JPH0199116A - 高周波電源の制御方法 - Google Patents
高周波電源の制御方法Info
- Publication number
- JPH0199116A JPH0199116A JP25678187A JP25678187A JPH0199116A JP H0199116 A JPH0199116 A JP H0199116A JP 25678187 A JP25678187 A JP 25678187A JP 25678187 A JP25678187 A JP 25678187A JP H0199116 A JPH0199116 A JP H0199116A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electric power
- power
- transistor
- control
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Control Of Electrical Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
プラズマ処理装置やスパッタ装置等に用いられるトラン
ジスタ型高周波電源の制御方法に関し。
ジスタ型高周波電源の制御方法に関し。
トランジスタを保護し、大電力を安定に出力できるよう
に制御して、プラズマ応用のプロセス安定化を目的とし
。
に制御して、プラズマ応用のプロセス安定化を目的とし
。
トランジスタ型高周波電源において、入射電力と実効値
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換えるように構成する。あるいは反
射電力が基準値に達すると出力を落とし9反射電力が基
準値以下になると設定値出力に復帰するように構成する
。あるいはトランジスタのコレクタ電圧が基準値に達す
ると。
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換えるように構成する。あるいは反
射電力が基準値に達すると出力を落とし9反射電力が基
準値以下になると設定値出力に復帰するように構成する
。あるいはトランジスタのコレクタ電圧が基準値に達す
ると。
電力制御から電圧値を一定にした電流制御に切り換える
ように構成する。
ように構成する。
本発明はプラズマ処理装置やスパッタ装置等に用いられ
るトランジスタ型高周波電源の制御方法に関する。
るトランジスタ型高周波電源の制御方法に関する。
近年、半導体装置製造プロセスに使用されるドライエツ
チング、プラズマ気相成長(CVD)、 スパッタ等
にトランジスタ型高周波(rf : 13.56 MH
z)電源が用いられるようになってきた。
チング、プラズマ気相成長(CVD)、 スパッタ等
にトランジスタ型高周波(rf : 13.56 MH
z)電源が用いられるようになってきた。
従来、上記rf電源は高出力トランジスタが得られなか
ったため真空管式が一般的であったが。
ったため真空管式が一般的であったが。
最近漸< 200W級のパワートランジスタが入手でき
るようになり、2KW程度のトランジスタ型rf電源が
製造されるようになった。
るようになり、2KW程度のトランジスタ型rf電源が
製造されるようになった。
従来のトランジスタ型rf電源の制御は、真空管式の場
合と同様に入射電力制御か、あるいは過負荷に対する過
電流を切断する程度の簡単なものであった。
合と同様に入射電力制御か、あるいは過負荷に対する過
電流を切断する程度の簡単なものであった。
■ 入射電力制御方式
この方式は単純に負荷への入射電力を制御することによ
り一定の電力が供給できるようにしたものである。
り一定の電力が供給できるようにしたものである。
■ 実効値制御方式
プラズマ応用のプロセス安定のために上記の入射電力制
御に代わって実効値制御方式が用いられている。
御に代わって実効値制御方式が用いられている。
実効値制御方式は、負荷に対し
実効値電力=入射型カー反射電力
を実効電力として制御する方式で、負荷変動による反射
電力の変動を最小にすることにより、プラズマ負荷に対
して一定の電力を供給でき、安定なプロセスが可能とな
る。
電力の変動を最小にすることにより、プラズマ負荷に対
して一定の電力を供給でき、安定なプロセスが可能とな
る。
このように、実効値電力制御方式はプロセス制御には不
可欠であるが、負荷変動により反射電力が増加して(る
と、入射電力増大による熱のためにトランジスタは破壊
することがあった。−〔発明が解決しようとする問題点
〕 トランジスタの欠点は高価で、しかも壊れやすいことで
あり、そのためトランジスタを破壊しないで大電力を安
定に供給できるように制御することが問題である。
可欠であるが、負荷変動により反射電力が増加して(る
と、入射電力増大による熱のためにトランジスタは破壊
することがあった。−〔発明が解決しようとする問題点
〕 トランジスタの欠点は高価で、しかも壊れやすいことで
あり、そのためトランジスタを破壊しないで大電力を安
定に供給できるように制御することが問題である。
また、大電力を安定に供給できることはプラズマ応用の
プロセス安定につながり、極めて重要な課題である。
プロセス安定につながり、極めて重要な課題である。
上記問題点の解決は。
トランジスタ型高周波電源において、入射電力と実効値
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換える高周波電源の制御方法、ある
いは トランジスタ型高周波電源において2反射電力が基準値
に達すると出力を低減し2反射電力が基準値以下になる
と設定値出力に復帰する高周波電源の制御方法、あるい
は トランジスタ型高周波電源において、トランジスタのコ
レクタ電圧が基準値に達すると、電力制御から電圧値を
一定にした電流制御に切り換える高周波電源の制御方法
により達成される。
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換える高周波電源の制御方法、ある
いは トランジスタ型高周波電源において2反射電力が基準値
に達すると出力を低減し2反射電力が基準値以下になる
と設定値出力に復帰する高周波電源の制御方法、あるい
は トランジスタ型高周波電源において、トランジスタのコ
レクタ電圧が基準値に達すると、電力制御から電圧値を
一定にした電流制御に切り換える高周波電源の制御方法
により達成される。
本発明は。
プロセス制御に有効な実効値制御方式においては。
(1)入射電力/実効値電力が基準値以下になった場合
に実効値電力制御を入射電力制御に切り換える。
に実効値電力制御を入射電力制御に切り換える。
(2)反射電力が基準値に達すると出力を落とし。
反射電力が基準値以下になると設定値出力に復帰する。
一方、いずれの制御方式に対しても負荷変動(例えば低
圧力等の高インピーダンス化)により。
圧力等の高インピーダンス化)により。
出力電圧がトランジスタの最大定格電圧を越えるとトラ
ンジスタが破壊されるので。
ンジスタが破壊されるので。
(3)トランジスタのコレクタ電圧が基準値に達すると
、電力制御から電圧値を一定にした電流制御に切り換え
る。
、電力制御から電圧値を一定にした電流制御に切り換え
る。
以上いずれかの制御方法により、トランジスタを保護し
、安定なプロセスを可能としたものである・。
、安定なプロセスを可能としたものである・。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するブロック図で
ある。
ある。
図において、1は発振器(EXC) 、 2はドライ
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4は方向性結合器(DC)、 5はコントローラであ
る。
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4は方向性結合器(DC)、 5はコントローラであ
る。
出力アンプ3は、トランジスタ1個の出力が高々200
臀程度であるので、複数の出力アンプに分割して増幅し
た後に合成する回路である。
臀程度であるので、複数の出力アンプに分割して増幅し
た後に合成する回路である。
方向性結合器4は負荷への入射電力と反射電力をモニタ
する。
する。
コントローラ5は実効値電力制御か、入射電力制御のい
ずれかに切り換えができる。
ずれかに切り換えができる。
上記の構成において、入射電力/実効値電力が基準値1
例えば0.8以下になった場合に、実効値電力制御を入
射電力制御に切り換える。
例えば0.8以下になった場合に、実効値電力制御を入
射電力制御に切り換える。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するブロック図で
ある。
ある。
図において、■は発振器(EXC) 、 2.はドラ
イバアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅2合成回路)
、4Aは反射電力モニタ、 5Aはコントローラである
。
イバアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅2合成回路)
、4Aは反射電力モニタ、 5Aはコントローラである
。
上記の構成において、コントローラ5Aは反射電力の絶
対値が基準値1例えば2 KW電源なら800Wに達し
たら、出力を低減させ2反射電力が減少して1例えば6
00Wに達したら、設定値電力に復帰させるように制御
している。
対値が基準値1例えば2 KW電源なら800Wに達し
たら、出力を低減させ2反射電力が減少して1例えば6
00Wに達したら、設定値電力に復帰させるように制御
している。
第3図は本発明の第3の実施例を説明するブロック図で
ある。
ある。
図において、1は発振器(EXC) 、 2はドライ
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4Bはコレクタ電圧(V、)モニタ、 5Bはコントロ
ーラである。
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4Bはコレクタ電圧(V、)モニタ、 5Bはコントロ
ーラである。
上記の構成において、コントローラ5Bは前記のように
負荷変動によって出力電圧がトランジスタの最大定格電
圧1例えば100 Vの0.8倍を越えた場合に電圧制
御から電流制御に切り換えるように制御している。
負荷変動によって出力電圧がトランジスタの最大定格電
圧1例えば100 Vの0.8倍を越えた場合に電圧制
御から電流制御に切り換えるように制御している。
この場合、常時電圧制御にしているのは、ジュール熱に
よる損失を低減するためである。
よる損失を低減するためである。
以上説明したように本発明によれば、トランジスタを保
護し、大電力を安定に出力できるように制御できる。
護し、大電力を安定に出力できるように制御できる。
従って、プラズマ応用のプロセス安定化を可能とする。
第1図は本発明の第1の実施例を説明するブロック図。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するブロック図。
第3図は本発明の第3の実施例を説明するブロック図で
ある。 図において。 ■は発振器。 2はドライバアンプ。 3は出力アンプ(分割、増幅9合成回路)。 4は方向性結合器。 4Aは反射電力モニタ。 4BはV、モニタ。 5、5A、 5Bはコントローラ
ある。 図において。 ■は発振器。 2はドライバアンプ。 3は出力アンプ(分割、増幅9合成回路)。 4は方向性結合器。 4Aは反射電力モニタ。 4BはV、モニタ。 5、5A、 5Bはコントローラ
Claims (3)
- (1)トランジスタ型高周波電源において、入射電力と
実効値電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力
制御を入射電力制御に切り換えることを特徴とする高周
波電源の制御方法。 - (2)トランジスタ型高周波電源において、反射電力が
基準値に達すると出力を低減し、反射電力が基準値以下
になると設定値出力に復帰することを特徴とする高周波
電源の制御方法。 - (3)トランジスタ型高周波電源において、トランジス
タのコレクタ電圧が基準値に達すると、電力制御から電
圧値を一定にした電流制御に切り換えることを特徴とす
る高周波電源の制御方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25678187A JPH0199116A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 高周波電源の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25678187A JPH0199116A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 高周波電源の制御方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0199116A true JPH0199116A (ja) | 1989-04-18 |
Family
ID=17297358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25678187A Pending JPH0199116A (ja) | 1987-10-12 | 1987-10-12 | 高周波電源の制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0199116A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007317458A (ja) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波利用装置 |
JP2010080185A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Panasonic Corp | マイクロ波加熱装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56159087A (en) * | 1980-05-13 | 1981-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heater |
JPS57118412A (en) * | 1981-01-14 | 1982-07-23 | Nec Corp | High-frequency power amplifier |
JPS57194500A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Tokyo Shibaura Electric Co | High frequency heat controller for plasma |
-
1987
- 1987-10-12 JP JP25678187A patent/JPH0199116A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56159087A (en) * | 1980-05-13 | 1981-12-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High frequency heater |
JPS57118412A (en) * | 1981-01-14 | 1982-07-23 | Nec Corp | High-frequency power amplifier |
JPS57194500A (en) * | 1981-05-26 | 1982-11-30 | Tokyo Shibaura Electric Co | High frequency heat controller for plasma |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007317458A (ja) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マイクロ波利用装置 |
JP2010080185A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Panasonic Corp | マイクロ波加熱装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2710467B2 (ja) | プロセシング・プラズマのac特性を特徴付ける装置 | |
US6703080B2 (en) | Method and apparatus for VHF plasma processing with load mismatch reliability and stability | |
JP2010521041A (ja) | 無線周波数電力増幅器安定化回路網 | |
JP2007103102A (ja) | 高周波電源装置 | |
US6922093B2 (en) | Radio frequency amplifier and method of driving the same | |
JP4122467B2 (ja) | 高周波放電装置及び高周波処理装置 | |
JPH0199116A (ja) | 高周波電源の制御方法 | |
TWI266474B (en) | Radio frequency power amplifier active self-bias compensation circuit | |
JPH0576045B2 (ja) | ||
JP3812862B2 (ja) | プラズマ装置 | |
JPH11233294A (ja) | 高周波電源 | |
JP3209922B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
JP2002185270A (ja) | 電力増幅器および通信機器 | |
JPH03248612A (ja) | 高周波電力増幅器 | |
CN216646631U (zh) | 基于实时操作系统的微波功率源 | |
JP3582243B2 (ja) | 入力切換回路 | |
JP2760318B2 (ja) | マイクロ波管用高圧電源 | |
JP3290679B2 (ja) | 直列電圧制御装置 | |
JP3951804B2 (ja) | フィードフォワード増幅器 | |
JPH02142209A (ja) | 高周波電力増幅器 | |
JP3008038B2 (ja) | 平行平板型プラズマ装置 | |
JP2002252529A (ja) | 高周波電力増幅器 | |
JPH08256018A (ja) | 高周波直線増幅器の消費電力制御回路 | |
KR20070030964A (ko) | 부하 부정합 신뢰성 및 안정성을 갖는 vhf 플라즈마처리 방법 및 장치 | |
JPH07114999A (ja) | プラズマ装置用rf電源 |