JP2007520570A - 新規の自己ドープされた水溶性ポリアニリングラフト共重合体 - Google Patents
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Abstract
本発明はポルリスチレンスルホン酸主鎖にアニリン単量体グラフト化反応させてグラフト共重合されたポリアニリン重合体を含む下記構造式として表示される新規の自己ドープされた水溶性ポリアニリングラフト共重合体およびその製造方法に関する。
本発明のポリアニリングラフト共重合体は、主鎖自体がドーパントの役割と水に溶解する役割を同時に実行するという利点がある。また、主鎖がポリアニリンを枝として付けているため、ポリアニリン同士のマクロ相分離を防止でき、ドーピング・脱ドーピングがpHにより可逆的に生じるという利点を有する。
本発明によって製造された自己ドープされた水溶性伝導性ポリアニリングラフト共重合体は、電磁波遮蔽素材、帯電防止用素材、腐食防止用素材、二次電池電極物質、電気変色素子、センサなどに有用である。
【解決手段】
[構造式]
ポリ(スチレンスルホン酸グラフトアニリン)
【化1】
【選択図】 図1
Description
水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成(主鎖(backbone)の分子量変化)
スチレンスルホン酸ナトリウム5gとBOC−AMS0.5gとを60mlのジメチルスルホキシド(DMSO)に溶かした後、0.01〜0.2gのAIBNを開始剤として用いて、80℃で15時間撹拌した。得られた溶液は過量のアセトンに徐々に滴下して、沈殿物を得た。得られた共重合体はアセトンに数回洗浄した後、24時間の間60℃で真空乾燥した。得られた共重合体はMALDI−TOF質量分析方法で質量を分析した結果、1000〜百万程度の分子量を有するランダム(random)共重合体であることを確認した。
水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成(グレフチングの長さの変化)
スチレンスルホン酸ナトリウム5gとBOC−AMS0.5gとを60mlのDMSOに溶解した後、0.1gのAIBNを開始剤として用いて80℃で15時間撹拌した。得られた溶液は過量のアセトンに徐々に滴下して、沈殿物を得た。得られた共重合体はアセトンに数回洗浄した後、24時間の間60℃で真空乾燥した。アニリングラフト化反応は、温度を0℃に下げた後、アニリン/PSSA−co−AMSのモル比を100〜0.1まで変化させながら、アニリン+PSSA−co−AMSの量は、1gに合わせて30ml水溶液に30分間溶解させた後、酸化剤として過硫酸アンモニウムを用いて重合を進行させた。この時、酸化剤とアニリンの当量は1:1に合わせて実験した。
水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成(グレフチングのサイトの密度変化)
スチレンスルホン酸ナトリウム5gとBOC−AMS0.05〜0.2gとを60mlのDMSOに溶かした後、0.1gのAIBNを開始剤として用いて、80℃で15時間撹拌した。得られた溶液は過量のアセトンに徐々に滴下して、沈殿物を得た。得られた共重合体はアセトンに数回洗浄した後、24時間の間60℃で真空乾燥した。得られた共重合体は1H NMRによって分析した結果、反応物でのBOC−AMSの含有量と生成物(共重合体)でのBOC−AMSの含有量が約一致するのを確認した。
水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成(pH変化)
アニリングラフト化反応は、温度を0℃に下げた後、0.2gのアニリンを0.8gのPSSA−co−AMSが溶解している30ml塩酸水溶液に30分間溶解した後、酸化剤として過硫酸アンモニウム(0.49g)を用いて重合を進行させた。塩酸水溶液の濃度は0.1〜2Mまで変化させながら、実験した。この時、酸化剤とアニリンの当量は1:1に合わせて実験した。6時間の間反応させ、濃い緑色の水溶液を得た。
電気化学重合による水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成
P(SSNa−co−BOC−AMS)試料を白金電極上にスピンコーティングした。ポテンショスタット(EG&G273A)を用い、電極にあらかじめきめたポテンシャルを適用して、P(SSNa−co−BOC−AMS)にアニリンを、電気化学重合によって重合させた。この電気分解で、ディスク−タイプの白金作業電極(直径1cm)と、プレート−タイプの白金反対電極と、及び基準電極として水性の塩化ナトリウムによって飽和させたカロメル電極(SCE)からなる標準3−電極電池を使用した。また、1.0Mの水性の塩化水素をDMF/水の混合溶媒中で電解液として使用した。アニリンを前記 電解液に添加した後、1時間の間N2 ガスを除去した。また、ポテンシャルの範囲は−0.2〜1.0V(vs。SCE)であり、スキャンイング(scanning)の速度は50mV/secであった。
水溶性自己ドープされたポリアニリングラフト共重合体合成(透析などの複雑な工程をなくした簡単な方法)
前記実験方法で透析実験を行わなければならない理由は、重合が終了すれば得られるグラフト共重合体は水に溶解していながら、アセトンで沈殿された時、アセトンに溶解しない酸化剤と反応副産物などがそのまま残っているため、不純物精製過程として透析実験を行った。重合が終了し、反応溶媒内にグラフト共重合体のみ沈殿され、残りの物質は溶媒内に溶解しているのであれば得ようとする生成物をフィルタリングを介して得ることができるという点に着眼して、共溶媒を用いる方法を見つけた。本実験ではアセトニトリルと水の共溶媒とを用い、さまざまな実験を介してアセトニトリル/水(8:2)の比率が最も理想的な倍率であることを見つけ出した。前記共溶媒ではグラフト共重合体の前駆体のP(SSNa−co−BOC−AMS)、その他酸化剤とモノマーも完全に溶解するが、先立って合成されたPSSA−g−PANIは溶解しなかった。
Claims (21)
- 前記ポリアニリングラフト共重合体でアニリンの反復単位の個数は、1〜400個であることを特徴とする請求項1記載のポリアニリングラフト共重合体。
