JP2008060016A - マイクロ波利用装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被加熱物を収納する加熱室10の左右の壁面13、14に互いに重なり合わない位置に放射手段15、16の開口部を設け、半導体素子を用いて構成したマイクロ波発生手段17の二つの出力を放射手段15、16に結線するとともにそれぞれの放射手段から放射するマイクロ波の位相を可変制御することで、一対の対向配置した放射手段15、16によって形成される電界集中領域は加熱室10の左右方向に順次移動し、被加熱物の収納場所に関わらず被加熱物上の加熱部位を確実に移動させて均一加熱を促進する。
【選択図】図1
Description
を被加熱物が確実に享受できるマイクロ波利用装置を提供することを目的とする。
位相可変範囲に90度を加算した範囲を位相可変することができ、位相可変器の負担を緩和し、位相可変器の形状の小型化あるいはコストの縮小を図ることができる。
図1は本発明の第1の実施の形態におけるマイクロ波利用装置の構成図、図2は図1のマイクロ波発生手段の構成図である。
値である2450MHzの周波数を伝送する時に電気長が90度異なる長さ構成としている。
MHzから0.1MHzピッチ(たとえば、10ミリ秒で1MHz)で低い周波数側に変化させ、周波数可変範囲の下限である2400MHzに到達すると1MHzピッチで周波数を高く変化させ、2450MHzに到達すると再び0.1MHzピッチで周波数可変範囲の上限である2500MHzまで高くする。
出すると、制御手段33は、発振部18の発振周波数を0.1MHzピッチで最大3MHz低い周波数側に変化させ、その後、発振周波数を高めて初期の周波数に対して最大3MHzまで高める。この過程で、反射電力検知信号が上述の第一レベルを下回る周波数が生じるとその周波数に発振部18の発振周波数を固定して加熱を継続する。
図3は本発明の第2の実施の形態におけるマイクロ波利用装置の構成図、図4は図3のマイクロ波発生手段の構成図である。
周波数を伝送する時に電気長が90度異なる長さ構成としている。
上で確実に移動させて被加熱物の均一な加熱の促進を図る装置構成としたことにより、市販の電子レンジのごとき食品加熱はもとより、洗浄装置、乾燥装置、半導体製造装置などの工業分野での加熱装置にも展開することができる。
15、16 左右対向配置の放射手段
17、52 マイクロ波発生手段
18 発振部(周波数可変)
19、54、55 電力分配器
20、21、63〜66 初段増幅部(増幅部)
24、25、59〜62 位相可変器
26、27、67〜70 主増幅部(増幅部)
33、54 制御手段
50、51 上下対向配置の放射手段
Claims (9)
- 被加熱物が収納される加熱室と、前記加熱室に供給するマイクロ波を発生させるマイクロ波発生手段と、前記マイクロ波発生手段から発生したマイクロ波を前記加熱室に供給する複数の放射手段とを備え、前記放射手段は対向配置された一対の放射手段を有し、前記一対の放射手段にそれぞれ伝送するマイクロ波の位相を可変制御するとともに前記放射手段は前記加熱室に開口を有する導波管とし前記開口は互いに重なり合わない位置に配置したマイクロ波利用装置。
- 一対の放射手段は、加熱室の左右側面に配設した請求項1に記載のマイクロ波利用装置。
- マイクロ波発生手段は、発振部と、前記発振部の出力を複数に等分分配する電力分配器と、前記電力分配器の出力をそれぞれ増幅する増幅部とで構成し、前記電力分配器と前記増幅部との間の伝送路の少なくとも2つの伝送路に位相可変器をそれぞれ配置する構成とした請求項1または請求項2に記載のマイクロ波利用装置。
- 位相可変器を配置した伝送路を経由したマイクロ波は、対向配置された放射手段に導く構成とした請求項3に記載のマイクロ波利用装置。
- それぞれの位相可変器に入力するマイクロ波の位相は、90度の位相差を有する構成とした請求項3に記載のマイクロ波利用装置。
- 一対の放射手段の位相差の可変最大は、少なくとも180度以上とした請求項1または請求項2に記載のマイクロ波利用装置。
- 位相を可変する手段は、電圧可変型とした請求項1または請求項2に記載のマイクロ波利用装置。
- 電圧可変型の位相の可変範囲は、すくなくとも90度以上とした請求項7に記載のマイクロ波利用装置。
- マイクロ波発生手段は、2400MHzから2500MHzまでの周波数を発生できる構成とした請求項1または請求項2に記載のマイクロ波利用装置。
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