JP5142368B2 - 高周波処理装置 - Google Patents
高周波処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5142368B2 JP5142368B2 JP2007293287A JP2007293287A JP5142368B2 JP 5142368 B2 JP5142368 B2 JP 5142368B2 JP 2007293287 A JP2007293287 A JP 2007293287A JP 2007293287 A JP2007293287 A JP 2007293287A JP 5142368 B2 JP5142368 B2 JP 5142368B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power supply
- frequency power
- supply means
- high frequency
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/705—Feed lines using microwave tuning
Description
また、第1高周波電力供給手段と第2高周波電力供給手段の給電部間では、放射する高周波の励振電界および励振磁界の方向を異ならせているので、放射された高周波は相互干渉しない。第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段から放射される高周波間で相互干渉がないため、第1高周波電力供給手段により形成する加熱室内の電磁界分布や給電部を介して発振部方向へ戻る高周波反射電力などの高周波性能に第2高周波電力供給手段から放射される高周波は影響しない。また逆に第2高周波電力供給手段により形成される高周波性能に第1高周波電力供給手段から放射される高周波は影響しない。したがって各高周波電力供給手段によって作り出す高周波性能を低下させるようなことがなく、前記高周波の励振電界または励振磁界の方向を一致させたことによる効果をそのまま生かして加熱時間の短縮を維持することができるとともに、第2高周波電力供給手段により形成される高周波が加わってより一層の加熱時間短縮や均一加熱が可能となる。
また、第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段に設けられている電力検知部によって加熱室から戻る高周波反射電力を最小とする条件を前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段それぞれ独立して検知し、その検知結果に基づいて第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段の給電部から供給される高周波をそれぞれ独立して制御して、それぞれ前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段毎に独立した発振周波数などの最適条件で被加熱物を加熱することができるので、加熱性能の更なる向上を図ることができることとなる。
図1は本発明の第1の実施の形態における高周波処理装置の構成図、図2(A)は給電部による励振方向が同一の場合を示す説明図、図2(B)は給電部による励振方向が異なる場合を示す説明図である。
まず被加熱物9を加熱室8に収納し、その加熱条件を操作部11から入力し、加熱開始キーを押す。加熱開始信号を受けた制御部10の制御出力信号により高周波発生部1が動作を開始する。制御手段10は、駆動電源(図示していない)を動作させて発振部2aおよび2bに電力を供給する。この時、発振部2a、2bの初期の発振周波数は、たとえば2400MHzに設定する電圧信号を供給し、発振が開始する。
そしてそれぞれの高周波電力信号は並列動作する増幅部5a〜5d、電力検知部6a〜6dを経て給電部7a〜7dにそれぞれ出力され加熱室8内に放射される。このときの増幅部5a〜5dはそれぞれ100W未満、たとえば50Wの高周波電力を出力する。
なお、上記の説明では、位相可変部を2つ挿入した例で説明したが、電力分配部3aのいずれかの出力にのみ挿入し、その位相変化幅を0度から360度となるように構成することもできる。
図3は本発明の第2実施形態にかかる高周波処理装置を示す構成図である。なお、前述した第1実施形態にかかる高周波処理装置と共通する部位には同じ符号を付して、重複する説明を省略することとする。
1B 第2高周波電力供給手段
2a、2b 発振部
6a〜6d 電力検知部
7a〜7d 給電部
8 加熱室
9 被加熱物
10 制御部
Claims (2)
- 被加熱物を収容する加熱室と、
前記加熱室内に高周波を供給する第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段と、前記第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段から前記加熱室に供給される前記高周波を制御する制御部とを有し、
前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段が、それぞれ、
発振部と、
前記発振部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、
前記加熱室から前記発振部方向に戻る高周波反射電力を検知する電力検知部と、を備え、
前記制御部が、前記電力検知部からの検知信号に基づいて、前記第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段の前記給電部から供給される高周波を前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段毎に独立して制御する構成とし、
更に前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段における前記給電部が複数であるとともに、
前記第1高周波電力供給手段における前記給電部が前記加熱室において互いに対向する一対の壁面にそれぞれの励振電界または励振磁界の方向が一致するよう設けられ、
前記第2高周波電力供給手段における前記給電部が前記第1高周波電力供給手段における前記給電部が設けられた壁面とは別の壁面、かつ、互いに対向する一対の壁面にそれぞれの励振電界または励振磁界の方向が一致し、かつ、前記第1高周波電力供給手段の前記給電部の励振電界および励振磁界の方向と異なるよう設けられた構成とした高周波処理装置。 - 被加熱物を収容する加熱室と、
前記加熱室内に高周波を供給する第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段と、前記第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段から前記加熱室に供給される前記高周波を制御する制御部とを有し、
前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段が、それぞれ、
発振部と、
前記発振部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、
前記加熱室から前記発振部方向に戻る高周波反射電力を検知する電力検知部と、を備え、
前記制御部が、前記電力検知部からの検知信号に基づいて、前記第1高周波電力供給手段および第2高周波電力供給手段の前記給電部から供給される高周波を前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段毎に独立して制御する構成とし、
