JP2007294739A - パターン形状評価方法、プログラムおよび半導体装置の製造方法 - Google Patents
パターン形状評価方法、プログラムおよび半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】評価対象パターンPtaから検出された輪郭Etaと、基準パターンPr1から検出された輪郭Er1とを相対的に走査して輪郭を重畳し、得られた輪郭Enaから特徴量Sを算出して相対座標に対する特徴量Sを表す特徴量関数を導出し、この特徴量関数を予め設定された値Cと比較する。
【選択図】図8
Description
評価対象パターンの画像から前記評価対象パターンの輪郭を検出して第1の輪郭として出力する手順と、
基準パターンの画像から前記基準パターンの輪郭を検出して第2の輪郭として出力する手順と、
前記第1の輪郭と前記第2の輪郭とを相対的に走査して輪郭を重畳し、第3の輪郭として出力する手順と、
前記第3の輪郭から前記第3の輪郭の特徴を表す特徴量を算出し、前記相対的な走査における相対座標に対する前記特徴量を与える特徴量関数を導出する手順と、
前記特徴量関数を予め設定された値と比較することにより評価対象パターンの良否を判定する手順と、
を備えるパターン評価方法が提供される。
評価対象パターンのデータと基準パターンのデータからパターンマッチング用のテンプレートを作成する手順と、
前記評価対象パターンの画像から評価対象パターン輪郭を検出して第1の輪郭として出力する手順と、
前記基準パターンの画像から基準パターン輪郭を検出して第2の輪郭として出力する手順と、
前記テンプレートを介して前記第1の輪郭と前記第2の輪郭とのマッチングを実行して輪郭を重畳し、第3の輪郭として出力する手順と、
前記第3の輪郭から前記第3の輪郭の特徴を表す特徴量を算出する手順と、
前記特徴量を予め設定された値と比較することにより評価対象パターンの良否を判定する手順と、
を備えるパターン形状評価方法が提供される。
本実施形態では、多数の工程を経て複数のパターンを層状に重ね合わせて形成される半導体装置のパターンを評価する場合を具体例として取り上げて説明する。評価対象パターンは上記複数の層のうちの一層に存在する。本実施形態では基準パターンも上記複数の層のうちの一層に存在する。
本実施形態では、パターン評価のための特徴量の算出に先立って、パターンマッチングにより評価対象パターンと基準パターンとの相対的位置関係を確定させる場合について説明する。
上述したパターン形状評価方法の一連の手順は、コンピュータに実行させるプログラムに組み込み、フレキシブルディスクやCD−ROM等の記録媒体に収納してコンピュータに読込ませて実行させても良い。これにより、本発明にかかるパターン形状評価方法を汎用コンピュータを用いて実現することができる。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の携帯可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でも良い。また、上述したパターン形状評価方法の一連の手順を組込んだプログラムをインターネット等の通信回線(無線通信を含む)を介して頒布しても良い。さらに、上述したパターン形状評価方法の一連の手順を組込んだプログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布しても良い。
上述したパターン形状評価方法を半導体装置の製造工程に組み込むことにより、高い歩留まりで半導体装置を製造することができる。
Ena,Enb:新たなパターン輪郭
Er1,Er3:基準パターンの輪郭
Eta,Etb,Etc:評価対象パターンの輪郭
Pr1,Pr3:基準パターン
Pta,Ptb,Ptc:評価対象パターン
Claims (5)
- 評価対象パターンの画像から前記評価対象パターンの輪郭を検出して第1の輪郭として出力する手順と、
基準パターンの画像から前記基準パターンの輪郭を検出して第2の輪郭として出力する手順と、
前記第1の輪郭と前記第2の輪郭とを相対的に走査して輪郭を重畳し、第3の輪郭として出力する手順と、
前記第3の輪郭から前記第3の輪郭の特徴を表す特徴量を算出し、前記相対的な走査における相対座標に対する前記特徴量を与える特徴量関数を導出する手順と、
前記特徴量関数を予め設定された値と比較することにより評価対象パターンの良否を判定する手順と、
を備えるパターン評価方法。 - 評価対象パターンのデータと基準パターンのデータからパターンマッチング用のテンプレートを作成する手順と、
前記評価対象パターンの画像から評価対象パターン輪郭を検出して第1の輪郭として出力する手順と、
前記基準パターンの画像から基準パターン輪郭を検出して第2の輪郭として出力する手順と、
前記テンプレートを介して前記第1の輪郭と前記第2の輪郭とのマッチングを実行して輪郭を重畳し、第3の輪郭として出力する手順と、
前記第3の輪郭から前記第3の輪郭の特徴を表す特徴量を算出する手順と、
前記特徴量を予め設定された値と比較することにより評価対象パターンの良否を判定する手順と、
を備えるパターン形状評価方法。 - 前記評価対象パターンおよび前記基準パターンは、複数の層構造を有する製造物の互いに異なる層に形成され、
前記基準パターンは、前記評価対象パターンの上層または下層の一つまたは複数の層に跨って形成される、
ことを特徴とする請求項1または2に記載のパターン形状評価方法。 - 請求項1乃至3のいずれかに記載のパターン形状評価方法をコンピュータに実行させるプログラム。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載のパターン形状評価方法を備える半導体装置の製造方法。
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