JP5242916B2 - 真空ポンプ排出システム - Google Patents
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- 真空ポンプ排出システムであって、真空チャンバからポンプ排出されるべき少なくとも第1の、キセノン又はアルゴンのような熱伝導率の低いガスを受け入れる入口を備えた真空ポンプと、前記第1のガスと一緒にポンプ排出されるべき第2の、ヘリウム及び窒素のうち一方から成るパージガスを供給する供給手段とを有し、前記真空ポンプは、前記第1のガス及び前記パージガスを含むガス流を排出する出口を有し、前記システムは、前記ガス流を受け入れ、前記パージガスを前記ガス流から回収するガス分離手段を更に有し、前記分離手段は、極低温分離トラップを含み、前記極低温分離トラップは、前記第2のガスを凝縮させないで、前記第1のガスの大部分を凍結することによって、前記第1のガスを前記ガス流から極低温分離して、主として前記パージガスから成るが、前記極低温分離トラップの動作温度での蒸気圧と関連した濃度の前記第1のガスをも含む出口ガス流を発生させ、前記第1のガスと前記第2のガスの両方を回収し、前記供給手段は、前記ガス分離手段から前記回収されたパージガス及び前記極低温分離トラップの動作温度での蒸気圧と関連した濃度の前記第1のガスを受け入れるよう配置されている、システム。
- 前記供給手段は、前記パージガスを直接前記ポンプに供給するよう構成されている、請求項1記載のシステム。
- 前記供給手段は、前記パージガスを前記真空チャンバに供給するよう構成されている、請求項1記載のシステム。
- さらに、前記ガス流を前記第1のポンプから受け入れる入口及び前記ガス流を前記ガス分離手段に排出する出口を備えた第2のポンプを有する、請求項1〜3のうちいずれか一に記載のシステム。
- さらに、前記回収したパージガスを受け入れる入口及び前記回収したパージガスを前記供給手段に排出する出口を備えた第2のポンプを有する、請求項1〜3のうちいずれか一に記載のシステム。
- さらに、前記第2のポンプから排出された前記ガスを浄化する手段を有する、請求項4又は5記載のシステム。
- さらに、第1のガスを前記分離手段から前記真空チャンバに再循環させる第1のガス再循環手段を有する、請求項1〜6のうちいずれか一に記載のシステム。
- 前記再循環手段は、前記受け入れた第1のガスを浄化する手段を含む、請求項7記載のシステム。
- 前記再循環手段は、前記受け入れた第1のガスを加圧する手段を含む、請求項7又は8記載のシステム。
- 前記第1のポンプは、ターボ分子ポンプから成る、請求項1〜9のうちいずれか一に記載のシステム。
- 請求項1〜10のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有する極紫外線リソグラフィー装置。
- 請求項1〜10のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有する半導体処理装置。
- 請求項1〜10のうちいずれか一に記載の真空ポンプ排出システムを有するフラットパネルディスプレイ製造装置。
- 真空ポンプ排出方法であって、少なくとも真空チャンバからの第1の、キセノンおよびアルゴンからなる群より選択される熱伝導率の低いガス及び前記第1のガスと一緒にポンプ排出可能に第2の、ヘリウム及び窒素のうち一方から成るパージガスを真空ポンプのところで受け入れる段階と、前記真空ポンプから前記第1のガス及び前記第2のガスを含むガス流を排出する段階と、前記第1のガスと前記第2のガスの両方を前記ガス流から回収する段階と、を有し、前記第2のガスを凝縮させずに、前記第1のガスの大部分を凍結することによって、前記第1のガスを極低温分離トラップで前記ガス流から極低温分離して、主として前記パージガスから成るが、前記極低温分離トラップの動作温度での蒸気圧と関連した濃度の前記第1のガスをも含む出口ガス流を発生させ、前記第1のガス及び前記第2のガスを回収し、前記回収された第2のガス及び前記極低温分離トラップの動作温度での蒸気圧と関連した濃度の前記第1のガスを少なくとも前記真空ポンプ経由で再循環させる段階とを有する、方法。
- 前記第2のガスを、前記真空チャンバと前記ポンプの両方を経由して再循環させる、請求項14記載の方法。
- 前記ポンプから排出された前記ガス流の圧力を、前記ガス流からの前記第2のガスの回収に先立って増大させる、請求項14又は15記載の方法。
- 前記加圧されたガス流を、前記ガス流からの前記第2のガスの回収に先立って浄化する、請求項16記載の方法。
- 前記回収した第2のガスの圧力を、その再循環に先立って増大させる、請求項14又は15記載の方法。
- 前記加圧されて回収された第2のガスを、その再循環に先立って浄化する、請求項18記載の方法。
- 前記第1のガスをガス流から回収し、そして前記真空チャンバに再循環させる、請求項14〜19のうちいずれか一に記載の方法。
- 前記回収した第1のガスを、前記真空チャンバへのその戻しに先立って浄化する、請求項20記載の方法。
- 前記回収した第1のガスを、前記真空チャンバへのその戻しに先立って加圧する、請求項20又は21記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/669,775 US7094036B2 (en) | 2003-09-24 | 2003-09-24 | Vacuum pumping system |
US10/669,775 | 2003-09-24 | ||
PCT/GB2004/003975 WO2005031168A1 (en) | 2003-09-24 | 2004-09-16 | Vacuum pumping system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007507635A JP2007507635A (ja) | 2007-03-29 |
JP5242916B2 true JP5242916B2 (ja) | 2013-07-24 |
Family
ID=32298507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006527459A Expired - Fee Related JP5242916B2 (ja) | 2003-09-24 | 2004-09-16 | 真空ポンプ排出システム |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7094036B2 (ja) |
EP (1) | EP1664544A1 (ja) |
JP (1) | JP5242916B2 (ja) |
KR (1) | KR20070020177A (ja) |
