JP2007305772A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置および半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007305772A JP2007305772A JP2006132471A JP2006132471A JP2007305772A JP 2007305772 A JP2007305772 A JP 2007305772A JP 2006132471 A JP2006132471 A JP 2006132471A JP 2006132471 A JP2006132471 A JP 2006132471A JP 2007305772 A JP2007305772 A JP 2007305772A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal block
- semiconductor device
- insulating layer
- manufacturing
- ceramic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45015—Cross-sectional shape being circular
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/4901—Structure
- H01L2224/4903—Connectors having different sizes, e.g. different diameters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4911—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
- H01L2224/49111—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting two common bonding areas, e.g. Litz or braid wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/922—Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92247—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19107—Disposition of discrete passive components off-chip wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
Abstract
電気的な絶縁性能、および、熱伝導性能が良好であることに加え、機械的にも強固な構造の電気絶縁部を形成して大電力に適用可能とした半導体装置を提供する。また、これら機能を実現するような半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
金属ブロック13の下面にエアロゾルデポジション法またはプラズマ溶射法により、複数のセラミクス微粒子を衝突させることにより接合されて形成されたセラミクス層を形成するる。
【選択図】 図1
Description
また、これらのような半導体装置の製造方法に関する。
このような半導体装置の従来技術は、例えば、半導体素子、絶縁基板、金属板による積層体を樹脂ケースでパッケージジングした構造体とし、さらにこの構造体を冷却体へ取付けたものが知られている。構造体と冷却体との固着には、サーマルコンパウンドを使用している。
これら従来技術のうち樹脂シートを用いる半導体装置について図を参照しつつ説明する。図6は、従来技術の半導体装置を概念的に示した図である。
発熱量が大きい半導体素子1が半田2を介して金属板3の上に機械的・熱的に接続されている。さらに、この金属板3は樹脂シート4を介して冷却体5の上に固着されている。この樹脂シート4は金属板3と冷却体5との電気的絶縁を確保する。また、樹脂シート4は熱抵抗が低く、熱伝導性に優れている。このような半導体装置1000では、半導体素子1で発した熱が、半田2、金属板3、樹脂シート4を介して冷却体5へ伝わり、冷却体5が放熱する。これにより半導体装置1000の温度上昇を抑えるものである。このような半導体装置1000では熱抵抗が高いサーマルコンパウンドを使用しないため、放熱特性の向上を可能とする。
絶縁基板2000は、セラミックス板6、下側回路パターン部7、上側回路パターン部8を備えている。
また、放熱特性の向上を図る半導体装置の他の従来技術として、例えば、特許文献2の発明が開示されている。この、特許文献2ではリードフレームとヒートシンクとの間に高熱伝導樹脂を充填する技術が開示されている。
フルモールド半導体モジュールは、図8に示すように、リードフレーム13の上にパワー半導体11、その制御IC11’を実装し、ワイヤ(接続部)16にて相互に接続されている。このように接続が完了した時点で、図示しない金型にセットし、封止樹脂15を注入・硬化させて樹脂封止し、フルモールド半導体モジュールを構成する。図9はフルモールド半導体モジュールの他の例で、ヒートシンク(冷却体)を備え、リードフレームをヒートシンク33とともにモールドしたものである。また図10には金属絶縁基板3000上にパワー半導体,制御ICを配置し、実装・接続した後、素子搭載面をモールドしたものである。金属絶縁基板は、金属ベース板上に絶縁層を介して回路パターンを形成したものであり、金属ベース板がヒートシンクの機能を備えるものである。
また、製造コストを低減するためのフルモールド半導体モジュールでは、大容量化ができないという課題があった。すなわち、電流容量が50Aを超えると、パワー半導体での損失も大きくなるとともに、損失による発熱が大きくなってしまい、封止樹脂の冷却特性が不十分となってしまう。これに対し、図8のような構成では、底部の封止樹脂の厚さを薄くすればよいのであるが、成形樹脂の充填性を確保(充填後の割れ・はがれ等を防ぐ)するには、300μm程度の厚みが必要となり、放熱を妨げていた。
図10のように、金属絶縁基板を用いるとパワー半導体下部の熱抵抗を小さくすることができるが、金属絶縁基板を別途用意する必要があり、リードフレームを用いた構成に比べ工数が増えコストの増大を招いてしまうという問題があった。
また、複数の半導体素子を搭載した半導体モジュールについても同様である。
