JP2007504001A - 塗布ダイおよび使用方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ΔP=ダイ動作圧力
QS=塗布液流速
μ=塗布液粘度
LS=塗布スロットの長さ
WS=塗布スロットの幅
HS=塗布スロットの高さ
である。
ΔP=ダイ動作圧力
QP=気体通路中の塗布液流速
μ=塗布液粘度
LP=気体通路の長さ
WP=気体通路の幅
HP=気体通路の高さ
である。2つの式を互いに等しく設定してWPHP 3について解くと、通路の相対的寸法を決定できる。
第1の部分と第2の部分とを有し、共に長さ約5インチ(12.5cm)のアプリケータスロットと連通するダイキャビティを画定する、一般に従来の構成の塗布ダイを用意した。第2のダイ部分は供給管との接続を有するとともにスチールで作製した。第1のダイ部分は透明なアクリルポリマーで構成して塗布中にダイキャビティが見えるようにした。第1および第2の部分に塗布ダイを形成するための組み付け用のボルト穴を設けた。シム(図5に全体的に示した)を厚さ約0.01インチ(0.25mm)のステンレス鋼板から作製した。複数の気体逃げ通路をシム(再度図5に全体的に示した)の表面のうちの一面上に圧延した。これらの気体逃げ通路は各々幅約0.01インチ(0.25mm)、深さ約0.002インチ(0.05mm)、そして互いに約0.0625インチ(1.59mm)の距離離間させた。これらの通路のサイズは前述の式を用いて算出した。
第1の部分と第2の部分とを有し、共にスチールから形成され、共に長さ約4インチ(10.16cm)のアプリケータスロットと連通するダイキャビティを画定する、一般に従来の構成の塗布ダイを用意した。第2のダイ部分は供給管との接続を有していた。第1および第2の部分に共に塗布ダイを形成するための組み付け用のボルト穴を設けた。シム(図6に全体的に示した)を厚さ約0.04インチ(1.0mm)のステンレス鋼板から作製した。複数の気体逃げ通路をシム(再度図6に全体的に示した)の表面のうちの一面上に形成した。これらの気体逃げ通路は240グリットサンドペーパー(およそ60マイクロメートルの粗度)をシムの表面にかけることにより形成した。
Claims (21)
- 少なくとも1つの内部キャビティおよび該キャビティに流体連通するアプリケータスロットを画定するダイ本体と、
前記内部キャビティに流体連通する複数の気体逃げ通路と、
を備えるダイ。 - 前記気体逃げ通路が複数のチャネルをさらに備える、請求項1に記載のダイ。
- 前記気体逃げ通路が、少なくとも部分的に粗面化エリア内に配置された複数の間隙をさらに備える、請求項1に記載のダイ。
- 前記ダイ本体が第1の部分と第2の部分とを備え、それら第1および前記第2の部分が共に前記キャビティを画定する、請求項1に記載のダイ。
- 前記複数の気体逃げ通路が前記キャビティの実質的全幅にわたって延びる、請求項1に記載のダイ。
- 前記複数の気体逃げ通路が、前記内部キャビティからの気体の排出を可能にする一方で前記内部キャビティからの塗布材料の実質的排出を防止するように構成される、請求項1に記載のダイ。
- 前記第1の部分と前記第2の部分との間に配置されたシムをさらに備え、前記複数の気体逃げ通路が少なくとも部分的に該シム内に形成される、請求項1に記載のダイ。
- 前記気体逃げ通路が複数のチャネルをさらに備える、請求項5に記載のダイ。
- 前記気体逃げ通路が、粗面化エリア内に配置された複数の間隙をさらに備える、請求項5に記載のダイ。
- 前記複数の気体逃げ通路が前記キャビティの実質的全幅にわたって延びる、請求項5に記載のダイ。
- 前記複数の気体逃げ通路が、前記内部キャビティからの気体の排出を可能にする一方で前記内部キャビティからの塗布材料の実質的排出を防止するように構成される、請求項5に記載のダイ。
- 材料を基材に塗布する方法であって、
内部キャビティおよびアプリケータスロットに流体連通するアプリケータスロットを有するダイ本体と、該キャビティに流体連通する複数の気体逃げ孔とを備えるダイを用意するステップと、
前記材料が前記アプリケータスロットを通して前記基材上に分配されるように、前記材料を前記内部キャビティ内に導入するステップと、
前記アプリケータスロットが前記基材の上方で略下向きに配置されるように、前記ダイを方向付けするステップと、
前記複数の気体逃げ孔を通して前記ダイキャビティ内の空気を排気するステップと、
を含む方法。 - 前記気体逃げ通路が複数のチャネルにより形成される、請求項12に記載の方法。
- 前記気体逃げ通路が、粗面化エリア内に配置された複数の間隙により形成される、請求項12に記載の方法。
- 前記ダイ本体が第1の部分と第2の部分とにより形成され、該第1の部分および該第2の部分が共に前記キャビティを画定する、請求項12に記載の方法。
- 前記ダイが、前記第1の部分と前記第2の部分との間に配置されたシムを備え、さらに、前記複数の気体逃げ通路が該シム内に形成される、請求項15に記載の方法。
- 前記気体逃げ通路が複数のチャネルにより形成される、請求項16に記載の方法。
- 前記気体逃げ通路が、粗面化エリア内に配置された複数の間隙により形成される、請求項16に記載の方法。
- 前記複数の気体逃げ通路が前記キャビティの実質的全幅にわたって延びる、請求項12に記載の方法。
- 前記気体逃げ通路を通した塗布材料の実質的排出を防止することをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記基材を前記アプリケータスロットに対して移動させることと、
前記ダイからの材料の移動を制御することと、
前記基材上に材料の個別の断片を形成することとをさらに含む、請求項12に記載の方法。
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