JP2007507635A - 真空ポンプ排出システム - Google Patents
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- 真空ポンプ排出システムであって、真空チャンバからポンプ排出されるべき少なくとも第1のガスを受け入れる入口を備えたポンプと、前記第1のガスと一緒にポンプ排出されるべき第2のパージガスを供給する供給手段とを有し、前記ポンプは、前記第1のガス及び前記パージガスを含むガス流を排出する出口を有し、前記システムは、前記ガス流を受け入れ、前記パージガスを前記ガス流から回収するガス分離手段を更に有し、前記供給手段は、前記ガス分離手段から前記回収されたパージガスを受け入れるよう配置されている、システム。
- 前記供給手段は、前記パージガスを直接前記ポンプに供給するよう構成されている、請求項1記載のシステム。
- 前記供給手段は、前記パージガスを前記真空チャンバに供給するよう構成されている、請求項1記載のシステム。
- さらに、前記ガス流を前記第1のポンプから受け入れる入口及び前記ガス流を前記ガス分離手段に排出する出口を備えた第2のポンプを有する、請求項1〜3のうちいずれか一に記載のシステム。
- さらに、前記回収したパージガスを受け入れる入口及び前記回収したパージガスを前記供給手段に排出する出口を備えた第2のポンプを有する、請求項1〜3のうちいずれか一に記載のシステム。
- さらに、前記第2のポンプから排出された前記ガスを浄化する手段を有する、請求項4又は5記載のシステム。
- さらに、第1のガスを前記分離手段から前記真空チャンバに再循環させる第1のガス再循環手段を有する、請求項1〜6のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記再循環手段は、前記受け入れた第1のガスを浄化する手段を含む、請求項7記載のシステム。
- 前記再循環手段は、前記受け入れた第1のガスを加圧する手段を含む、請求項7又は8記載のシステム。
- 前記分離手段は、前記第1のガスを前記ガス流から極低温分離して前記第1のガスと前記第2のガスの両方を回収する極低温分離手段を含む、請求項1〜9のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記極低温分離手段は、前記第2のガスを凝縮させないで前記第1のガスを凝縮させるよう構成されている、請求項10記載のシステム。
- 前記第1のポンプは、ターボ分子ポンプから成る、請求項1〜11のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記第1のガスは、熱伝導率の低いガス、例えばキセノン又はアルゴンから成る、請求項1〜12のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記パージガスは、前記第1のガスよりも軽い、請求項1〜13のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記パージガスは、ヘリウム及び窒素のうち一方から成る、請求項1〜14のうちいずれか一に記載のシステム。
- 真空ポンプ排出システムであって、第1のガスを真空チャンバに供給する第1のガス供給手段と、少なくとも第1のガスを前記真空チャンバから受け入れるよう配置されたポンプと、第2のガスを前記第1のガスと一緒にポンプ排出可能に供給する第2のガス供給手段と、前記ポンプから出力されたガス流を受け入れ、前記第1のガス及び前記第2のガスを前記ガス流から回収し、前記回収した第1のガスを少なくとも前記真空チャンバ経由で再循環可能に前記第1のガス供給手段に出力すると共に前記回収した第2のガスを少なくとも前記真空ポンプ経由で再循環可能に前記第2のガス供給手段に出力するガス分離手段とを有する、システム。
- 請求項1〜16のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有する極紫外線リソグラフィー装置。
- 請求項1〜16のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有する半導体処理装置。
- 請求項1〜16のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有するフラットパネルディスプレイ製造装置。
- 真空ポンプ排出方法であって、少なくとも真空チャンバからの第1のガス及び前記第1のガスと一緒にポンプ排出可能に第2のパージガスをポンプのところで受け入れる段階と、前記ポンプから前記第1のガス及び前記第2のガスを含むガス流を排出する段階と、前記第2のガスを前記ガス流から回収する段階と、前記第2のガスを少なくとも前記ポンプ経由で再循環させる段階とを有する、方法。
- 前記第2のガスを、前記真空チャンバと前記ポンプの両方を経由して再循環させる、請求項20記載の方法。
- 前記ポンプから排出された前記ガス流の圧力を、前記ガス流からの前記第2のガスの回収に先立って増大させる、請求項20又は21記載の方法。
- 前記加圧されたガス流を、前記ガス流からの前記第2のガスの回収に先立って浄化する、請求項22記載の方法。
- 前記回収した第2のガスの圧力を、その再循環に先立って増大させる、請求項20又は21記載の方法。
- 前記加圧されて回収された第2のガスを、その再循環に先立って浄化する、請求項24記載の方法。
- 前記第1のガスをガス流から回収し、そして前記真空チャンバに再循環させる、請求項20〜25のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記回収した第1のガスを、前記真空チャンバへのその戻しに先立って浄化する、請求項26記載の方法。
- 前記回収した第1のガスを、前記真空チャンバへのその戻しに先立って加圧する、請求項26又は27記載の方法。
- 前記第1のガスを前記ガス流から極低温分離して前記第1のガス及び前記第2のガスを回収する、請求項20〜28のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第1のガスを、前記第2のガスを凝縮させずに凝縮して前記第1のガスと前記第2のガスを分離する、請求項29記載の方法。
- 前記第1のガスは、熱伝導率の低いガス、例えばキセノン又はアルゴンから成る、請求項20〜30のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記パージガスは、前記第1のガスよりも軽い、請求項20〜31のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記第2のガスは、ヘリウム及び窒素のうち一方から成る、請求項20〜32のうちいずれか一に記載のシステム。
- 真空ポンプ排出方法であって、少なくとも真空チャンバからの第1のガス及び前記第1のガスと一緒にポンプ排出可能に第2のガスをポンプのところで受け入れる段階と、前記ポンプから排出されたガス流から前記第1のガス及び前記第2のガスを回収する段階と、前記回収した第1のガスを少なくとも前記真空チャンバ経由で再循環させる段階、前記回収した第2のガスを少なくとも前記ポンプ経由で再循環させる段階とを有する、方法。
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