JP4839994B2 - マイクロ波利用装置 - Google Patents
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Description
を配するものであり、これにより位相量を調整して加熱室内の電界集中場所を移動させて加熱の均一化を促進するというものである。
手段と前記位相可変器とを制御する制御手段を備え、前記制御手段は加熱初期に前記マイクロ波発生手段の発振周波数を周波数可変範囲の下限から上限に亘って変化させ前記電力結合器が検出した反射電力が最小となる周波数を前記マイクロ波発生手段の周波数に選定し、この周波数の下で前記マイクロ波発生手段の動作中に前記位相可変器を制御して前記一対の放射手段から放射されるマイクロ波の位相差を可変制御するものであり、被加熱物は対向配置された一対の放射手段によって挟まれた構図となり、一対の放射手段間のマイクロ波の位相を可変制御することで一対の放射手段から合成された電界集中領域は被加熱物の収納空間領域において確実に移動させることができ、被加熱物の加熱の均一化を確実に促進させることができる。
図1は本発明の第1の実施の形態におけるマイクロ波利用装置の構成図、図2は図1のマイクロ波発生手段の構成図である。
反射電力が生じる。
図3〜図4は、本発明の第2の実施の形態のマイクロ波利用装置の構成図である。
本実施の形態が第1の実施の形態と相違する点は、マイクロ波発生手段の出力を4個とし、対向配置の放射手段を二対としたものである。図3〜図4において、第1の実施の形態と同一構成あるいは略同一機能のものは同一番号で示す。
の90度ハイブリッド構成の電力分配器55、56を用いると、その2つの出力は、位相が90度異なるものになる。そして、それぞれの電力分配器55、56の出力にはそれぞれ位相可変器59〜62、初段増幅器63〜66、その後段にはそれぞれ主増幅器67〜70を配する。そして、主増幅器67〜70の出力は電力結合器71〜74を介して放射手段50、51、16、15に接続されている。この構成により、それぞれの放射手段間の位相差は、放射手段16を基準にして、放射手段15、51が90度遅れ、放射手段50が180度遅れとなる。
15、16 左右対向配置の放射手段
17、52 マイクロ波発生手段
18 発振部(周波数可変)
19、54、55 電力分配器
20、21、63〜66 初段増幅部(増幅部)
24、25、59〜62 位相可変器
26、27、67〜70 主増幅部(増幅部)
33、54 制御手段
50、51 上下対向配置の放射手段
Claims (7)
- 被加熱物が収納される加熱室と、
前記加熱室に供給するマイクロ波を発生させる周波数可変機能を備えたマイクロ波発生手段と、
前記マイクロ波発生手段から発生したマイクロ波を前記加熱室に供給する複数の放射手段が対向配置された少なくとも一対の放射手段と、
前記一対の放射手段にそれぞれ伝送するマイクロ波の位相を可変する位相可変器と、
前記放射手段からの反射電力を抽出する電力結合器と、
前記マイクロ波発生手段と前記位相可変器とを制御する制御手段を備え、
前記制御手段は加熱初期に前記マイクロ波発生手段の発振周波数を周波数可変範囲の下限から上限に亘って変化させ前記電力結合器が検出した反射電力が最小となる周波数を前記マイクロ波発生手段の周波数に選定し、この周波数の下で前記マイクロ波発生手段の動作中に前記位相可変器を制御して前記一対の放射手段から放射されるマイクロ波の位相差を可変制御するマイクロ波利用装置。 - 一対の放射手段は、加熱室の左右側面に配設した請求項1に記載のマイクロ波利用装置。
- マイクロ波発生手段の周波数を選定する際において、
一対の放射手段から放射されるマイクロ波の位相差は略0度とした請求項1または2に記載のマイクロ波利用装置。 - 被加熱物が収納される加熱室と、
前記加熱室に供給するマイクロ波を発生させる周波数可変機能を備えたマイクロ波発生手段と、
前記マイクロ波発生手段から発生したマイクロ波を前記加熱室に供給する対向配置された二対の放射手段と、
前記二対の放射手段にそれぞれ伝送するマイクロ波の位相を可変する位相可変器と、
前記放射手段からの反射電力を抽出する電力結合器と、
前記マイクロ波発生手段と前記位相可変器とを制御する制御手段を備え、
前記制御手段は加熱初期に前記マイクロ波発生手段の発振周波数を周波数可変範囲の下限
から上限に亘って変化させ前記電力結合器が検出した反射電力が最小となる周波数を前記マイクロ波発生手段の周波数に選定し、この周波数の下で前記マイクロ波発生手段の動作中に前記位相可変器を制御して前記二対の放射手段から放射されるマイクロ波の位相差を可変制御するマイクロ波利用装置。 - 二対の放射手段は、加熱室の左右壁面と上下壁面にそれぞれ配設した請求項4に記載のマイクロ波利用装置。
- 対向配置の放射手段から放射するマイクロ波の周波数は、加熱初期に一対ごとに区分して周波数の選定を行うこととした請求項4または5に記載のマイクロ波利用装置。
- 一対ごとの対向配置の放射手段から放射する選択された周波数が異なる場合、制御手段はそれぞれ一対の放射手段からの放射を交互に実行することとした請求項6に記載のマイクロ波利用装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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