JP2009517487A - 自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む有機光電素子用導電性膜組成物及びこれを用いた有機光電素子 - Google Patents

自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む有機光電素子用導電性膜組成物及びこれを用いた有機光電素子 Download PDF

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Abstract

自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む導電性高分子膜組成物及び上記組成物から形成された導電性高分子膜を含む有機光電素子を提供する。本発明の導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体においては、導電性高分子とポリ酸とが化学結合を介して互いに結合される。したがって、本発明の組成物を有機光電素子に適用すると、素子の内部で発生する熱によって生じる脱ドープが起こらない。したがって、本発明は、有機光電素子の効率及び寿命を向上させうる。
【選択図】図1

Description

本発明は、導電性高分子を含む高分子膜組成物及びこれを用いた光電素子に関する。より詳細には、本発明は、光電素子の効率及び寿命特性を向上させうる導電性高分子を含む高分子膜組成物及びこれを用いた光電素子に関する。
光電素子とは、広義で光エネルギーを電気エネルギーに変換する、または逆に、電気エネルギーを光エネルギーに変換する素子を意味し、例えば有機電界発光素子、太陽電池、トランジスタなどが挙げられる。
中でも有機電界発光素子は、フラットパネルディスプレイ(以下、FPDと称する)技術における近年の発展に伴って大きな注目を浴びている。
現在、FPDの中で最も大きなシェアを有する液晶ディスプレイ(LCD)は、関連する技術の画期的な発展によって、FPD市場の80%以上を占めている。しかしながら、このようなLCDは40インチ以上の大画面でみられる応答速度の低下、狭い視野角などの重大な欠点があり、このような欠点を克服するために新しいディスプレイの開発が要求されている。
このような状況下で、有機電界発光(EL)ディスプレイは、FPDの中でも低電圧で駆動できること、自発光、薄膜型、広い視野角、速い応答速度、高いコントラスト、経済性などの利点を含め、次世代FPDに要求される全ての条件を満たす唯一のディスプレイ方式として非常に注目されている。
現在、このような有機電界発光(EL)素子を含む光電素子の分野では、電極から生成される電荷、すなわち、正孔及び電子を光電素子内に円滑に輸送することによって素子の効率を増大させる目的で、導電性高分子膜の形成についての集中的な、及び広範囲の研究が行われている。
特に、有機電界発光(EL)素子は、蛍光性またはリン光性の有機化合物薄膜(以下、有機膜と称する)に電流を流すと、電子と正孔とが有機膜中で結合して光が発生する現象を用いた能動発光型ディスプレイである。素子の効率の向上及び駆動電圧の低下を達成するために、このような有機電界発光(EL)素子は、通常、有機層として単一の発光層のみを使用するのではなく、導電性高分子を含有する正孔注入層、発光層、および電子注入層などを含む多層構造を有する。
さらに、このような多層構造を、1つの層が多機能を行うように作製し、それぞれの対応する層を除くことによって単純化することができる。EL素子の最も簡単な構造は、2つの電極と、その間に配置される発光を含む全ての機能を行う有機層とで構成される。
しかしながら、事実上、素子の輝度を増加させるには、電子注入層または正孔注入層が電界発光アセンブリに導入されなければならない。
電荷(正孔及び/または電子)輸送特性を有する数多くの有機化合物が、知られており、多くの科学雑誌および文献に記載されている。この種の物質及び用途の概要は、例えば、欧州特許公開第387715号、米国特許第4539507号、米国特許第4720432号及び米国特許第4769292号に開示されている。
特に、現在、溶解性(soluble)有機ELに使用されている代表的な電荷輸送性の有機化合物としては、バイトロン−P(Baytron−P)という製品名でバイエル・アクチエンゲゼルシャフト(Bayer AG社)から市販されているポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)−ポリ(4−スチレンスルホン酸)(PSS)水溶液がある。これは、有機EL素子の作成においてインジウムスズ酸化物(ITO)電極上にスピンコーティングによって正孔注入層を形成するために広く用いられている。正孔注入材料であるPEDOT−PSSは、下記化学式1の構造を有する。
ポリ酸(polyacid)であるポリ(4−スチレンスルホン酸)(PSS)を導電性高分子であるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)にドープした導電性高分子組成物であるPEDOT/PSSを用いて正孔注入層を形成しようとする場合、PEDOT/PSSは水分をよく吸収するため、水分除去を必要とする場合には使用が困難である。また、導電性高分子はPSS高分子鎖にドープされているだけなので、PEDOT/PSSは素子内の発熱によって脱ドープされ、結果として安定な素子の作製が困難になる。さらに、単にPEDOTにドープされているPSSは、電子との反応によって分解され、これによってサルフェート(Sulfate)などの物質を放出し、これが隣接する有機膜(例えば、発光層)中に拡散しうる。このような正孔注入層に由来する物質の発光層への拡散は、エキシトン消滅(exciton quenching)を引き起こし、有機電界発光素子の効率及び寿命の低下を招く。さらに、PEDOT/PSSは、導電性高分子の割合を制御しにくいため、同一の特性を有する高分子を得るのは困難である。
