JPH0199116A - 高周波電源の制御方法 - Google Patents

高周波電源の制御方法

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JPH0199116A
JPH0199116A JP25678187A JP25678187A JPH0199116A JP H0199116 A JPH0199116 A JP H0199116A JP 25678187 A JP25678187 A JP 25678187A JP 25678187 A JP25678187 A JP 25678187A JP H0199116 A JPH0199116 A JP H0199116A
Authority
JP
Japan
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electric power
power
transistor
control
output
Prior art date
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Pending
Application number
JP25678187A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Yano
弘 矢野
Masashi Shimonaga
下永 政司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 プラズマ処理装置やスパッタ装置等に用いられるトラン
ジスタ型高周波電源の制御方法に関し。
トランジスタを保護し、大電力を安定に出力できるよう
に制御して、プラズマ応用のプロセス安定化を目的とし
トランジスタ型高周波電源において、入射電力と実効値
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換えるように構成する。あるいは反
射電力が基準値に達すると出力を落とし9反射電力が基
準値以下になると設定値出力に復帰するように構成する
。あるいはトランジスタのコレクタ電圧が基準値に達す
ると。
電力制御から電圧値を一定にした電流制御に切り換える
ように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラズマ処理装置やスパッタ装置等に用いられ
るトランジスタ型高周波電源の制御方法に関する。
近年、半導体装置製造プロセスに使用されるドライエツ
チング、プラズマ気相成長(CVD)、  スパッタ等
にトランジスタ型高周波(rf : 13.56 MH
z)電源が用いられるようになってきた。
〔従来の技術〕
従来、上記rf電源は高出力トランジスタが得られなか
ったため真空管式が一般的であったが。
最近漸< 200W級のパワートランジスタが入手でき
るようになり、2KW程度のトランジスタ型rf電源が
製造されるようになった。
従来のトランジスタ型rf電源の制御は、真空管式の場
合と同様に入射電力制御か、あるいは過負荷に対する過
電流を切断する程度の簡単なものであった。
■ 入射電力制御方式 この方式は単純に負荷への入射電力を制御することによ
り一定の電力が供給できるようにしたものである。
■ 実効値制御方式 プラズマ応用のプロセス安定のために上記の入射電力制
御に代わって実効値制御方式が用いられている。
実効値制御方式は、負荷に対し 実効値電力=入射型カー反射電力 を実効電力として制御する方式で、負荷変動による反射
電力の変動を最小にすることにより、プラズマ負荷に対
して一定の電力を供給でき、安定なプロセスが可能とな
る。
このように、実効値電力制御方式はプロセス制御には不
可欠であるが、負荷変動により反射電力が増加して(る
と、入射電力増大による熱のためにトランジスタは破壊
することがあった。−〔発明が解決しようとする問題点
〕 トランジスタの欠点は高価で、しかも壊れやすいことで
あり、そのためトランジスタを破壊しないで大電力を安
定に供給できるように制御することが問題である。
また、大電力を安定に供給できることはプラズマ応用の
プロセス安定につながり、極めて重要な課題である。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点の解決は。
トランジスタ型高周波電源において、入射電力と実効値
電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力制御を
入射電力制御に切り換える高周波電源の制御方法、ある
いは トランジスタ型高周波電源において2反射電力が基準値
に達すると出力を低減し2反射電力が基準値以下になる
と設定値出力に復帰する高周波電源の制御方法、あるい
は トランジスタ型高周波電源において、トランジスタのコ
レクタ電圧が基準値に達すると、電力制御から電圧値を
一定にした電流制御に切り換える高周波電源の制御方法
により達成される。
〔作用〕
本発明は。
プロセス制御に有効な実効値制御方式においては。
(1)入射電力/実効値電力が基準値以下になった場合
に実効値電力制御を入射電力制御に切り換える。
(2)反射電力が基準値に達すると出力を落とし。
反射電力が基準値以下になると設定値出力に復帰する。
一方、いずれの制御方式に対しても負荷変動(例えば低
圧力等の高インピーダンス化)により。
出力電圧がトランジスタの最大定格電圧を越えるとトラ
