JP2007317458A - マイクロ波利用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】加熱室10の下方に被加熱物を載置する載置板12、左右の壁面に傾斜壁面領域13、14を形成し略中央に放射手段13a、14aを配する。加熱室10の下側に半導体素子を用いて構成した電圧可変型の周波数可変機能を備えた発振部20と初段増幅部21と並列動作の主増幅部23、24とからなるマイクロ波発生手段19を配し、出力を放射手段に導く。駆動電源31、32から主増幅部23、24への電力供給ラインに電力を供給または停止する切換手段34、35、マイクロ波発生手段19の二つの出力には、それぞれ反射電力を抽出する電力結合器27、28を配し、発振周波数を可変制御中に生じる反射電力のエネルギでもって切換手段を動作させ、無駄な消費電力を削減し被加熱物の均一な加熱を行う。
【選択図】図1
Description
形状が大きいことや高価なことにより、電子レンジ用途には適さない。
させることができ、マイクロ波周波数可変制御時に反射波が大きい放射手段に接続された増幅部の動作を制御することで反射波による異状な増幅動作の回避および増幅部の破損を回避できる。
図1は本発明の第1の実施の形態におけるマイクロ波利用装置の構成図、図2は図1のマイクロ波発生手段の構成図である。
ロ波を内部に閉じ込めるように構成している。加熱室10内の下方には、加熱室底壁面11と所定の間隔をもって被加熱物を載置する低誘電損失材料からなる載置板12を配する。また加熱室10の左右の壁面は、加熱室10の内外方向に絞り加工を施して載置板12の方向に傾斜させた壁面領域13、14を形成している。
らの反射電力は無くなるが、被加熱物の種類・形状・量が被加熱物を含む加熱室10の電気的特性を決定し、マイクロ波発生手段19の出力インピーダンスと加熱室10のインピーダンスとに基づいて、加熱室10側から同軸線路25、26を逆方向に伝送する反射電力が生じる。
図3〜図5は、本発明の第2の実施の形態のマイクロ波利用装置の構成図である。
の共振周波数がたとえば2465MHzに調整している。また、図4における記号「×」50c、51cはそれぞれの円形金属板50b、51bへのマイクロ波の給電位置を示し、この位置に一端を接続固定するとともに他端が導波管17、18内に延在する金属棒を配している。
基準レベルのひとつである第一の所定量を超過すると制御手段60は、主増幅部23、24の駆動電源52、53の出力電圧を低下させる制御を行う。これにより、対応する主増幅部は増幅率が低下し、低い出力を呈する。また、第一の所定量よりも大きい第二の所定量を超過すると制御手段60は、主増幅部23、24の駆動電源52、53の動作を停止するように制御を行う。このような主増幅部の動作の変化に係わらず制御手段60は周波数の可変制御を継続させることで、反射電力信号レベルに応じた制御指令を駆動電源52、53に出力し、その駆動電力に対応して主増幅部が動作し、マイクロ波エネルギが加熱室10に供給される。
図6は、本発明の第3の実施の形態のマイクロ波利用装置のマイクロ波発生手段まわりの構成図である。
ぞれの主増幅部が動作し、マイクロ波エネルギが加熱室に供給される。
12 載置板(載置手段)
13、14 傾斜壁面(傾斜壁面領域)
13a、14a 放射手段
19、70、71 マイクロ波発生手段
20 発振部(周波数可変)
21、23、24 増幅部
23、24、78、79、80、81 並列駆動の増幅部
27、28、82、83、84、85 電力結合器(反射電力と結合)
33、60、74、75、76 制御手段
34、35 切換手段
50、51 共振周波数の異なる放射手段
54、55 方向性結合器(反射電力と結合)
72、73 発振周波数がオーバーラップしない発振部
Claims (7)
- 被加熱物が収納される加熱室と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を発生させる周波数可変機能付マイクロ波発生手段と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を放射する複数の放射手段と、前記放射手段からマイクロ波発生手段側に反射するそれぞれの反射波のエネルギによって動作する複数の切換手段と、前記マイクロ波発生手段が発生する周波数を可変制御する制御手段とを有し、周波数可変に伴う切換手段の動作により放射手段が選択されるマイクロ波利用装置。
- マイクロ波発生手段は、半導体素子を用いた発振部と増幅部とで構成し、複数の放射手段にそれぞれ伝送させるマイクロ波を出力する並列動作の増幅部を備えた請求項1に記載のマイクロ波利用装置。
- 被加熱物が収納される加熱室と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を発生させる周波数可変機能付マイクロ波発生手段と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を放射する複数の放射手段と、前記複数の放射手段のそれぞれからマイクロ波発生手段側に伝送するマイクロ波反射電力を検出する手段と、前記マイクロ波発生手段が発生する周波数を可変制御する制御手段とを有し、前記マイクロ波発生手段は半導体素子を用いた発振部と前記複数の放射手段にそれぞれ伝送させるマイクロ波を出力する並列動作の増幅部とで構成し、所定量を超える反射電力になると対象の放射手段に接続された増幅部の駆動電力を減少あるいは停止させるように制御したマイクロ波利用装置。
- 被加熱物が収納される加熱室と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を発生させる周波数可変機能付マイクロ波発生手段と、前記加熱室へ供給するマイクロ波を放射する複数の放射手段と、前記マイクロ波発生手段が発生する周波数を可変制御する制御手段とを有し、前記マイクロ波発生手段は半導体素子を用いた発振部と前記複数の放射手段にそれぞれ伝送させるマイクロ波を出力する並列動作の増幅部とで構成し、前記複数の放射手段のそれぞれからマイクロ波発生手段側に伝送するマイクロ波反射電力によって動作する切換手段を前記増幅部の駆動電力供給線路に設け、所定量を超える反射電力によって前記切換手段を作動させて、対象の放射手段に接続された増幅部の駆動電力供給を停止するように制御したマイクロ波利用装置。
- 複数の放射手段は、被加熱物を載置する載置手段の方向にマイクロ波を放射するように構成した請求項1、3、4のいずれか1項に記載のマイクロ波利用装置。
- 複数の放射手段は、それぞれ異なる共振周波数を有した請求項1、3、4のいずれか1項に記載のマイクロ波利用装置。
- マイクロ波発生手段は、複数の発生源を有し、それぞれの発生源の発生周波数はオーバーラップさせない構成としたマイクロ波利用装置。
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