また、請求項2にかかる発明の半導体装置は、請求項1に記載の半導体装置において、前記絶縁層は、前記金属ブロックの下面に連接する側面の一部または全部を覆うものとする。
請求項4にかかる発明の半導体装置は、請求項3に記載の半導体装置において、前記半導体素子を接合した金属ブロックを複数組み合わせてなり、前記リード端子が外部に引き出された状態で前記成型樹脂にて前記複数の金属ブロックの少なくとも上面を前記成型樹脂にて一括して封止するものである。
請求項6にかかる発明の半導体装置は、請求項3〜請求項5の何れか一項に記載の半導体装置において、半導体素子−金属ブロック間,金属ブロック−リード端子間,半導体素子−リード端子間のうち、所定の箇所に架設される接続部により配線(ワイヤボンディングなど)するものである。
請求項8にかかる発明の半導体装置は、請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の半導体装置において、前記金属ブロックは、上面から下面までの厚さが1.0〜4.0mmであるものとする。
請求項10にかかる半導体装置の製造方法は、上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、エアロゾルデポジション法により、多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記金属ブロックの上面に半導体素子を接合する工程と、を備えるものとする。
請求項15にかかる半導体装置の製造方法は、上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、プラズマ溶射法により、多数のセラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、前記金属ブロックの上面に半導体素子接合する接合工程と、前記絶縁層を外部に露出し、前記金属ブロックに接続されたリード端子を外部に引き出した状態で封止して樹脂パッケージを形成する封止工程と、を備えるものとする。
請求項19にかかる半導体装置の製造方法は、請求項10〜請求項17の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、前記金属ブロックは厚さが1.0mm〜4.0mmのものを用いるものとする。
また、これら機能を実現するような半導体モジュールの製造方法、および、半導体装置の製造方法を提供することができる。
図1は本形態の半導体装置の構成図である。この半導体装置は、詳しくはIGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor )などのパワー半導体素子を搭載したパワー半導体装置であり、さらに複数のパワー半導体素子を搭載したパワーモジュールでの適用が好適である。以下において、複数のパワー半導体素子を搭載したものを半導体モジュールといい、半導体モジュールを例に説明する。
ところで、金属ブロックの厚さが4.0mmより大きくなると、半導体素子から外部のヒートシンクまでの熱抵抗が大きくなってしまい、かえって放熱を妨げることとなる。
半導体素子11は金属ブロック13に電気的・機械的に接合されており、接合には半田12が用いられている。接合に用いる部材としては他にろう材を用いたり、導電性の接着剤を用いることもできる。熱伝導性や導電性,製造コスト等を勘案すると、半田による接合が有利である。半導体素子11と金属ブロック13とを直接接合する場合はこれら接合のための層は不要となる。
半田12は、半導体素子11の裏面電極と、金属ブロック13の電気回路とを電気的に接続する。これにより、金属ブロック13による電気回路と半導体素子11とによる電力変換回路が形成される。なお、ここでは図示しないが、上記の構成に加え、金属ブロック13あるいはリード端子17に前記半導体素子11の駆動回路(ICなど)を搭載し、IPM(Intelligent Power Module)として構成することもできる。また、抵抗、コンデンサ、インダクタなどの機能を有した表面実装用のチップ・素子である電子部品も半田付けされて搭載することが可能である
また、半田12は、半導体素子11を金属ブロック13に機械的に固着する機能も有している。
金属ブロック13に形成される絶縁層14は、エアロゾルデポジション法またはプラズマ溶射法によりセラミックスを堆積させて形成したセラミックス層である。
なお、数10nm〜1μm程度のセラミックス微粒子としては、酸化アルミニウム,窒化珪素,窒化アルミニウム,窒化ホウ素,酸化珪素,の少なくとも1種によるセラミックス粒子を用いればよい。このように、少なくとも1種のセラミックス微粒子を用いることにより、粒界が判別できない程度の緻密な絶縁層を形成することができる。エアロゾルデポジション法は常温での作業化可能である。
仮に酸化アルミニウム(Al2O3)のセラミックス板6では、破壊電圧を考慮して一般に250〜635μm厚さの基板が使用されるが、本発明の絶縁層14では破壊電圧が高くなるため、絶縁層の厚さを薄くすることができ、厚くとも500μm程度の厚さがあれば、従来技術と同様の破壊電圧を確保できる。このため、金属ブロック13および絶縁層14を合わせた厚さを薄くできることとなり、金属ブロック13および絶縁層14の熱抵抗を大幅に低減できる。
まず、図2(a)で示すように、エアロゾルデポジション法により、径が5nm〜1μm程度である多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して金属ブロック13の下面に衝突させることにより、厚さが50μm〜500μm程度の常温衝撃固化膜のであるセラミックス層を成長させる。図2(b)で示すように、セラミックス微粒子の粒界が破壊されセラミックスが接合された構造物のセラミックス層である絶縁層14を形成する(絶縁部形成工程)。この工程では金属ブロック13の下面のみ露出するように側面をマスキングした上でセラミックス微粒子を吹き付けることで、下面にのみ絶縁層14が形成される。
続いて、図2(d)の如く、半導体素子搭載面の所望の部位を樹脂封止する(封止工程)。このようにして半導体モジュール10を完成させる。
(1)絶縁耐圧が向上する。
エアロゾルデポジション法では室温(常温)で成膜が可能であり、かつ音速レベルのスピードでサブミクロンオーダーのセラミックス微粒子を基板に衝突させるため、活性な新生面が露出したセラミックス微粒子が結合する。また、プラズマ溶射法によれっても同様である。いずれの方法においても、非常に緻密な電気絶縁膜であるセラミックス微粒子層を形成することが可能となり、膜内に空孔(ボイド)が含まれないため、従来の焼結法により形成されたセラミックス板よりも単位長さ当たりの破壊電圧が10倍程度向上する。
(2)熱抵抗を低くする。
これら(1),(2)のように高絶縁と低熱抵抗とを共に確保することが可能となる。また、セラミックス微粒子を金属ブロックに堆積させるため、機械的に強固に固着させることができる。
従来技術の図10で示したセラミックス板6と本形態の絶縁層14とを比較すると、同程度の絶縁性、曲げ強度を確保する場合、従来技術のセラミックス板6が250μm以上の厚さを必用とするのに対し、本形態の絶縁層14では厚さを1/10程度に薄くできる。
続いて、半導体モジュール10のさらに詳しい製造工程を説明する。図3A,図3Bは図1(a)に示した半導体モジュール10の製造工程を示す図である。
図3A(a)はリードフレーム状部材130の上面図、(b)は同じく正面図、(c)は(a)のA−A線の矢視断面図である。
図3A(a)において、複数のリード端子17が一体に構成されたリードフレーム状の部材130と、上記の工程を終えた金属ブロック13a,13bを所定の位置に配置する。
図3D(a)ではIGBT11aのエミッタ電極とFWD11cのアノード電極をアルミワイヤ16でリード端子17dにそれぞれワイヤボンディングで接続する。アルミワイヤには線径が125μm〜500μm程度のものを超音波接合する。IGBTの駆動ICをさらに搭載してIPMを構成する場合、駆動ICには線径が10μm程度の金ワイヤを用いる。このようにして、IGBT11aとFWD11cの並列回路(第1並列回路)を形成する。同様に、IGBT11bのエミッタ電極とFWD11dのアノード電極を接続部としてのアルミワイヤ16でリード端子17bにそれぞれワイヤボンディングで接続し、IGBT11bとFWD11dの並列回路(第2並列回路)を形成する。また、IGBT11a,11bのゲート端子は同様にワイヤボンディングにてリード端子17a,17eにそれぞれ接続される。第1並列回路と第2並列回路はリード端子13bにより直列に接続され、インバータなど電力変換装置に用いる1アームに相当する回路を構成する。ここで、リード端子17bは、上記1アームの出力端子となる。等価回路を図3A(c)に示す。なお、ボンディングワイヤはアルミワイヤに限るものではないし、ワイヤボンディングに代えて、金属板による接続としても良い。図3A(b)は同図(a)のA−Aの矢視断面図である。
そして、樹脂封止が完了した後、タイバー131を図3Bの一点差線で示す位置にて切断し、樹脂封止部分より外部へ導出されたリード端子17を独立させる。そして、必用に応じて図3B(c)に示すようにリード端子17を折り曲げても良い。
次に、半導体モジュールの製造方法の他の形態について説明する。図4は、半導体モジュール10’の製造方法を概念的に示した図である。
まず、図4(a)で示すように、半導体素子11の裏面電極と金属ブロック13との間を半田12によって電気的に接続するとともに、半導体素子11を金属ブロック13に機械的に固着する(固着工程)。
続いて、半導体モジュール10’のさらに詳しい製造工程を説明する。図5A,図5Bは図1(b)に示した半導体モジュール10’の製造工程を示す図である。図3と同様の構成については同じ符号を付し、説明を省略する。
図5A(a)は上面図、(b)は(a)のA−A線の矢視断面図である。
まず、図4(a)で説明したように、金属ブロック13aの上面にIGBT11a,FWD(Free Wheeling Diode)11cを、金属ブロック13bの上面にIGBT11b,FWD11dをそれぞれ半田にて接合する。半田接合は、金属ブロックと半導体素子との接合面の表面酸化膜を除去し、半田の濡れ性を向上させるために、例えば、水素還元雰囲気において行えばよい。このときの半田には、例えば、Sn−Pb−Agからなる高温半田、あるいはSn−Ag−Cu系の鉛フリー半田を用いる。環境面への配慮からPbフリー半田の使用が望ましい。半導体素子と金属ブロックとの間の半田の中にボイドが残留すると、熱抵抗が高くなってしまうので、これを防ぐために半田が溶融している状態で10Torr以下まで減圧するとよい。
図5A(a)ではIGBT11aのエミッタ電極とFWD11cのアノード電極を接続部としてのアルミワイヤ16でリードフレーム17dにそれぞれワイヤボンディングで接続し、IGBT11aとFWD11cの並列回路(第1並列回路)を形成し、同様に、IGBT11bのエミッタ電極とFWD11dのアノード電極をアルミワイヤ16でリード端子17bにそれぞれワイヤボンディングで接続し、IGBT11bとFWD11dの並列回路(第2並列回路)を形成する。また、IGBT11a,11bのゲート電極は同様にワイヤボンディングにてリード端子17a,17eにそれぞれ接続される。第1並列回路と第2並列回路はリード端子17bにより直列に接続され、インバータなど電力変換装置に用いる1アームに相当する回路を構成する。ここで、リード端子17bは、上記1アームの出力端子となる。等価回路は図3D(c)に示したものと同じである。なお、ボンディングワイヤはアルミワイヤに限るものではないし、ワイヤボンディングに代えて、金属板による接続としても良い。
そして、絶縁層14が形成された後、タイバー131を図5B(c)の一点差線で示す位置にて切断し、封止樹脂15より外部へ導出されたリード端子17を独立させる。そして、必用に応じて図5B(d)に示すようにリード端子17を折り曲げても良い。
また、パワーモジュール以外に、CPU・CCD・メモリなど信号を扱う半導体であっても、放熱特性が考慮される場合には適用しても良い。また、CPU・CCD・メモリの場合は横型半導体素子であることが一般的であるが、横型半導体素子であって例えば裏面電極が形成されてない場合でも、側面に突出して形成されている端子と電気回路とを半田で接続して熱経路・電気経路を形成すれば、本形態の効果を奏しうるものとなる。
銅,銅合金,アルミニウム,アルミニウム合金は、導電性,熱伝導性に優れ、プレス加工で成型でき、また安価であるので、特性,加工性,低コストなど有利である。プレス加工によれば、金属ブロックのコーナ部をR形状とすることも容易である。
また、半導体モジュールを高熱伝導樹脂を用い、冷却体に取付けることで、接触熱抵抗を排除でき、低Tjを安定的に実現できる半導体装置の提供が可能となる。
11,11a,11b:半導体素子
12:半田
13,13a,13b:金属ブロック
14,:絶縁層
15:封止樹脂
16:ワイヤ
17:リード端子
Claims (20)
- 上面と下面を有する金属ブロックと、
前記金属ブロックの上面に接合された半導体素子と、
前記金属ブロックの少なくとも下面に直接形成したセラミックスの絶縁層と、
前記絶縁層を露出させて前記金属ブロックの少なくとも上面を封止する成型樹脂と、