CN (1) | CN100554698C (ja) |
GB (1) | GB0407081D0 (ja) |
TW (1) | TWI367992B (ja) |
WO (1) | WO2005031168A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4633370B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2011-02-16 | 財団法人国際科学振興財団 | 真空装置 |
FR2897434B1 (fr) * | 2006-02-15 | 2014-07-11 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de mesure de permeation |
US7616142B1 (en) * | 2006-04-27 | 2009-11-10 | Marvell International Ltd. | Sigma-delta modulated analog-to-digital converter having a changeable coefficient |
US7874141B2 (en) * | 2007-11-16 | 2011-01-25 | General Electric Company | Auxiliary fluid source for an EGR purge system |
US20110179667A1 (en) * | 2009-09-17 | 2011-07-28 | Lee Ron C | Freeze drying system |
WO2013171856A1 (ja) | 2012-05-16 | 2013-11-21 | 石油資源開発株式会社 | 天然ガスの処理方法及び処理装置 |
JP7011384B2 (ja) * | 2016-11-08 | 2022-02-10 | 株式会社アルバック | 真空処理装置及び希ガス回収装置 |
US10959318B2 (en) | 2018-01-10 | 2021-03-23 | Kla-Tencor Corporation | X-ray metrology system with broadband laser produced plasma illuminator |
JP7198676B2 (ja) * | 2019-01-21 | 2023-01-04 | 株式会社荏原製作所 | 希ガス回収システムおよび希ガス回収方法 |
WO2024023968A1 (ja) * | 2022-07-27 | 2024-02-01 | ギガフォトン株式会社 | レーザ装置、レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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GB8809621D0 (en) * | 1988-04-22 | 1988-05-25 | Boc Group Plc | Dry pump with closed loop filter |
JP2938118B2 (ja) * | 1990-03-20 | 1999-08-23 | 株式会社東芝 | 真空容器内の水素の排気方法とその装置 |
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-
2003
- 2003-09-24 US US10/669,775 patent/US7094036B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-03-29 GB GBGB0407081.9A patent/GB0407081D0/en not_active Ceased
- 2004-09-16 JP JP2006527459A patent/JP5242916B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-16 EP EP04768521A patent/EP1664544A1/en not_active Withdrawn
- 2004-09-16 WO PCT/GB2004/003975 patent/WO2005031168A1/en active Application Filing
- 2004-09-16 KR KR1020067005803A patent/KR20070020177A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-09-16 CN CNB2004800275687A patent/CN100554698C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-09-24 TW TW093129061A patent/TWI367992B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2005031168A1 (en) | 2005-04-07 |
US20050063830A1 (en) | 2005-03-24 |
KR20070020177A (ko) | 2007-02-20 |
TWI367992B (en) | 2012-07-11 |
US7094036B2 (en) | 2006-08-22 |
CN1856652A (zh) | 2006-11-01 |
JP2007507635A (ja) | 2007-03-29 |
GB0407081D0 (en) | 2004-05-05 |
TW200525087A (en) | 2005-08-01 |
EP1664544A1 (en) | 2006-06-07 |
CN100554698C (zh) | 2009-10-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120501 |
|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130201 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130401 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130404 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160412 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |