JP2007072173A - パターン検査装置、パターン検査方法、及びレチクル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】検査対象物の光学画像100を取得する光学画像取得部10と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データ202に基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターン100を比較する複数種類の特徴比較部31と、光学画像100の同一パターンの比較において、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部31の種類を選択する選択部4とを備えている、パターン検査装置。
【選択図】 図1
Description
(2)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターンの検査を効率よく行うことにある。
(3)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターンの検査時間を短縮することにある。
(4)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターン検査装置、パターン検査方法、又はレチクルを得ることになる。
(2)また、本発明は、検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得部と、該検査対象物のパターンの設計データから参照画像を作成する参照画像作成部と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像とを比較する複数種類の特徴比較部と、光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部の種類を選択する選択部とを備えている、パターン検査装置にある。
(3)また、本発明は、検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得工程と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターンを比較する複数種類の特徴比較工程と、光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較工程を選択する選択工程とを備えている、パターン検査方法にある。
(4)また、本発明は、検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得工程と、該検査対象物のパターンの設計データから参照画像を作成する参照画像作成工程と、検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像とを比較する複数種類の特徴比較工程と、光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較工程を選択する選択工程とを備えている、パターン検査方法にある。
(5)また、本発明は、レチクル上の異なる位置の同一パターンについて光学画像の共通比較によりパターン検査が行われ、更に、レチクル上の異なる位置の同一パターンについて、レチクルのパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像の複数種類の特徴比較によりパターン検査が行なわれた、レチクルにある。
(6)また、本発明は、レチクルの光学画像と参照画像の共通比較によりパターン検査が行われ、更に、レチクルのパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像の複数種類の特徴比較によりパターン検査が行なわれた、レチクルにある。
(2)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターンの検査を効率よく行うことができる。
(3)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターンの検査時間を短縮することができる。
(4)又は、本発明は、検査対象物のパターンの特徴に応じたパターン比較を選択することにより、パターン検査装置、パターン検査方法、又はレチクルを得ることができる。
パターン検査装置は、レチクルなどの検査対象物に形成されたパターンが所定の形状に形成されているか検査するものである。パターン検査装置は、光学画像取得部で検査対象物に描画されたパターンをスキャンして光学画像のデータを得て、次に、この検査対象物の異なる場所の同一パターンのデータを比較して、検査対象物のパターンが所定の形状に形成されているかを検査するものである(die−die検査)。検査対象物は、パターンを有するものであり、そのパターンを基板に形成するためのものであり、例えば、ウエハや液晶基板にパターンを形成するためのものである。
光学画像取得部10は、レチクル101の光学画像を取得する。検査対象試料となるレチクル101は、XYθテーブル102上に載置される。XYθテーブル102は、XYθ各軸のモータ151、152、150によって水平方向及び回転方向に移動制御される。このテーブル102は、テーブル制御部114からの指令で制御される。光源103からの光は、レチクル101に形成されたパターンに照射される。レチクル101を透過した光は、拡大光学系104を介して、フォトダイオードアレイ105に光学像として結像する。フォトダイオードアレイ105に取り込まれた画像は、センサ回路106で処理されて、参照画像と比較するための光学画像のデータとなる。
参照画像作成部20は、補正の対象となる参照画像を作成するものである。参照画像作成部20は、検査対象レチクルの設計データから光学画像に似せた画像である参照画像を作成する。参照画像作成部20は、設計データに対して種々の変換を行って参照画像を作成する。参照画像作成部20は、例えば図2では、展開部111と参照部112で構成することができる。展開部111は、レチクルの画像の設計データを磁気テープ装置115から中央演算処理部110を通して読み出し、イメージデータに変換する。参照部112は、展開部111からイメージデータを受け取り、図形の角を丸めたり、多少ボカしたりして、光学画像に似せる処理を行い、参照画像を作成する。
パターン検査方法は、レチクルのパターンの良否を検査する方法である。パターン検査方法は、例えば図4に示すように、レチクルに描画されたパターンから光学画像を取得し(光学画像取得工程)(S1)、レチクルの異なる場所の同一パターンのデータaとbの入力データを共通比較方法により比較する(共通比較工程)。この比較により、パターンの良否、欠陥の有無などを判定する(S3)。又は、レチクルに描画されたパターンから光学画像を取得し(S1)、更に、レチクルの設計データから参照画像を作成する(参照画像作成工程)(S2)。得られた光学画像と参照画像のデータ(aとbの入力データ)を共通比較方法で比較する(共通比較工程)。この比較により、パターンの良否、欠陥の有無などを判定する(S3)。この判定で欠陥が見つかった場合、このレチクルを不良品として判定する(S4)。