からなる半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記絶縁層は、前記金属ブロックの下面に連接する側面の一部または全部を覆うことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1または請求項2に記載の半導体装置において、
前記金属ブロックに電気的に接続されるリード端子を備え、
該リード端子が外部に引き出された状態で前記金属ブロックの少なくとも上面を前記成型樹脂にて封止したことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載の半導体装置において、
前記半導体素子を接合した金属ブロックを複数組み合わせてなり、
前記リード端子が外部に引き出された状態で前記成型樹脂にて前記複数の金属ブロックの少なくとも上面を前記成型樹脂にて一括して封止したことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3または請求項4の何れか一項に記載の半導体装置において、
前記絶縁層は、前記金属ブロックの下面および該金属ブロックの下面と略同一面にて連続する前記成型樹脂面を覆うことを特徴とする半導体装置。 - 請求項3〜請求項5の何れか一項に記載の半導体装置において、
半導体素子−金属ブロック間,金属ブロック−リード端子間,半導体素子−リード端子間のうち、所定の箇所に架設される接続部により配線したことを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の半導体装置において、
前記絶縁層は、熱伝導率が20〜200W/m・Kであり、かつ厚さが50〜500μmであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の半導体装置において、
前記金属ブロックは、上面から下面までの厚さが1.0〜4.0mmであることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の半導体装置において、
前記絶縁層は、酸化珪素,酸化アルミニウム,窒化珪素,窒化ホウ素,窒化アルミニウムの少なくとも1種のセラミックス層であることを特徴とする半導体装置。 - 上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、エアロゾルデポジション法により、多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と
前記金属ブロックの上面に半導体素子を接合する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、エアロゾルデポジション法により、多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記金属ブロックの上面に半導体素子接合する接合工程と、
前記絶縁層を外部に露出し、前記金属ブロックに接続されたリード端子を外部に引き出した状態で封止して樹脂パッケージを形成する封止工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上面と下面を有する金属ブロックの上面に半導体素子を接合するする接合工程と、
前記金属ブロックの下面を外部に露出し、前記金属ブロックに接続されたリード端子を外部に引き出した状態で封止して樹脂パッケージを形成する封止工程と、
エアロゾルデポジション法により、多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して少なくとも回路パターン部の裏面に衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項12に記載の半導体装置の製造方法において、
エアロゾルデポジション法により、多数のセラミックス微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルから噴出して、前記金属ブロックの下面および該金属ブロックの下面と略同一面にて連続する前記樹脂パッケージ面に衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、プラズマ溶射法により、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と
前記金属ブロックの上面に半導体素子を接合する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上面と下面を有する金属ブロックの下面に対し、プラズマ溶射法により、多数のセラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記金属ブロックの上面に半導体素子接合する接合工程と、
前記絶縁層を外部に露出し、前記金属ブロックに接続されたリード端子を外部に引き出した状態で封止して樹脂パッケージを形成する封止工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上面と下面を有する金属ブロックの上面に半導体素子を接合するする接合工程と、
前記金属ブロックの下面を外部に露出し、前記金属ブロックに接続されたリード端子を外部に引き出した状態で封止して樹脂パッケージを形成する封止工程と、
プラズマ溶射法により、多数のセラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項16に記載の半導体装置の製造方法において、
プラズマ溶射法により、多数のセラミックス微粒子を、前記金属ブロックの下面および該金属ブロックの下面と略同一面にて連続する前記樹脂パッケージ面に衝突させることにより、前記セラミックス微粒子を接合させたセラミックス層による絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項10〜請求項17の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、
半導体素子−金属ブロック間,金属ブロック−リード端子間,半導体素子−リード端子間のうち、所定の箇所をワイヤボンディングにより配線する工程をさらに含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項10〜請求項17の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記金属ブロックは厚さが1.0mm〜4.0mmのものを用いたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項10〜請求項17の何れか一項に記載の半導体装置の製造方法において、