ンジスタが破壊されるので。
(3)トランジスタのコレクタ電圧が基準値に達すると
、電力制御から電圧値を一定にした電流制御に切り換え
る。
以上いずれかの制御方法により、トランジスタを保護し
、安定なプロセスを可能としたものである・。
〔実施例〕
第1図は本発明の第1の実施例を説明するブロック図で
ある。
図において、1は発振器(EXC) 、  2はドライ
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4は方向性結合器(DC)、  5はコントローラであ
る。
出力アンプ3は、トランジスタ1個の出力が高々200
臀程度であるので、複数の出力アンプに分割して増幅し
た後に合成する回路である。
方向性結合器4は負荷への入射電力と反射電力をモニタ
する。
コントローラ5は実効値電力制御か、入射電力制御のい
ずれかに切り換えができる。
上記の構成において、入射電力/実効値電力が基準値1
例えば0.8以下になった場合に、実効値電力制御を入
射電力制御に切り換える。
第2図は本発明の第2の実施例を説明するブロック図で
ある。
図において、■は発振器(EXC) 、  2.はドラ
イバアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅2合成回路)
、4Aは反射電力モニタ、 5Aはコントローラである
上記の構成において、コントローラ5Aは反射電力の絶
対値が基準値1例えば2 KW電源なら800Wに達し
たら、出力を低減させ2反射電力が減少して1例えば6
00Wに達したら、設定値電力に復帰させるように制御
している。
第3図は本発明の第3の実施例を説明するブロック図で
ある。
図において、1は発振器(EXC) 、  2はドライ
バアンプ、3は出力アンプ(分割、増幅1合成回路)、
4Bはコレクタ電圧(V、)モニタ、 5Bはコントロ
ーラである。
上記の構成において、コントローラ5Bは前記のように
負荷変動によって出力電圧がトランジスタの最大定格電
圧1例えば100 Vの0.8倍を越えた場合に電圧制
御から電流制御に切り換えるように制御している。
この場合、常時電圧制御にしているのは、ジュール熱に
よる損失を低減するためである。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、トランジスタを保
護し、大電力を安定に出力できるように制御できる。
従って、プラズマ応用のプロセス安定化を可能とする。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を説明するブロック図。 第2図は本発明の第2の実施例を説明するブロック図。 第3図は本発明の第3の実施例を説明するブロック図で
ある。 図において。 ■は発振器。 2はドライバアンプ。 3は出力アンプ(分割、増幅9合成回路)。 4は方向性結合器。 4Aは反射電力モニタ。 4BはV、モニタ。 5、5A、 5Bはコントローラ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)トランジスタ型高周波電源において、入射電力と
    実効値電力の比が基準値以下になった場合に実効値電力
    制御を入射電力制御に切り換えることを特徴とする高周
    波電源の制御方法。
  2. (2)トランジスタ型高周波電源において、反射電力が
    基準値に達すると出力を低減し、反射電力が基準値以下
    になると設定値出力に復帰することを特徴とする高周波
    電源の制御方法。
  3. (3)トランジスタ型高周波電源において、トランジス
    タのコレクタ電圧が基準値に達すると、電力制御から電
    圧値を一定にした電流制御に切り換えることを特徴とす
    る高周波電源の制御方法。
JP25678187A 1987-10-12 1987-10-12 高周波電源の制御方法 Pending JPH0199116A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007317458A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd マイクロ波利用装置
JP2010080185A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Corp マイクロ波加熱装置

Citations (3)

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JPS56159087A (en) * 1980-05-13 1981-12-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd High frequency heater
JPS57118412A (en) * 1981-01-14 1982-07-23 Nec Corp High-frequency power amplifier
JPS57194500A (en) * 1981-05-26 1982-11-30 Tokyo Shibaura Electric Co High frequency heat controller for plasma

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