レチクルは、設計データを用いて描画装置により描画される。作成されたレチクルは、パターン検査装置により光学画像が検査される。その際、光学画像と参照画像を比較してパターン検査が行われる。この比較方法は、特徴データを考慮した特徴比較によって行うことにより、特徴データの重みが考慮された比較が行われる。その結果、より正確な画像を有するレチクルを得ることができる。光学画像と参照画像の比較において、更に、特徴比較と共通比較を組み合わせて比較しても良い。
レチクルの画像の特徴となるパターンは、図5(A)に示され、そのパターンに対応する特徴データは、図5(B)に示されている。図5(B)の特徴データは、数字(1〜4)によりパターンの特徴を示している。特徴データは、数字の他に、文字や記号などパターンを識別できるものであればどのようなものでも良い。図5で示されたパターンの特徴データ1は、通常の比較方法である、共通比較方法を指示す指示部位である。特徴データ2は、共通比較方法とパターン線幅を詳細に比較する特徴比較方法とを指示する指示部位である。特徴データ3は、共通比較方法と隣接パターンの相対位置を詳細に比較する特徴比較方法とを指示する指示部位である。特徴データ4は、共通比較方法とエッジラフネスを詳細に比較する特徴比較方法とを指示する指示部位である。
図9には、図9(A)にホールの特定のパターンと、そのパターンに対応する特徴データ5が図9(B)に示されている。特徴データ5は、共通比較方法と、パターン透過光量を詳細に比較する特徴比較方法を指示する指示部位である。特徴データ5のパターン透過光量の比較は、図10のように行われる。図10(A)のホールの画素値の分布において、図10(B)の枠内の数値の総和を求めて、比較する。このように、パターンのホールの透過光量を求めて、比較することにより、より正確なホールパターンの比較が可能になる。以上、幾つかのパターンについて、その特徴比較方法を示してあるが、これらのパターンは一実施の形態であり、任意のパターンについて、本発明を適用できる。
10・・光学画像取得部
100・光学画像
101・レチクル
102・XYθテーブル
103・光源
104・拡大光学系
105・フォトダイオードアレイ
106・センサ回路
107・位置測定部
108・比較部
11・・データ処理装置
110・中央演算処理部
111・展開部
112・参照部
140・データベース
20・・参照画像作成部
200・参照画像
201・設計データ
202・特徴データ
3・・・共通比較部
31・・特徴比較部
4・・・比較手段選択部
5・・・ストライプ
Claims (12)
- 検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得部と、
検査対象物の光学画像のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターンを比較する複数種類の特徴比較部と、
光学画像の同一パターンの比較において、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部の種類を選択する選択部と、を備えている、パターン検査装置。 - 請求項1に記載のパターン検査装置において、
すべてのパターンに共通の比較手段で、検査対象物上の異なる位置の同一のパターンを比較する共通比較部を備えている、パターン検査装置。 - 検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得部と、
該検査対象物のパターンの設計データから参照画像を作成する参照画像作成部と、
検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像とを比較する複数種類の特徴比較部と、
光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較部の種類を選択する選択部と、を備えている、パターン検査装置。 - 請求項3に記載のパターン検査装置において、
すべてのパターンに共通の比較手段で光学画像と参照画像とを比較する共通比較部を備えている、パターン検査装置。 - 請求項1〜4のいずれかに記載のパターン検査装置において、
特徴比較部は、パターンの線幅、パターンの透過光量、パターンのエッジの粗さ、又は、パターンの周辺の相対位置を比較する、パターン検査装置。 - 検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得工程と、
検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、検査対象物上の異なる位置の同一パターンを比較する複数種類の特徴比較工程と、
光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較工程を選択する選択工程と、を備えている、パターン検査方法。 - 請求項6に記載のパターン検査方法において、
すべてのパターンに共通の比較手段で、検査対象物上の異なる位置の同一のパターンを比較する共通比較工程を備えている、パターン検査方法。 - 検査対象物の光学画像を取得する光学画像取得工程と、
該検査対象物のパターンの設計データから参照画像を作成する参照画像作成工程と、
検査対象物のパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像とを比較する複数種類の特徴比較工程と、
光学画像と参照画像を比較する場合、検査対象のパターンの特徴データから特徴比較工程を選択する選択工程と、を備えている、パターン検査方法。 - 請求項8に記載のパターン検査方法において、
すべてのパターンに共通に光学画像と参照画像とを比較する共通比較工程を備えている、パターン検査方法。 - 請求項6〜9のいずれかに記載のパターン検査方法において、
特徴比較工程は、パターンの線幅、パターンの透過光量、パターンのエッジの粗さ、又は、パターンの周辺の相対位置を比較する、パターン検査方法。 - レチクル上の異なる位置の同一パターンについて光学画像の共通比較によりパターン検査が行われ、更に、レチクル上の異なる位置の同一パターンについて、レチクルのパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像の複数種類の特徴比較によりパターン検査が行なわれた、レチクル。
- レチクルの光学画像と参照画像の共通比較によりパターン検査が行われ、更に、レチクルのパターンの特徴を示す特徴データに基づいて、光学画像と参照画像の複数種類の特徴比較によりパターン検査が行なわれた、レチクル。
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