したがって、効率及び寿命の高い有機電界発光素子のような光電素子を得るためには、新規の導電性高分子及びその組成物の開発がますます必要とされている。
したがって、本発明は上記の問題点を解決するためのもので、電子との反応により分解される残基の含量が少なく、導電性高分子の割合を調節することによって導電率及び仕事関数を調節でき、水と極性溶媒に溶解性である、自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む導電性高分子膜組成物を提供することを目的とする。
本発明の他の目的は、上記組成物を含有する導電性高分子膜及び該導電性高分子膜を含む有機光電素子を提供することにある。
本発明の一形態によれば、上記の目的および他の目的は、導電性高分子と溶媒とを含む有機光電素子用導電性膜組成物であって、下記化学式2で表される自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む、有機光電素子用導電性膜組成物を提供することによって達成されうる。
式中、Aは、置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群より選択され、
Bは、イオン基、またはイオン基を含む基を表し、この際、前記イオン基は、陰イオンと陽イオンとの共役であり、前記陰イオンは、PO 2−、SO 、COO、I、CHCOOから選択され、前記陽イオンは、Na、K、Li、Mg+2、Zn+2、Al+3のような金属イオンまたはH、NH 、CH(−CH−)(nは、1〜50の整数)のような有機イオンから選択され、
Cは、−O−;−S−;−NH−;置換または非置換のC−C30のアルキレン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキレン基;置換または非置換のC−C30のアリーレン基;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群より選択され、
Dは、置換もしくは非置換のアニリン、置換もしくは非置換のピロール、置換もしくは非置換のチオフェン、またはこれらの共重合体を表し、
m、n、およびaは、各単量体のモル分率を表し、0<m≦10,000,000であり、0≦n<10,000,000であり、0<a/n<1であり、aは3〜100の整数である。
本発明の他の形態によれば、上記の有機光電素子用導電性膜組成物を含む有機光電素子用導電性膜が提供される。
本発明のさらに他の形態によれば、上記有機光電素子用導電性膜を含む有機光電素子が提供される。
上記の説明から明らかなように、本発明による導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体は、電子との反応により分解される残基の含量が少ない。また、本発明による導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体は、水だけでなく極性有機溶媒に溶解する。したがって、本発明による組成物を含む導電性高分子膜は、隣接する膜との関係において安定したモルフォロジを維持でき、エキシトン消滅のような問題を生じない。
また、本発明による導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体においては、ポリ酸と導電性高分子とが化学結合を介して互いに結合している。したがって、このようなグラフト共重合体が有機光電素子に適用される場合、熱安定性に優れるため、素子作動時に脱ドープを示さない。したがって、前記導電性高分子のグラフト共重合体を含む有機光電素子は安定であり、高効率である。
さらに、本発明による導電性高分子膜組成物に含まれる導電性高分子のグラフト共重合体においては、導電性高分子の割合を任意に調節できるので、有機光電素子に適用される高分子膜の導電率及び仕事関数を調節することが可能である。
図面の簡単な説明
本発明の上記の目的および他の目的、特徴、ならびに利点は、以下の詳細な説明と図面とを参照して、より明確に理解できるであろう。図1〜4は、本発明の実施例で製造された有機電界発光素子の積層構造を示す断面図である。
図5は、本発明の実施例及び比較例で製造された有機電界発光素子の効率特性を示すグラフである。
以下、本発明をより詳細に説明する。
はじめに、本発明は、下記化学式2で表されるポリ酸を含む導電性高分子のグラフト共重合体を提供する。
化学式2中、Aは、炭素系であり、置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択される。
上記化学式2中、Bは、イオン基、または、イオン基を含む基を表す。ここで、前記イオン基は、陰イオンと陽イオンとの共役からなる。前記陰イオンの例としては、PO 2−、SO 、COO、I、およびCHCOOが挙げられ、前記陽イオンの例としては、Na、K、Li、Mg+2、Zn+2、およびAl+3のような金属イオンまたはH、NH 、およびCH(−CH−)(nは、1〜50の整数である)のような有機イオンが挙げられる。
上記化学式2中、Cは、導電性高分子を主鎖に連結するリンカーとしてはたらき、−O−;−S−;−NH−;置換または非置換のC−C30のアルキレン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキレン基;置換または非置換のC−C30のアリーレン基;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択される。
上記化学式2中、Dは、導電性高分子の単量体を表し、下記化学式3で表される置換もしくは非置換のアニリン、下記化学式4で表される置換もしくは非置換のピロール/置換もしくは非置換のチオフェン、または、これらの共重合体でありうる。特に、Dがピロールまたはチオフェンである場合には、置換基は、好ましくは、下記化学式4に示すように、3位および4位に存在する。
