気又は真空中で単結晶を育成又は冷却したり、又は単結晶の育成後に酸素の少ない中性若しくは還元雰囲気又は真空中、高温で単結晶の加熱を行ったりすると、蛍光出力のバックグランドが上昇し、蛍光出力の低下や蛍光特性のばらつきが大きくなることが判明した。
Y2−(x+y)LnxCeySiO5 (1)
ここで、式(1)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、xは0以上2以下の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示す。
Gd2−(z+w)LnzCewSiO5 (2)
ここで、式(2)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、zは0超2以下の数値を示し、wは0超0.2以下の数値を示す。
Gd2−(p+q)LnpCeqSiO5 (3)
ここで、式(3)中、LnはTbよりもイオン半径の小さい希土類元素であるDy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y及びScからなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、pは0超2以下の数値を示し、qは0超0.2以下の数値を示す。
Gd2−(r+s)LurCesSiO5 (4)
ここで、式(4)中、rは0超2以下の数値を示し、sは0超0.2以下の数値を示す。
M+xO2 → MO2x (9)
[式(9)中、Mは元素、xは係数を示す。]で表される酸化反応におけるΔGの数値がマイナス側に大きい程、その条件下で酸化物として存在しやすいものと考えられる。上述の計算ソフトによる計算の結果、温度2000℃、1気圧の窒素雰囲気中で酸素分圧が1×10−14気圧付近以下まで酸化物として存在する1種以上の元素が、本発明において好適に用いられる元素として挙げられる。
500≦Ta<(Tm−550) (5)
[式(5)中、Tm(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]で表される条件を満足する加熱温度Ta(単位:℃)で単結晶を更に加熱してもよい。
800≦Tb<(Tm−550) (6)
[式(6)中、Tm(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]で表される条件を満足する加熱温度Tb(単位:℃)で加熱し、更にその後に雰囲気を上述の酸素を含む雰囲気に置換して、その雰囲気中、300℃〜1500℃の加熱温度で単結晶を加熱してもよい。
800≦T3<(Tm3−550) (7)
[式(7)中、Tm3(単位:℃)は単結晶の融点を示す。]で表される条件を満足する温度T3(単位:℃)で加熱してもよい。この加熱処理を施すことにより、結晶中の酸素欠損の増加を抑制すると同時に、Ce4+をCe3+により効率的に変化させることができる。
単結晶は公知のチョクラルスキー法に基づいて作製した。まず、直径50mm、高さ50mm、厚み2mmのIr製るつぼの中に、Gd2−(r+s)LurCesSiO5(r=1.8、s=0.003)単結晶の原料として、酸化ガドリニウム(Gd2O3、純度99.99質量%)、酸化ルテチウム(Lu2O3、純度99.99質量%)、二酸化珪素(SiO2、純度99.9999質量%)、酸化セリウム(CeO2、純度99.99質量%)を所定の量論組成になるように混合したもの500g、並びに酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.02244g(Alとして0.0024質量%に相当)を準備して投入した。次に、高周波誘導加熱炉で融点(約2050℃)まで加熱し融解して溶融液を得た。なお、融点は電子式光高温計(チノー製、パイロスタMODEL UR−U、商品名)により測定した。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを0.0449g(Alとして0.0048質量%に相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを0.4488g(Alとして0.048質量%に相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを酸化ガリウム(Ga2O3、純度99.99質量%)0.04125g(Gaとして0.0061質量%に相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを酸化ガリウム(Ga2O3、純度99.99質量%)0.08250g(Gaとして0.0122質量%に相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gと共に、炭酸カルシウム(CaCO3、純度99.99質量%)0.0881g(Caとして0.0071質量%に相当)を添加した以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウムを用いない以外は実施例1と同様にした。
酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを2.224g(Alとして0.24質量%相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
結晶組成においてr=0、s=0.0145とし、酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)0.0224gを0.0241g(Alとして0.0024質量%相当)に代えた以外は実施例1と同様にした。
結晶組成においてr=0、s=0.0145とし、酸化アルミニウム(Al2O3、純度99.99質量%)添加を行わない以外は実施例1と同様にした。
Claims (5)
- 下記一般式(1)又は(2)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶であって、周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有するシンチレータ用単結晶。
Y2−(x+y)LnxCeySiO5 (1)
[式(1)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、xは0以上2以下の数値を示し、yは0超0.2以下の数値を示す。]
Gd2−(z+w)LnzCewSiO5 (2)
[式(2)中、Lnは希土類元素に属する元素からなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、zは0超2以下の数値を示し、wは0超0.2以下の数値を示す。] - 下記一般式(3)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶であって、周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有するシンチレータ用単結晶。
Gd2−(p+q)LnpCeqSiO5 (3)
[式(3)中、LnはTbよりもイオン半径の小さい希土類元素であるDy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y及びScからなる群より選択される少なくとも1種の元素を示し、pは0超2以下の数値を示し、qは0超0.2以下の数値を示す。] - 下記一般式(4)で表されるセリウム付活オルト珪酸塩化合物の単結晶であって、周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素を前記単結晶の全質量に対して0.00005〜0.1質量%含有するシンチレータ用単結晶。
Gd2−(r+s)LurCesSiO5 (4)
[式(4)中、rは0超2以下の数値を示し、sは0超0.2以下の数値を示す。] - 前記周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素は、Al及び/又はGaである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のシンチレータ用単結晶。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載のシンチレータ用単結晶の製造方法であって、前記周期表第13族に属する元素からなる群より選択される1種以上の元素が構成元素として前記単結晶の出発原料の全質量に対して0.0002〜0.4質量%含まれる原料を準備する工程を有する、シンチレータ用単結晶の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006327365A JP5087913B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-12-04 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
US11/806,257 US7749323B2 (en) | 2006-05-30 | 2007-05-30 | Single crystal for scintillator and method for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006149677 | 2006-05-30 | ||
JP2006149677 | 2006-05-30 | ||
JP2006327365A JP5087913B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-12-04 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008007393A true JP2008007393A (ja) | 2008-01-17 |
JP5087913B2 JP5087913B2 (ja) | 2012-12-05 |
Family
ID=39065919
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006327365A Active JP5087913B2 (ja) | 2006-05-30 | 2006-12-04 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7749323B2 (ja) |
JP (1) | JP5087913B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5087913B2 (ja) | 2012-12-05 |
US7749323B2 (en) | 2010-07-06 |
US20080089824A1 (en) | 2008-04-17 |
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|
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