JP2007302998A - 電気めっき層の磁気特性制御方法、磁性層の電気めっき方法、磁性層の製造方法、磁気ヘッドの製造方法およびそれに用いるめっき浴 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電解析出層の中に含まれることとなる全ての元素を溶液中に含有するめっき浴を用意し、そのめっき浴に、約0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度でアリールスルフィネートを加え、電気めっき処理を行う。これにより、アリールスルフィネートを含まないめっき浴から電解析出された層の磁気特性とは異なる磁気特性を有する電解析出層を得る。この電解析出層は、磁気ヘッドに用いることができる。
【選択図】図1
Description
(実施例1)
基板をシード層として磁性層を析出させた。その際、めっき浴としては、0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度のアリールスルフィネートと、0g/l以上70g/l以下の濃度の硫酸ニッケル六水和物と、25g/l以上120g/l以下の濃度の硫酸鉄七水和物と、10g/l以上60g/l以下の濃度の硫酸コバルト六水和物と、20g/l以上30g以下の濃度のホウ酸と、0.5g/l以上30g/l以下の濃度の塩化ナトリウムと、0g/l以上0.15g/l以下の濃度の界面活性剤とを含み、pHを2以上3以下に調整したものを用いた。そして、5mA/cm2 以上30mA/cm2 以下の順方向ピーク電流密度、10mA/cm2 以下の逆方向ピーク電流密度、5ms以上100ms以下の順方向印加時間、30ms以下の逆方向出力時間、および10℃以上25℃以下のめっき浴温度、という条件の下で非対称交流電流を印加し、磁性層を析出させた。
めっき浴として、アリールスルフィネートを加えなかったことを除き、実施例1と同様の手順を経た。
シード層としてCoFeNi(コバルト−鉄−ニッケル;実施例2−1)、Cu(銅;実施例2−2)、NiFe(ニッケル−鉄;実施例2−3)あるいはRu(ルテニウム;実施例2−4)を用いたことを除き、実施例1と同様の手順を経た。
磁性層にニッケルを含むように形成したことを除き、実施例1−1と同様の手順を経た。
磁性層にニッケルを含まないように形成したことを除き、実施例1−1と同様の手順を経た。
Claims (17)
- 電気めっきにより形成される電解析出層の磁気特性を制御する方法であって、
前記電解析出層の中に含まれることとなる全ての元素を溶液中に含有するめっき浴を用意するステップと、
前記めっき浴に、約0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度でアリールスルフィネート(aryl sulfinates)を加えるステップと、
前記めっき浴を用いた電気めっき処理を行うことにより、アリールスルフィネートを含まないめっき浴から電解析出された層の磁気特性とは異なる磁気特性を有する前記電解析出層を得るステップと
を含むことを特徴とする電気めっき層の磁気特性制御方法。 - 前記電解析出層を、飽和磁化が2.4[T;テスラ]以上であり、かつ保磁力が75/π[A/m]よりも小さいという磁気特性を有するように形成する
ことを特徴とする請求項1記載の電気めっき層の磁気特性制御方法。 - 前記電解析出層を、ルテニウムからなるシード層の上に析出する
ことを特徴とする請求項1記載の電気めっき層の磁気特性制御方法。 - 0g/l以上70g/l以下の濃度の硫酸ニッケル六水和物(NiSO4 ・6H2 O)と、25g/l以上120g/l以下の濃度の硫酸鉄七水和物(FeSO4 ・7H2 O)と、10g/l以上60g/l以下の濃度の硫酸コバルト六水和物(CoSO4 ・6H2 O)と、20g/l以上30g以下の濃度のホウ酸(H3 BO3 )と、0.5g/l以上30g/l以下の濃度の塩化ナトリウム(NaCl)と、0g/l以上0.15g/l以下の濃度の界面活性剤と、0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度のアリールスルフィネートとを含むめっき浴を用意するステップと、
前記めっき浴のpHを2以上3以下に調整するステップと、
ニッケルおよびコバルトよりなる群から陽極を選択するステップと、
5mA/cm2 以上30mA/cm2 以下の順方向ピーク電流密度、10mA/cm2 以下の逆方向ピーク電流密度、5ms以上100ms以下の順方向印加時間、30ms以下の逆方向出力時間、および10℃以上25℃以下のめっき浴温度、という条件の下で非対称交流電流を印加することにより、前記めっき浴から基板上に、低保磁力と高飽和磁化とを有する磁性層を析出させるステップと
を含むことを特徴とする磁性層の電気めっき方法。 - 前記磁性層を、2.4[T;テスラ]以上の飽和磁化と75/π[A/m]よりも小さい保磁力とを有するように形成する
ことを特徴とする請求項4記載の磁性層の電気めっき方法。 - 前記基板がルテニウムよりなるシード層であるようにする
ことを特徴とする請求項4記載の磁性層の電気めっき方法。 - 前記磁性層を、0.3μm以上3μm以下の厚さに析出させる
ことを特徴とする請求項4記載の磁性層の電気めっき方法。 - 前記磁性層を、塩化ナトリウム溶液中における腐食電位が−0.18Vであり、−0.05V電位における陽極電流密度が10−5A/cm2 である、という高い耐食性を有するように形成する
ことを特徴とする請求項4記載の磁性層の電気めっき方法。 - 前記磁性層を、250MPaよりも小さい内部応力を有するように形成する
ことを特徴とする請求項4記載の磁性層の電気めっき方法。 - 電気めっきにより形成される磁性層の製造方法であって、
前記磁性層の中に含まれることとなる全ての元素を溶液中に含有するめっき浴を用意するステップと、
前記めっき浴に、約0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度でアリールスルフィネートを加えるステップと、
前記めっき浴を用いた電気めっき処理を行うことにより、電解析出したのちに熱処理することなく、低保磁力と高飽和磁化とを有する前記磁性層を得るステップと
を含むことを特徴とする磁性層の製造方法。 - TMJ(トンネル磁気抵抗効果接合)を有する磁気読出ヘッドと磁気書込ヘッドとが完全一体化した磁気ヘッドの製造方法であって、
上部磁気シールド層を含むように前記磁気読出ヘッドを形成する工程と、
前記上部磁気シールド層の上方に、成膜したままの状態で2.4[T;テスラ]以上の飽和磁化と75/π[A/m]よりも小さい保磁力とを有する第1の磁性層を電気めっきにより形成する工程と、
前記第1の磁性層の上方に磁気コイルを形成する工程と、
前記第1の磁性層の上方に、成膜したままの状態で2.4[T;テスラ]以上の飽和磁化と75/π[A/m]よりも小さい保磁力とを有する第2の磁性層を電気めっきにより形成することにより、前記第1および第2の磁性層が、前記磁気コイルを挟み込むと共に、一端側において磁気的に互いに結合する一方、他端側において磁気的に互いに分離されるようにする工程と、
前記第2の磁性層の上方に別の磁気シールド層を形成する工程と
を含み、前記TMJを有する磁気読出ヘッドを熱処理にさらすことなく前記磁気書込ヘッドの形成を完了する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層および前記第2の磁性層を形成する工程は、
0g/l以上70g/l以下の濃度の硫酸ニッケル六水和物(NiSO4 ・6H2 O)と、25g/l以上120g/l以下の濃度の硫酸鉄七水和物(FeSO4 ・7H2 O)と、10g/l以上60g/l以下の濃度の硫酸コバルト六水和物(CoSO4 ・6H2 O)と、20g/l以上30g以下の濃度のホウ酸(H3 BO3 )と、0.5g/l以上30g/l以下の濃度の塩化ナトリウム(NaCl)と、0g/l以上0.15g/l以下の濃度の界面活性剤と、0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度のアリールスルフィネートとを含むめっき浴を用意するステップと、
めっき浴のpHを2以上3以下に調整するステップと、
ニッケルおよびコバルトよりなる群から選択された陽極を用意するステップと、
5mA/cm2 以上30mA/cm2 以下の順方向ピーク電流密度、10mA/cm2以下の逆方向ピーク電流密度、5ms以上100ms以下の順方向印加時間、30ms以下の逆方向出力時間、および10℃以上25℃以下のめっき浴温度、という条件の下で非対称交流電流を印加するステップと
を含むことを特徴とする請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層および前記第2の磁性層を、ルテニウムよりなるシード層の上に形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層および前記第2の磁性層を、0.3μm以上3μm以下の厚さに形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層および前記第2の磁性層を、塩化ナトリウム溶液中における腐食電位が−0.18Vであり、かつ−0.05V電位における陽極電流密度が10-5A/cm2 である、という高い耐食性を有するように形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 前記第1の磁性層および前記第2の磁性層を、250MPaよりも小さい内部応力を有するように形成する
ことを特徴とする請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法。 - 磁性層の電解析出に用いられるめっき浴であって、
0g/l以上70g/l以下の濃度の硫酸ニッケル六水和物(NiSO4 ・6H2 O)と、
25g/l以上120g/l以下の濃度の硫酸鉄七水和物(FeSO4 ・7H2 O)と、
10g/l以上60g/l以下の濃度の硫酸コバルト六水和物(CoSO4 ・6H2 O)と、
20g/l以上30g以下の濃度のホウ酸(H3 BO3 )と、
0.5g/l以上30g/l以下の濃度の塩化ナトリウム(NaCl)と、
0g/l以上0.15g/l以下の濃度の界面活性剤と、
0.05g/l以上0.3g/l以下の濃度のアリールスルフィネートと
を含有し、pHが2以上3以下である溶液と、
ニッケルおよびコバルトよりなる群から選択される陽極と
を含む
ことを特徴とするめっき浴。
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