化学式3または4において、Xは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、または、O、S、もしくはPなどのヘテロ原子でありうる。R、R、R、およびRはそれぞれ独立して、水素;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択される。
Dがピロールまたはチオフェンであり、3位および4位に置換基がない場合、3位および4位で重合が起こる。これを防ぐために、RおよびRに、水素以外の置換基が必ず存在することが好ましい。ここで、RおよびRに存在する置換基としては、NH;C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、Sまたは炭化水素;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基、およびこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される。
好ましくは、Dは、下記化学式5に示すように、RがRに結合して環を形成する構造でありうる。
式中、Xは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、SもしくはPなどのヘテロ原子であり、
Yは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、Sまたは炭化水素であり、
Zは、−(CH−CR−(CHであり、この際、R及びRはそれぞれ独立して、H、置換もしくは非置換のC−C20のアルキルラジカル、C−C14のアリールラジカルまたは−CH−ORであり、Rは、HまたはC−Cのアルカン酸、C−Cのアルキルエステル、C−Cのヘテロアルカン酸、C−Cのアルキルスルホン酸であり、x及びyはそれぞれ独立して0〜9の整数である。
上記化学式2中、m、n、aは、各単量体のモル分率を表し、0<m≦10,000,000であり、0≦n<10,000,000であり、0<a/n<1である。ここで、導電性高分子の単量体であるDの繰り返し単位は、ポリ酸のイオン基であるBの割合に対して、0.0001≦a/n<0.8であることが好ましく、溶解性及び光電素子に必要な導電率の観点から、0.01≦a/n≦0.5であることがより好ましい。また、aは3〜100の整数であり、好ましくは、4〜15の整数である。
本発明による導電性高分子のグラフト共重合体は、上記化学式2で表される重合体であれば特に制限されないが、下記化学式6で表されるポリアニリングラフト共重合体であるPSS−g−PANIまたは下記化学式7で表されるポリ−3,4−エチレンジオキシピロールグラフト共重合体であるPSS−g−PEDOPが特に好ましい。
本発明による導電性高分子のグラフト共重合体は、電子との反応により分解されうる残基の含量が少ないので安定であり、導電性高分子とポリ酸とが化学結合を介して互いに結合しているので脱ドープを示さない。
本発明で用いられる置換基として、直鎖または分岐のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、iso−アミル基、へキシル基が挙げられ、前記アルキル基に含まれる一つ以上の水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基(例えば、−NH、−NH(R)、および−N(R')(R'');R’およびR''は独立してC1−10のアルキル基である)、アミジノ基、ヒドラジン基、または、ヒドラゾン基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「ヘテロアルキル」の用語は、アルキルの主鎖に存在する1以上の炭素原子、好ましくは、1〜5個の炭素原子が酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン原子などのヘテロ原子で置換されたアルキルを意味する。
本明細書中、置換基としての「アリール」の用語は、1以上の芳香環を含む炭素環芳香族系を意味し、これらの環は、ペンダント式に互いに結合していてもよく、融合(fused)していてもよい。アリールの具体例としては、フェニル、ナフチル、およびテトラヒドロナフチルなどの芳香族基が挙げられ、アリール基に含まれる1以上の水素原子が、アルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「ヘテロアリール」の用語は、N、O、P及びSから選択されるヘテロ原子を1、2または3個含み、残りの環原子が炭素原子である、5〜30員の環状芳香族系を意味し、これらの環は、ペンダント式に互いに結合していてもよく、融合していてもよい。さらに、ヘテロアリールの1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「アルコキシ」の用語は、−O−アルキルラジカルを意味し、ここでアルキルは上記で定義した通りである。アルコキシの具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、iso−アミルオキシ、へキシルオキシが挙げられ、アルコキシ基の1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「アリールアルキル」の用語は、上記で定義したアリールの水素原子の一部が、メチル、エチル、およびプロピルなどの低アルキルラジカルで置換されたアルキルを意味する。例えば、ベンジルおよびフェニルエチルが挙げられる。アリールアルキルに存在する1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「ヘテロアリールアルキル」の用語は、ヘテロアリールの水素原子の一部が低アルキル基で置換されたアルキルを意味し、ヘテロアリールは上記で定義した通りである。ヘテロアリールアルキルの1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「アリールオキシ」の用語は、−O−アリールラジカルを意味し、アリールは上記で定義した通りである。アリールオキシの具体例としては、フェノキシ、ナフトキシ、アントラセニルオキシ、フェナントレニルオキシ、フルオレニルオキシ、およびインデニルオキシが挙げられる。ここで、アリールオキシに存在する1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「ヘテロアリールオキシ」の用語は、−O−ヘテロアリールラジカルを意味し、ヘテロアリールは、上記で定義した通りである。