- 前記ポリアニリングラフト共重合体でアニリンの反復単位の個数は4〜32個であることを特徴とする請求項1記載のポリアニリングラフト共重合体。
- 前記ポリアニリングラフト共重合体が自己ドープされた水溶性であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のポリアニリングラフト共重合体。
- 前記ポリアニリングラフト共重合体は、プロトン化ドーピング、または、酸化ドーピング処理をすることなく、4端子法の電気伝導度が1.0×10〜1.2×10-4S/cmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載のポリアニリングラフト共重合体。
- 前記構造式(II)のスチレンスルホン酸とアミノスチレンとの共重合体(P(SSA−co−AMS))は、下記反応式(1)のアミノスチレン(AMS)とジ−tert−ブチルジカルボネート(di-tert-butyl dicarbonate、(BOC)2)とを反応させてtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)を製造し;
下記反応式(2)のtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)とスチレンスルホン酸ナトリウム(SSNa)とを反応させ、tert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)とスチレンスルホン酸ナトリウムとの共重合体(P(SSNa−co−BOC−AMS))を製造した後;
下記反応式(3)のtert−ブトキシカルボニル(BOC)を除去して、ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(P(SSA−co−AMS))を製造することを特徴とする請求項6に記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
[反応式(1)]
- 前記ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(P(SSA−co−AMS))の分子量は、MALDI−TOF質量分析方法によると、1.0x103〜1.0x106であることを特徴とする請求項6記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(P(SSA−co−AMS))とアニリンとのグラフト化反応は、−60〜60℃の温度で行われることを含む請求項6記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- 前記ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(PSSA−co−AMS)100重量部対してアニリンを1〜200部で反応させて、製造することを特徴とする請求項6記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(P(SSA−co−AMS))とアニリンの反応が電気化学的にグラフト重合されることを、さらに含むことを特徴とする請求項6記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- 前記スチレンスルホン酸ナトリウム(SSNa)単量体100重量部基準でtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)単量体1〜20重量部をラディカル重合方法によって、反応させて、スチレンスルホン酸ナトリウムとtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)との共重合体を重合することを特徴とする請求項7記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- スチレンスルホン酸ナトリウムとtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)とをジメチルスルホキシド(DMSO)に溶解させた後、AIBNを開始剤として用いて、スチレンスルホン酸ナトリウムとtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)との共重合体を重合することを特徴とする請求項7又は12記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- アミノスチレンとジ−tert−ブチルジカルボネート(di-tert-butyl dicarbonate)とをジオキサンを溶媒として用いて、水/氷の浴槽で5〜20時間反応させてtert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)を製造することを特徴とする請求項7記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- 前記tert−ブトキシカルボニル−アミノスチレン(BOC−AMS)とスチレンスルホン酸ナトリウムとの共重合体P(SSNa−co−BOC−AMS)の溶媒としてアセトニトリル/水の混合溶媒を用いることを特徴とする請求項7記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- 前記電気化学重合において、作業用電極として、ポリ(スチレンスルホン酸−co−アミノスチレン)(P(SSA−co−AMS))がコーティングされた白金電極、基準電極としては標準カロメル電極、相手電極としては白金線を使用することを特徴とする請求項10記載のポリアニリングラフト共重合体の製造方法。
- 請求項1に記載されたポリアニリングラフト共重合体を有効性分として含む帯電防止制。
- 請求項1に記載されたポリアニリングラフト共重合体を有効性分として含む電磁波遮蔽製品。
- 請求項1に記載されたポリアニリングラフト共重合体を有効性分として含む二次電極材料。
- 請求項1に記載されたポリアニリングラフト共重合体を有効性分として含むコーティング膜。
- 請求項1に記載されたポリアニリングラフト共重合体を有効性分として含むセンサ。
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