前記絶縁層の熱伝導率が20〜200W/m・Kであって、厚さが50〜500μmとなるように成膜することを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006132471A JP2007305772A (ja) | 2006-05-11 | 2006-05-11 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006132471A JP2007305772A (ja) | 2006-05-11 | 2006-05-11 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007305772A true JP2007305772A (ja) | 2007-11-22 |
JP2007305772A5 JP2007305772A5 (ja) | 2009-05-07 |
Family
ID=38839452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006132471A Pending JP2007305772A (ja) | 2006-05-11 | 2006-05-11 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007305772A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009146951A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Denso Corp | 樹脂モールドパッケージタイプの電子装置およびその製造方法 |
JP2011114010A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体モジュールおよびその製造方法ならびに電気機器 |
JP2013034029A (ja) * | 2008-04-09 | 2013-02-14 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
WO2013065316A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 富士電機株式会社 | 電力変換器 |
JP2014007294A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2014179415A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Ngk Insulators Ltd | 放熱基板の製造方法、及び当該方法によって製造される放熱基板 |
US9245832B2 (en) | 2012-07-17 | 2016-01-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor module |
JP2016105523A (ja) * | 2016-03-10 | 2016-06-09 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
WO2017150572A1 (ja) | 2016-03-01 | 2017-09-08 | 新日鐵住金株式会社 | セラミックス積層体 |
US10483179B2 (en) | 2017-01-17 | 2019-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device with sealing portion to suppress connection corrosion |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1187573A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-30 | Goto Seisakusho:Kk | ヒートシンクを備えた樹脂封止型半導体装置 |
JP2003078101A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Hitachi Ltd | 半導体装置とそれに用いられるリードフレームとその製造方法 |
JP2005005638A (ja) * | 2003-04-15 | 2005-01-06 | Fuji Electric Fa Components & Systems Co Ltd | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
-
2006
- 2006-05-11 JP JP2006132471A patent/JP2007305772A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1187573A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-03-30 | Goto Seisakusho:Kk | ヒートシンクを備えた樹脂封止型半導体装置 |
JP2003078101A (ja) * | 2001-09-06 | 2003-03-14 | Hitachi Ltd | 半導体装置とそれに用いられるリードフレームとその製造方法 |
JP2005005638A (ja) * | 2003-04-15 | 2005-01-06 | Fuji Electric Fa Components & Systems Co Ltd | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009146951A (ja) * | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Denso Corp | 樹脂モールドパッケージタイプの電子装置およびその製造方法 |
JP2013034029A (ja) * | 2008-04-09 | 2013-02-14 | Fuji Electric Co Ltd | 半導体装置 |
US8673691B2 (en) | 2008-04-09 | 2014-03-18 | Fuji Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing a semiconductor device |