具体的には、本明細書で用いられるヘテロアリールオキシとしては、例えば、ベンジルオキシおよびフェニルエチルオキシが挙げられ、その1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「シクロアルキル」の用語は、5〜30の炭素原子を含む1価の単環系を意味する。シクロアルキルに存在する1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「ヘテロシクロアルキル」の用語は、N、O、P及びSから選択される1、2または3個のヘテロ原子を含み、残りの環原子が炭素原子である5〜30員の1価の単環系を意味する。シクロアルキルに存在する1以上の水素原子がアルキル基の場合と同様の置換基で置換されていてもよい。
本明細書中、置換基としての「アミノ」の用語は、−NH、−NH(R)または−N(R')(R'')を意味する。ここでR’およびR''はそれぞれ独立してC1−10のアルキルである。
本発明で用いられうるハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素、またはアスタチンが好ましい。特に好ましくはフッ素である。
本発明は、自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体および溶媒を含む導電性高分子膜組成物、より好ましくは、有機光電素子用導電性膜組成物を提供する。ここで、用いられる溶媒は、上記導電性高分子のグラフト共重合体を溶解しうるものであれば特に制限されないが、水または極性有機溶媒が特に好ましい。前記極性有機溶媒としては、アルコール、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド、トルエン、キシレン、およびクロロベンゼンが好ましい。
本発明による導電性高分子膜組成物において、導電性高分子のグラフト共重合体は溶媒に溶解させて使用することができるので、上記グラフト共重合体を使用する光電素子は、長い寿命を示しうる。また、本発明による導電性高分子のグラフト共重合体は、極性有機溶媒に特に溶解性が高い。したがって、これを光電素子に適用すると、隣接する有機膜、例えば、有機電界発光素子の場合では、非極性溶媒に溶解させて使用する発光層との関係において膜の損傷を防止することができ、また、水を使用できない場合に特に有用でありうる。
本発明による導電性高分子膜組成物においては、導電性高分子のグラフト共重合体の含量は、好ましくは0.5〜10重量%であり、溶媒の含量は、好ましくは90〜99.5重量%である。
一方、本発明による導電性高分子膜組成物は、導電性高分子のグラフト共重合体の架橋能をさらに向上させる目的で架橋剤をさらに含んでもよい。前記架橋剤は、物理架橋剤、または化学架橋剤、またはこれらの混合物でありうる。
ここで、物理架橋剤は、化学結合をせずに物理的に高分子鎖間を架橋する働きをし、ヒドロキシル基(−OH)を含む低分子量または高分子量の化合物を意味する。物理架橋剤の具体例としては、グリセロールおよびブタノールなどの低分子量化合物、ならびにポリビニルアルコールおよびポリエチレングリコールなどの高分子量化合物が挙げられる。さらに、ポリエチレンイミン(polyethyleneimine)、ポリビニルピロリドン(polyvinylpyrolidone)などもまた物理架橋剤として採用されうる。
ここで、物理架橋剤の含量は、導電性高分子のグラフト共重合体100重量部に対して、好ましくは0.001〜5重量部であり、より好ましくは、0.1〜3重量部である。
一方、化学架橋剤は、高分子鎖間を化学的に架橋させる役割を担い、その場重合(in−situ polymerization)の実施が可能であり、相互貫入高分子網目(IPN)を形成できる化合物を意味する。化学架橋剤としてはシラン系材料が特に用いられ、その具体例としては、テトラエチルオキシシラン(TEOS)が挙げられる。加えて、ポリアジリジン(Polyaziridine)、メラミン系材料、エポキシ系材料、およびこれらの任意の組み合わせが化学架橋剤として用いられうる。
ここで、化学架橋剤の含量は、導電性高分子のグラフト共重合体100重量部に対して、好ましくは0.001〜50重量部であり、より好ましくは、1〜10重量部である。
さらに、本発明はまた、上記導電性高分子膜組成物を含む導電性高分子膜及びこれを含む有機光電素子を提供する。
このように、本発明による導電性高分子膜組成物は、有機光電素子に採用され、これによって素子の寿命特性及び効率特性を向上させることができる。本発明による導電性高分子膜組成物が適用されうる有機光電素子としては、有機電界発光素子、有機太陽電池、有機トランジスタ、および有機メモリ素子が好ましい。
特に、有機電界発光素子においては、上記導電性高分子組成物が電荷注入層、すなわち、正孔注入層または電子注入層に用いられ、これによって発光高分子へ正孔及び電子がバランスよく効率的に注入されるようになり、ひいては有機電界発光素子の発光強度と効率とを高める役割を果たす。
さらに、本発明による導電性高分子膜組成物はまた、有機太陽電池の電極または電極バッファー層として用いられ、これによって量子効率が改善される。一方、有機トランジスタのゲート、ソース−ドレイン電極などの電極材料として用いられうる。
上記の有機光電素子のうち、本発明による導電性高分子膜組成物を用いた有機電界発光素子の構造及びその製造方法を以下に説明する。
はじめに、図1〜4は、本発明の好ましい実施例によって調製された有機電界発光素子の積層構造を概略的に示す断面図である。
図1の有機電界発光素子を参照すると、第1電極10の上部に発光層12が積層され、前記第1電極10と発光層12との間に、本発明の導電性高分子組成物を含む正孔注入層(HIL)(「バッファー層」とも称する)11が積層され、前記発光層12の上部に正孔阻止層(HBL)13が積層され、前記正孔阻止層(HBL)13の上部に第2電極14が形成される。
図2の有機電界発光素子は、発光層12の上部に、正孔阻止層(HBL)13の代わりに電子輸送層(ETL)15が形成されていることを除いては、図1と同様の積層構造を有する。
図3の有機電界発光素子は、発光層12の上部に形成された正孔阻止層(HBL)13の代わりに、正孔阻止層(HBL)13と電子輸送層(ETL)15とが順次積層された2層が用いられていることを除いては、図1と同様の積層構造を有する。
図4の有機電界発光素子は、正孔注入層11と発光層12との間に正孔輸送層16がさらに形成されていることを除いては、図3の有機電界発光素子と同様の積層構造を有する。この場合、正孔輸送層16は、正孔注入層11から発光層12への不純物侵入を阻止する役割を果たす。
図1〜4の積層構造を有する有機電界発光素子は、公知の通常の製造方法によって作製されうる。
すなわち、はじめに、基板(図示せず)の上部に、パターニングされた第1電極10を形成する。ここで、基板としては、通常の有機電界発光素子に用いられるものが採用されうる。例えば、透明性、表面平滑性、取扱い容易性及び防水性に優れたガラス基板または透明プラスチック基板が好ましい。前記基板の厚さは、好ましくは、0.3〜1.1mmである。
第1電極10の形成に用いられる材料は、特に制限されない。第1電極が陽極である場合、前記陽極は、正孔注入の容易な導電性金属またはその酸化物から形成される。このような材料の具体例としては、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、金(Au)、およびイリジウム(Ir)が挙げられる。
第1電極10が形成された基板を洗浄し、その後、UVおよびオゾン処理を実施する。洗浄は、イソプロパノール(IPA)およびアセトンなどの有機溶媒を使用して行われる。
洗浄された基板の第1電極10の上部に、本発明の導電性高分子組成物を含む正孔注入層11を形成する。正孔注入層11を形成すると、第1電極10と発光層12との間の接触抵抗を減少させ、同時に第1電極10の発光層12への正孔輸送能が向上し、素子の駆動電圧と寿命とが改善される効果が得られうる。
正孔注入層11は、本発明の導電性高分子のグラフト共重合体を溶媒に溶解させて調製した正孔注入層形成用組成物を、第1電極10の上部にスピンコーティングした後、乾燥させて形成することができる。ここで、前記正孔注入層形成用組成物は、本発明による導電性高分子のグラフト共重合体のうち、導電性高分子の含量比が1:1〜1:30の重量比であるグラフト共重合体を、水またはアルコールに固形分含量0.5〜10重量%になるように溶解させて使用される。
本発明で用いられうる溶媒は、本発明の導電性高分子組成物を溶解させられるものであれば特に制限されない。前記溶媒の具体例としては、水、アルコール、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド、トルエン、キシレン、およびクロロベンゼンが挙げられる。
ここで、正孔注入層11の厚さは、5nm〜200nmでありうる。好ましくは、20nm〜100nmである。特には、50nmの厚さが用いられうる。
次に、正孔注入層11の上部に発光層12を形成する。発光層を構成する材料は特に制限されない。より具体的には、これらの材料として、オキサジアゾールダイマー色素(例えばBis−DAPOXP)、スピロ化合物(例えばSpiro−DPVBi、Spiro−6P)、トリアリールアミン化合物、ビス(スチリル)アミン(例えばDPVBi、DSA)、Flrpic、CzTT、アントラセン、TPB、PPCP、DST、TPA、OXD−4、BBOTおよびAZM−Zn(青色発光);クマリン6、C545T、キナクリドンおよびIr(ppy)(緑色発光);DCM1、DCM2、Eu(テノイルトリフルオロアセトン)3(Eu(TTA)3)、およびブチル−6−(1,1,7,7−テトラメチルジュロリジル−9−エニル)−4H−ピラン)(DCJTB)(赤色発光)が着目される。また、高分子発光材料としては、フェニレン系、フェニレンビニレン系、チオフェン系、フルオレン系及びスピロフルオレン系高分子ならびに窒素含有芳香族化合物が挙げられるが、これらに限定されない。
発光層12の厚さは、10nm〜500nmであり、好ましくは50nm〜120nmである。特に好ましくは、青色発光層の厚さは70nmでありうる。発光層の厚さが10nm未満であると、漏れ電流が増加し、これによって素子の効率及び寿命が低下しうる。一方、層の厚さが500nmを超過すると、作動電圧が高くなり望ましくない。
必要に応じて、上記発光層形成用組成物にドーパントをさらに加えても良い。ドーパントの含量は、発光層形成に用いられる材料によって変化しうるが、発光層形成材料(ホストおよびドーパントの総重量)100重量部を基準にして30〜80重量部であることが好ましい。ドーパントの含量が上記の範囲から外れると、EL素子の発光特性が低下する場合があり望ましくない。ドーパントの具体例としては、アリールアミン、ペリル化合物、ピロール化合物、ヒドラゾン化合物、カルバゾール化合物、スチルベン化合物、スターバースト化合物、およびオキサジアゾール化合物が挙げられる。
さらに正孔注入層11と発光層12との間に、任意で正孔輸送層16を形成してもよい。
正孔輸送層を構成する材料は特に制限されないが、このような材料の例としては、正孔輸送を行うことができるカルバゾール基及び/またはアリールアミン基を有する化合物、フタロシアニン化合物及びトリフェニレン誘導体からなる群から選択される1以上の材料が挙げられる。より具体的には、前記正孔輸送層は、1,3,5−トリカルバゾリルベンゼン、4,4'−ビスカルバゾリルビフェニル、ポリビニルカルバゾール、m−ビスカルバゾリルフェニル、4,4'−ビスカルバゾリル−2,2'−ジメチルビフェニル、4,4',4''−トリ(N−カルバゾリル)トリフェニルアミン、1,3,5−トリ(2−カルバゾリルフェニル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−カルバゾリル−5−メトキシフェニル)ベンゼン、ビス(4−カルバゾリルフェニル)シラン、N,N'−ビス(3−メチルフェニル)−N,N'−ジフェニル−[1,1−ビフェニル]−4,4'ジアミン(TPD)、N,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニルベンジジン(α−NPD)、N,N'−ジフェニル−N,N'−ビス(1−ナフチル)−(1,1'−ビフェニル)−4,4'−ジアミン(NPB)、IDE320(出光社製)、ポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−co−N−(4−ブチルフェニル)ジフェニルアミン)(TFB)及びポリ(9,9−ジオクチルフルオレン−co−ビス−N,N−フェニル−1,4−フェニレンジアミン(PFB)からなる群から選択される1以上の材料から作製されうるが、これらに限定されない。
正孔輸送層は、1nm〜100nmの厚さであってよく、好ましくは、5nm〜50nmである。30nm未満の厚さが特に好ましい。正孔輸送層の厚さが1nm未満であると、薄すぎてその正孔輸送能が低下しうる。一方、正孔輸送層の厚さが100nmを超過すると、作動電圧が上昇しうる。
次に、前記発光層12の上部に、正孔阻止層13及び/または電子輸送層15を蒸着(deposition)またはスピンコーティングによって形成する。ここで、正孔阻止層13は、発光材料から生成したエキシトンの電子輸送層15への移動を阻止する、または正孔の電子輸送層15への移動を阻止する役割を果たす。
正孔阻止層13の形成に用いられうる材料としては、フェナントロリン化合物(例えばBCP;UDC社から入手可能)、イミダゾール化合物、トリアゾール化合物、オキサジアゾール化合物(例えばPBD)、アルミニウム錯体(UDC社から入手可能)、およびBAlqが好ましい。
電子輸送層15の形成に用いられうる材料としては、例えば、オキサゾール化合物、イソオキサゾール化合物、トリアゾール化合物、イソチアゾール化合物、オキサジアゾール化合物、チアジアゾール化合物、ペリレン化合物、アルミニウム錯体(例えば、Alq3(トリス(8−キノリノラト)−アルミニウム)、BAlq、SAlq、Almq3)、およびガリウム錯体(例えば、Gaq'2OPiv、Gaq'2OAc、および2(Gaq'2))が好ましい。
正孔阻止層の厚さは、好ましくは5nm〜100nmであり、電子輸送層の厚さは、好ましくは5nm〜100nmである。正孔阻止層および電子輸送層の厚さが上記範囲から外れると、電子輸送能および正孔阻止能の観点で好ましくない。
続いて、第2電極14を得られた構造の上に形成し、その後封止して有機電界発光素子を調製する。
第2電極14の形成に用いる材料は特に制限されないが、前記電極は、Li、Cs、Ba、Ca、Ca/Al、LiF/Ca、LiF/Al、BaF/Ca、Mg、Ag、Alなどの比較的仕事関数の小さい金属、またはこれらの合金もしくはこれらの多層を用いて形成することが好ましい。第2電極14の厚さは、好ましくは、50〜3000Åである。
実施例1:自己ドープ型ポリアニリングラフト共重合体の調製
シグマアルドリッチ社から購入したアニリン0.2gを、下記化学式8で表されるランダム共重合体P(SSA−co−AMS)0.8gを溶解させた30mlの塩酸水溶液に、0℃で30分間溶解させた。その後、酸化剤として過硫酸アンモニウム0.49gを使用して重合した。この時、0.1〜2Mの塩酸水溶液が適用されうる。酸化剤:アニリンの当量比は1:1〜2:1でありうる。6時間後、暗緑色の水溶液を得た。重合完了後、得られた混合溶液にアセトニトリル/水(8:2)の混合溶媒を加え、下記化学式6で表されるポリアニリングラフト共重合体PSS−g−PANIを沈殿させた。その後、得られた共重合体を30℃の真空オーブンで24時間完全に乾燥させた。
実施例2:自己ドープ型ポリアニリン共重合体の調製(グラフト長さの変化)
アニリングラフト反応を以下のように行った。反応温度を0℃に下げ、アニリン+PSSA−co−AMSの量を1gに調整し、アニリン/PSSA−co−AMSのモル比を100〜0.1まで変化させた。次いで、このようにして得られた1gのアニリン+PSSA−co−AMSを、30mLの塩酸水溶液に30分間溶解させ、得られた溶液を、酸化剤として過硫酸アンモニウムを使用して重合を行った。ここで、酸化剤:アニリンの当量比は1:1に調整した。重合完了後、得られた混合溶液にアセトニトリル/水(8:2)の混合溶媒を加え、上記化学式6で表されるポリアニリングラフト共重合体PSS−g−PANIを沈殿させた。
得られたグラフト共重合体中のアニリンの個数は実験条件に依存して、平均して1〜400アニリン残基の長さの変化を示した。得られた共重合体を30℃の真空オーブンで24時間完全に乾燥させた。
実施例3:自己ドープ型ポリ−3,4−エチレンジオキシピロールグラフト共重合体の調製
下記化学式9で表される3,4−エチレンジオキシピロール(EDOP、シグマアルドリッチ社製)を用いて、下記化学式10で表されるランダム共重合体であるP(SSA−co−EDOP)を公知の方法(Macromolecules、2005、48、1044−1047参照)によって合成した。0.2gのEDOPを、0.8gのランダム共重合体P(SSA−co−EDOP)を溶解させた30mlの塩酸水溶液に、0℃、30分間で滴下して添加し、その後、酸化剤として過硫酸アンモニウム0.49gを使用して重合した。この時、0.1〜2Mの塩酸水溶液が適用されうる。酸化剤:アニリンの当量比は1:1〜2:1でありうる。6時間後、濃青色の水溶液を得た。重合完了後、得られた混合溶液にアセトニトリル/水(8:2)混合溶媒を加え、下記化学式7で表されるポリピロールグラフト共重合体PSS−g−PEDOPを沈殿させた。その後、得られた共重合体を30℃の真空オーブンで24時間完全に乾燥させた。
