JP2010034138A - パターン検査装置、パターン検査方法およびプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上下方向に互いに隣接する複数層にそれぞれ形成されたパターン同士の相対的位置関係に依存するプロセス上の危険度に応じて欠陥検出のための閾値を変える。
【選択図】図2
Description
基板上に積層された複数層のうち検査パターンが形成される検査対象層の設計情報と、前記基板の法線方向で前記検査対象層に隣接する2つの層のいずれか一層である隣接層の設計情報とを参照することにより、前記検査パターンの検査に用いる欠陥検出閾値を設定する検査閾値設定手段と、
前記検査対象層と前記隣接層とを含む画像の供給を受け、前記画像の輪郭を検出し、前記検査パターンの輪郭と前記隣接層のパターンの輪郭との乖離量を算出する乖離量算出手段と、
算出された乖離量と前記欠陥検出閾値とを比較することにより、前記検査パターンに欠陥であるかどうかを判定する欠陥判定手段と、
を備えるパターン検査装置が提供される。
基板上に積層された複数層のうち検査パターンが形成される検査対象層の設計情報と、前記基板の法線方向で前記検査対象層に隣接する2つの層のいずれか一層である隣接層の設計情報とを参照することにより、検査時の欠陥検出閾値を設定する検査閾値設定過程と、
前記検査対象層と前記隣接層とを含む画像の輪郭を検出し、前記検査パターンの輪郭と前記隣接層のパターンの輪郭との乖離量を算出する過程と、
算出された乖離量と前記欠陥検出閾値とを比較することにより、前記検査パターンに欠陥であるかどうかを判定する過程と、
を備えるパターン検査方法が提供される。
図1は、本発明にかかるパターン検査装置の実施の一形態の概略構成を示すブロック図である。同図に示すパターン検査装置1は、制御コンピュータ10と、入力装置30と、画像取得装置40と、表示装置50と、記憶装置MR1,MR3とを備える。
図2および図3は、本実施形態のパターン検査方法の処理過程の概略を示すフローチャートである。以下では、図4に示すように、下層の配線Wに接続されるビアコンタクトC1,C2を例に取り上げて説明する。なお、図4は、これら配線WおよびビアコンタクトC1,C2の設計デ−タ上の輪郭を表したものであり、同図の点線パターンを指示する符号Wdが配線Wの設計デ−タ上での輪郭を示し、実線パターンを指示する符号C1d,C2dがビアコンタクトC1,C2の設計デ−タ上での輪郭を表す。
L(p,q)≦Hの場合、T(p,q)=k×L(p,q)
L(p,q)>Hの場合、T(p,q)=H
ここで、kは1に近い値が望ましい。
上述した実施の形態においては、パターン検査方法の一連の処理過程を、レシピファイルとして記憶装置MR1に記憶させてパターン検査装置1の制御コンピュータ10に読み込ませて実行させた。しかしながら、上述したパターン検査方法の一連の処理過程は、これをプログラムに組み込んで汎用のコンピュータに読み込ませて実行させてもよい。これにより、本発明にかかるパターン検査方法を、画像処理可能な汎用コンピュータを用いて実現することができる。また、上述したパターン検査方法の一連の処理過程をコンピュータに実行させるプログラムとしてフレキシブルディスクやCD−ROM等の記録媒体に収納し、画像処理可能な汎用コンピュータに読み込ませて実行させても良い。
上述したパターン検査方法を、例えば半導体装置の製造工程中で用いることにより、高い精度および効率でパターンを検査することができるので、より高いスループットおよび歩留まりで半導体装置を製造することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記形態に限るものでは決して無く、その技術的範囲内において種々変更して適用できることは勿論である。
10:制御コンピュータ
12:検査制御部
14:検査設定部
16:検査閾値設定部
18:画像パターン輪郭検出・乖離量算出部
20:欠陥判定部
40:画像取得装置
MR1,MR3:記憶装置
Claims (5)
- 基板上に積層された複数層のうち検査パターンが形成される検査対象層の設計情報と、前記基板の法線方向で前記検査対象層に隣接する2つの層のいずれか一層である隣接層の設計情報とを参照することにより、前記検査パターンの検査に用いる欠陥検出閾値を設定する検査閾値設定手段と、
前記検査対象層と前記隣接層とを含む画像の供給を受け、前記画像の輪郭を検出し、前記検査パターンの輪郭と前記隣接層のパターンの輪郭との乖離量を算出する乖離量算出手段と、
算出された乖離量と前記欠陥検出閾値とを比較することにより、前記検査パターンに欠陥であるかどうかを判定する欠陥判定手段と、
を備えるパターン検査装置。 - 前記検査対象層はビアコンタクトの層であり、前記隣接層は配線の層であり、
前記検査閾値設定手段は、前記配線の短軸方向と長軸方向のそれぞれで互いに独立して前記欠陥検出閾値を設定することを特徴とする請求項1に記載のパターン検査装置。 - 前記ビアコンタクトは前記配線の終端部に接続するよう設計され、
前記検査閾値設定手段は、前記配線の長軸方向における前記欠陥検出閾値を、前記配線の終端から前記配線の外側へ向かう第1の方向と、前記配線の終端から前記配線の内側へ向かう第2の方向に分けて欠陥検出閾値を設定することを特徴とする請求項2に記載のパターン検査装置。 - 基板上に積層された複数層のうち検査パターンが形成される検査対象層の設計情報と、前記基板の法線方向で前記検査対象層に隣接する2つの層のいずれか一層である隣接層の設計情報とを参照することにより、検査時の欠陥検出閾値を設定する検査閾値設定過程と、
前記検査対象層と前記隣接層とを含む画像の輪郭を検出し、前記検査パターンの輪郭と前記隣接層のパターンの輪郭との乖離量を算出する過程と、
算出された乖離量と前記欠陥検出閾値とを比較することにより、前記検査パターンに欠陥であるかどうかを判定する過程と、
を備えるパターン検査方法。 - コンピュータに請求項4に記載のパターン検査方法を実行させるプログラム。
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