JP2011114010A (ja) * | 2009-11-24 | 2011-06-09 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 半導体モジュールおよびその製造方法ならびに電気機器 |
WO2013065316A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 富士電機株式会社 | 電力変換器 |
JPWO2013065316A1 (ja) * | 2011-11-02 | 2015-04-02 | 富士電機株式会社 | 電力変換器 |
JP2014007294A (ja) * | 2012-06-25 | 2014-01-16 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JPWO2014013705A1 (ja) * | 2012-07-17 | 2016-06-30 | 富士電機株式会社 | 半導体モジュール |
US9245832B2 (en) | 2012-07-17 | 2016-01-26 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor module |
JP2014179415A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Ngk Insulators Ltd | 放熱基板の製造方法、及び当該方法によって製造される放熱基板 |
WO2017150572A1 (ja) | 2016-03-01 | 2017-09-08 | 新日鐵住金株式会社 | セラミックス積層体 |
KR20180116380A (ko) | 2016-03-01 | 2018-10-24 | 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 | 세라믹스 적층체 |
US10889900B2 (en) | 2016-03-01 | 2021-01-12 | Nippon Steel Corporation | Ceramic laminate |
JP2016105523A (ja) * | 2016-03-10 | 2016-06-09 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
US10483179B2 (en) | 2017-01-17 | 2019-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Semiconductor device with sealing portion to suppress connection corrosion |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6332439B2 (ja) | 電力変換装置 | |
JP5757314B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2007305772A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
JP4023397B2 (ja) | 半導体モジュールおよびその製造方法 | |
KR102585450B1 (ko) | 브레이징된 전기 전도성 층을 포함하는 칩 캐리어를 구비한 몰딩된 패키지 | |
JP6004094B2 (ja) | パワー半導体モジュールおよびその製造方法、電力変換器 | |
JP2006179856A (ja) | 絶縁基板および半導体装置 | |
US9245832B2 (en) | Semiconductor module | |
US7682875B2 (en) | Method for fabricating a module including a sintered joint | |
EP2835823B1 (en) | Power converter | |
JP3390661B2 (ja) | パワーモジュール | |
JP5246143B2 (ja) | 半導体モジュールおよびその製造方法ならびに電気機器 | |
CN104051397B (zh) | 包括非整数引线间距的封装器件及其制造方法 | |
JP4784150B2 (ja) | 半導体装置および、半導体装置の製造方法 | |
JP5861846B2 (ja) | 電力変換器およびその製造方法 | |
US11626351B2 (en) | Semiconductor package with barrier to contain thermal interface material | |
CN110648983A (zh) | 散热器件、半导体封装系统及其制造方法 | |
CN107154393B (zh) | 电力电子模块 | |
JP6472568B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4492257B2 (ja) | 半導体モジュールおよびその製造方法 | |
JP2014030059A (ja) | 絶縁基板、その製造方法、半導体モジュールおよび半導体装置 | |
CN117438386A (zh) | 半导体装置、半导体装置的制造方法及电力转换装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20081216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20090219 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090313 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090319 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20091112 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110404 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110422 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110822 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20110829 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20111202 |