JP5167678B2 - マイクロ波処理装置 - Google Patents
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- H05B2206/044—Microwave heating devices provided with two or more magnetrons or microwave sources of other kind
Description
数の壁面に配置するとともに、前記制御部は、前記電力検出部で検出される反射電力が最小となる周波数および位相差に前記発振部および前記位相可変部を制御することによって、加熱室に放射したマイクロ波を有効に被加熱物に吸収させ、またマイクロ波放射を異なる複数の壁面から行うことで異なる方向から被加熱物に直接的にマイクロ波を入射させることができ、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を所望の状態に加熱することができる。
な損傷を負わせることなく被加熱物の加熱を効率的に行うことができると同時に、加熱中も常時所定の反射電力以下となる位相差および発振周波数を維持できるため被加熱物の温度上昇によって電波の吸収および反射の状態が変化しても常に効率的に被加熱物の加熱を行うことができる。
図1は、本発明の第1の実施の形態におけるマイクロ波処理装置の構成図である。
を生じる分配器であってもかまわない。この電力分配部3によって各々の出力には発振部2から入力されたマイクロ波電力の略1/2の電力が伝送される。
4bによって生じる位相差を例えば30度に変更し、今度は周波数可変範囲の上限である2500MHzから1MHzピッチで低周波側に変化させる。発振周波数が2400MHzに達すると再び位相可変部4a、4bの出力の位相差を変化(例えば60度)させ、再び発振部2の発振周波数を2400MHzから2500MHzに向かって変化させる。この操作を行うことで制御部10は発振部2の発振周波数と位相可変部4a、4bの位相差に対する反射電力の配列を得ることができる。制御部10はこの反射電力が最も小さくなる発振部2および位相可変部4a、4bの位相差の条件で制御するとともに発振出力を入力された加熱条件に対応した出力が得られるように制御する。これにより、各増幅部5a、5bはそれぞれ所定のマイクロ波電力を出力する。そして、それぞれの出力は給電部7a、7bに伝送され加熱室8内に放射される。
にも適用できる。
2 発振部
3 電力分配部
4a、4b 位相可変部
5a、5b 増幅部
6a、6b 電力検出部
7a、7b 給電部
8 加熱室
10 制御部
Claims (5)
- 被加熱物を収納する加熱室と、
半導体素子を用いて構成しマイクロ波を出力する発振部と、
前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、
前記電力分配部の出力のそれぞれの位相を可変する位相可変部と、
前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、
前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する複数の給電部と、
前記増幅部の出力を前記給電部に伝送する複数の伝送路に各々設けられると共に、前記給電部から前記増幅部に反射される反射電力を検出する電力検出部と、
前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量をそれぞれ制御する制御部とを備え、前記複数の給電部は前記加熱室を構成する壁面の異なる複数の壁面に配置するとともに、前記制御部は、前記電力検出部で検出される反射電力が最小となる周波数および位相差に前記発振部および前記位相可変部を制御する構成としたマイクロ波処理装置。 - 制御部は加熱室に収容された被加熱物を加熱処理する前段階で、加熱処理するマイクロ波の電力よりも低い電力で反射電力が最小となる周波数および位相差を検出する予備動作をする構成とした請求項1に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は加熱室に収容された被加熱物を加熱処理する際、電力検出部が検出する反射電力が所定の反射電力以下となるように位相可変部の位相量と発振部の発振周波数を可変制御する構成とした請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。
- 制御部は加熱室に収容された被加熱物を加熱処理する際、電力検出部が検出する反射電力が常に最低値となるように位相可変部の位相量と発振部の発振周波数を可変制御する構成とした請求項1または2に記載のマイクロ波処理装置。
- 位相可変部の位相変化量および発振部の発振周波数の変化量は、被加熱物を加熱処理する際と加熱処理前に反射電力が最小値となる位相量および発振周波数を検索する予備動作時で異なるものとした請求項1から4のいずれか1項に記載のマイクロ波処理装置。
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