実施例4:導電性高分子膜組成物の調製(1)
実施例1で調製されたポリアニリングラフト共重合体PSS−g−PANI 1.5重量%を溶媒(例えばアルコール)98.5重量%に溶解させ、本発明による導電性高分子膜組成物を調製した。
実施例5:導電性高分子膜組成物の調製(2)
実施例2で調製された、アニリンの割合が異なるポリアニリングラフト共重合体を使用したことを除いては、上記実施例4と同様の手法で導電性高分子膜組成物を調製した。
実施例6:導電性高分子膜組成物の調製(3)
上記実施例3で調製された自己ドープ型ポリ−3,4−エチレンジオキシピロールグラフト共重合体を使用したことを除いては、上記実施例4と同様の手法で導電性高分子膜組成物を調製した。
実施例7:有機電界発光素子の作製(1)
コーニング(Corning)15Ω/cm(1200Å)のIZOガラス基板を50mm×50mm×0.7mmのサイズにカットし、イソプロピルアルコールおよび純水中でそれぞれ5分間ずつ超音波洗浄した後、30分間UV/オゾン洗浄した。
前記基板の上部に、実施例4で調製された導電性高分子膜組成物をスピンコーティングし、50nm厚の正孔注入層を形成した。前記正孔注入層の上部にPFB(正孔輸送材料、Dow Chemical社製から入手可能な製品)をスピンコーティングし、10nm厚の正孔輸送層を形成した。
前記正孔輸送層の上部に青色発光材料であるスピロフルオレン系発光高分子を用いて70nm厚の発光層を形成した後、前記発光層の上部にBaFを蒸着して4nm厚の電子注入層を形成した。前記電子注入層の上部に第2電極としてカルシウム(Ca)およびアルミニウム(Al)をそれぞれ2.7nmおよび250nmの厚さに蒸着し、有機電界発光素子(以下、サンプルCと称する)を作製した。
実施例8:有機電界発光素子の作製(2)
正孔注入層を形成する材料として、実施例5で調製されたアニリンの割合が異なる導電性高分子膜組成物を用いたことを除いては、実施例7と同様の手法で有機電界発光素子(以下、サンプルDと称する)を作製した。
比較例1:有機電界発光素子の作製
正孔注入層を形成しなかったことを除いては、実施例7と同様の手法で有機電界発光素子(以下、サンプルAと称する)を作製した。
比較例2:有機電界発光素子の作製
正孔注入層を形成する材料として、PEDOT/PSSの水溶液(Baytron−P 4083、バイエル社製)を用いたことを除いては、実施例7と同様の手法で有機電界発光素子(以下、サンプルBと称する)を作製した。
実験例1:効率特性評価
実施例7および8ならびに比較例1および2で作製したそれぞれのサンプルA、B、C及びDの発光効率を、SpectraScan PR650スペクトロラジオメータを用いて測定した。
その結果、サンプルA、B、C、およびDは、それぞれ、0.06cd/A、7cd/A、6cd/A、および10cd/Aの効率を示した。したがって、本発明による有機電界発光素子は、約40%高い効率を達成した。
したがって、本発明による導電性高分子膜組成物で形成された正孔注入層を含む有機電界発光素子が優れた発光効率を与えることがわかる。
本発明の好ましい実施形態は、説明のために開示されたものであり、当業者であれば、特許請求の範囲に開示される本発明の範囲および精神から逸脱することなく、さまざまな修正、付加、および置換が可能であることが理解できるであろう。
本発明の実施例によって製造される有機電界発光素子の積層構造を示す断面図である。 本発明の実施例によって製造される有機電界発光素子の積層構造を示す断面図である。 本発明の実施例によって製造される有機電界発光素子の積層構造を示す断面図である。 本発明の実施例によって製造される有機電界発光素子の積層構造を示す断面図である。 本発明の実施例及び比較例によって製造される有機電界発光素子の効率特性を示すグラフである。

Claims (17)

  1. 導電性高分子と溶媒とを含む有機光電素子用導電性膜組成物であって、下記化学式2で表される自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体を含む、有機光電素子用導電性膜組成物:
    式中、Aは、置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択され、
    Bは、イオン基、またはイオン基を含む基を表し、この際、前記イオン基は、陰イオンと陽イオンとの共役であり、前記陰イオンは、PO 2−、SO 、COO、I及びCHCOOから選択され、前記陽イオンは、Na、K、Li、Mg+2、Zn+2、およびAl+3のような金属イオンまたはH、NH 、CH(−CH−)(nは、1〜50の整数である)のような有機イオンから選択され、
    Cは、−O−;−S−;−NH−;置換または非置換のC−C30のアルキレン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキレン基;置換または非置換のC−C30のアリーレン基;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択され、
    Dは、置換もしくは非置換のアニリン、置換もしくは非置換のピロール、置換もしくは非置換のチオフェン、またはこれらの共重合体を表し、
    m、n、およびaは、各単量体のモル分率を表し、0<m≦10,000,000であり、0≦n<10,000,000であり、0<a/n<1であり、aは3〜100の整数である。
  2. 前記aは、4〜15の整数である、請求項1に記載の組成物。
  3. 0.0001≦a/n<0.8である、請求項1に記載の組成物。