更に前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段における前記給電部が複数であるとともに、前記第1高周波電力供給手段における前記給電部および前記第2高周波電力供給手段における前記給電部が、前記加熱室における同一の壁面に前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段毎に励振電界または励振磁界の方向を一致させ、かつ、前記第1高周波電力供給手段および前記第2高周波電力供給手段間で励振電界および励振磁界の方向が異なるよう設けられた構成とした高周波処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007293287A JP5142368B2 (ja) | 2007-11-12 | 2007-11-12 | 高周波処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007293287A JP5142368B2 (ja) | 2007-11-12 | 2007-11-12 | 高周波処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009123377A JP2009123377A (ja) | 2009-06-04 |
JP5142368B2 true JP5142368B2 (ja) | 2013-02-13 |
Family
ID=40815344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007293287A Expired - Fee Related JP5142368B2 (ja) | 2007-11-12 | 2007-11-12 | 高周波処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5142368B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2012108098A (ru) * | 2009-09-03 | 2013-10-10 | Панасоник Корпорэйшн | Микроволновое нагревательное устройство |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4814642U (ja) * | 1971-06-24 | 1973-02-19 | ||
JPH0949635A (ja) * | 1995-08-08 | 1997-02-18 | Hitachi Home Tec Ltd | 高周波加熱装置 |
CA2397137C (fr) * | 2000-01-10 | 2011-05-31 | R.I.M.M. Technologies N.V. | Installation micro-onde a deux magnetrons au moins et procede de controle d'une telle installation |
JP2003187957A (ja) * | 2001-12-21 | 2003-07-04 | Toshiba Corp | 電子レンジ |
-
2007
- 2007-11-12 JP JP2007293287A patent/JP5142368B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009123377A (ja) | 2009-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5358580B2 (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
JP5142364B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5167678B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5286905B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5280372B2 (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
JP5104048B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5262250B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5127038B2 (ja) | 高周波処理装置 | |
JP4992525B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP4940922B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP2009252346A5 (ja) | ||
JP5217882B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5169371B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5169255B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP4839994B2 (ja) | マイクロ波利用装置 | |
JP5217993B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP5142368B2 (ja) | 高周波処理装置 | |
JP2008146966A (ja) | マイクロ波発生装置およびマイクロ波加熱装置 | |
JP5195008B2 (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
JP5444734B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP2010073383A (ja) | マイクロ波加熱装置 | |
JP5217881B2 (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP2008060016A (ja) | マイクロ波利用装置 | |
JP2010192359A (ja) | マイクロ波処理装置 | |
JP2010073382A (ja) | マイクロ波処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100702 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120322 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120601 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20121023 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121119 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151130 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |