JP2007516189A5

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Publication number: JP2007516189A5
Application number: JP2006518300A
Authority: JP
Filing date: 2004-07-08
Publication date: 2007-08-02

Claims

カルボキシアルキルオキシまたはカルボキシアルキルチオ基で置換された１，３−ジフェニルプロパ−２−エン−１−オン誘導体の製造方法であって、
（ｉ）二つのフェニル基の一方がヒドロキシルまたはチオール基で置換された、少なくとも１種類の１，３−ジフェニルプロパ−２−エン−１−オン誘導体を、一般式（II）：

（式中、Ｙは、ハロゲン原子を表し、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₂₄アルキル鎖であり、Ｒ’は、酸に不安定なカルボン酸保護基である）
で表される、少なくとも１種類のハロゲン化化合物と接触させる工程と；
（ii）工程（ｉ）で得られたエステルを酸加水分解する工程と
を含む方法。
式（II）で表される化合物のカルボン酸保護基が、カルボキシル官能基に結合した炭素原子が、１〜４個の炭素原子を有する一つまたは二つの直鎖もしくは分枝鎖アルキル基で置換された、Ｃ₁〜Ｃ₅アルキル型の酸不安定基のうちから選ばれることを特徴とする、請求項１記載の方法。
式（II）で表される化合物のカルボン酸保護基が、tert−ブチルおよびイソプロピル基のうちから選ばれることを特徴とする、請求項１または２のいずれか１項に記載の方法。
Ｒ基が、１〜１２個の炭素原子を有する、一つ以上の飽和の、直鎖または環状の炭化水素基で場合により置換された、Ｃ₁〜Ｃ₁₀アルキル鎖であることを特徴とする、請求項１、２または３のいずれか一項に記載の方法。
工程（ｉ）を、２５〜１２０℃、より好ましくは８０〜１２０℃を含む温度で実施することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
工程（ｉ）を、触媒の存在下で実施することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
工程（ｉ）を、触媒としての炭酸セシウムまたは炭酸カリウムの存在下で実施することを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
工程（ｉ）を、一般式（II）で表されるハロゲン化化合物、および必要ならば触媒の数回の添加によって繰り返すことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
工程（ｉ）で用いられる、ヒドロキシルまたはチオール基で置換された１，３−ジフェニルプロパ−２−エン−１−オン誘導体を、アセトフェノン型化合物とチオ−もしくはヒドロキシ−ベンズアルデヒド誘導体との、またはチオ−もしくはヒドロキシ−アセトフェノン誘導体とベンズアルデヒド型化合物との、酸性または塩基性媒体中でのクライゼン−シュミット反応によって得ることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
酸加水分解工程（ii）を、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシまたはアルキルオキシカルボニルアルキルチオ基で置換された１，３−ジフェニルプロパ−２−エン−１−オン誘導体をトリフルオロ酢酸と接触させることによって実施することを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
工程（ii）で用いられるトリフルオロ酢酸の量が、１〜２０当量、好ましくは８〜１２当量であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
工程（ii）を、０〜１００℃、より好ましくは１８〜２５℃の温度で実施することを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
製造された生成物が、下記の一般式（Ｉ）：

（式中、
Ｘ₁は、ハロゲンもしくは−Ｒ₁基、または式：−Ｇ₁−Ｒ₁に相当する基を表し、
Ｘ₂は、水素原子、チオニトロソ基、アルキルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルチオ基またはアルキルカルボニルチオ基を表し、
Ｘ₃は、−Ｒ₃基、または式：−Ｇ₃−Ｒ₃に相当する基を表し、
Ｘ₄は、ハロゲン、チオニトロソ基、−Ｒ₄基、または式：−Ｇ₄−Ｒ₄に相当する基を表し、
Ｘ₅は、−Ｒ₅基、または式：−Ｇ₅−Ｒ₅に相当に相当する基を表し、
Ｒ₁、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅は、同一、または異なっており、水素原子、またはカルボン酸官能基で置換されているか、もしくは置換されていないアルキル基を表し、
Ｇ₁、Ｇ₃、Ｇ₄、Ｇ₅は、同一、または異なっており、酸素または硫黄原子を表し、
基Ｘ₁、Ｘ₃、Ｘ₄またはＸ₅の一つは、Ｒがカルボン酸官能基を有するアルキル基である、式：−Ｇ−Ｒに相当する）
で示されることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。