  4. 前記Dは、下記化学式3で表されるアニリンまたは下記化学式4で表され、3位および4位に置換基を有するピロールもしくはチオフェンである、請求項1に記載の組成物:
    式中、Xは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、S、もしくはPのようなヘテロ原子であり、
    、R、R、およびRはそれぞれ独立して水素;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;及び、置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基からなる群から選択され、
    、およびRは、水素以外の置換基を有し、前記R、およびR上に存在する置換基は、NH;C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、S、または炭化水素;置換または非置換のC−C30のアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリール基;置換または非置換のC−C30のアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルコキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のアリールオキシ基;置換または非置換のC−C30のアリールアミン基;置換または非置換のC−C30のピロール基;置換または非置換のC−C30のチオフェン基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリール基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールオキシ基;置換または非置換のC−C20のシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のヘテロシクロアルキル基;置換または非置換のC−C30のアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアルキルエステル基;置換または非置換のC−C30のアリールエステル基;置換または非置換のC−C30のヘテロアリールエステル基、およびこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される。
  5. 前記Dは、下記化学式5で表される単量体である、請求項1に記載の組成物:
    式中、Xは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、S、もしくはPのようなヘテロ原子であり;
    Yは、NH、C−C20のアルキルもしくはC−C20のアリール置換基が結合したN、またはO、S、または炭化水素であり;
    Zは、−(CH−CR−(CHであり、この際、R及びRはそれぞれ独立してH、置換もしくは非置換のC−C20のアルキルラジカル、C−C14のアリールラジカルまたは−CH−ORであり、Rは、HまたはC−Cのアルカン酸、C−Cのアルキルエステル、C−Cのヘテロアルカン酸、またはC−Cのアルキルスルホン酸であり、
    x及びyはそれぞれ独立して0〜9の整数である。
  6. 前記自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体は、下記化学式6で表されるポリアニリングラフト共重合体PSS−g−PANI、または、下記化学式7で表されるポリ−3,4−エチレンジオキシピロールグラフト共重合体PSS−g−PEDOPである、請求項1に記載の組成物。
  7. 前記自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体の含量が0.5〜10重量%である、請求項1に記載の組成物。
  8. 前記溶媒は、水、アルコール、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、およびこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される、請求項1に記載の組成物。
  9. 架橋剤をさらに含む、請求項1に記載の組成物。
  10. 前記架橋剤は、物理架橋剤、化学架橋剤、またはこれらの混合物である、請求項9に記載の組成物。
  11. 前記物理架橋剤は、グリセロール、ブタノール、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンイミン及びポリビニルピロリドンからなる群から選択される化合物である、請求項10に記載の組成物。
  12. 前記物理架橋剤の含量は、前記自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体100重量部に対して0.001〜5重量部である、請求項10に記載の組成物。
  13. 前記化学架橋剤の含量は、前記自己ドープ型導電性高分子のグラフト共重合体100重量部に対して0.001〜50重量部である、請求項10に記載の組成物。
  14. 前記化学架橋剤は、テトラエチルオキシシラン(TEOS)、ポリアジリジン、メラミン系材料、エポキシ系材料、およびこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される化合物である、請求項10に記載の組成物。
  15. 請求項1〜14のいずれか1項に記載の有機光電素子用導電性膜組成物を含む、有機光電素子用導電性膜。
  16. 請求項15に記載の有機光電素子用導電性膜を含む有機光電素子。
  17. 前記有機光電素子は、有機電界発光素子、有機太陽電池、有機トランジスタまたは有機メモリ素子である、請求項16に記載の素子。
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